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一．簡介

??兆聲清洗是運用在半導體清洗設備中的一種比較新穎清洗技術，它不僅保存了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了它的不足，它是由高頻（900khz 可根據(jù)實際使用來定）振效應并結合化學清洗劑的化學反應對硅片進行清洗的。在清洗時，由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，最大瞬時速度可達到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細小微粒被強制除去并進入到清洗液中。

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二．作用

兆聲波清洗可去掉硅片表面上小于0.2μm的粒子,起到超聲波起不到的作用。這種方法能同時起到機械擦片和化學清洗兩種方法的作用。目前兆聲波清洗方法已成為拋光片清洗的一種有效方法。

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三．結構

兆聲波清洗的結構主要可以分為放著清洗晶片的石英槽體、保證在清洗過程溫度穩(wěn)定的溢流外槽、產(chǎn)生兆聲波的兆聲振盒及其發(fā)生器、保證清洗槽體內(nèi)溫度的在線加熱和根據(jù)設備使用中是否需要的自動供酸系統(tǒng)，是否有其他結構可根據(jù)實際使用來進行添加。

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四．使用原理

??兆聲波清洗機是用在硅片清洗中的一種清洗技術，使用時首先要把清洗槽體和在線加熱內(nèi)注入適當?shù)那逑吹囊后w，注入的的方法可根據(jù)廠方的注液方式分為手動上液和自動上液，上液完成之后打開在線加熱，使溫度達到使用溫度，溫度達到時要打開下部溢流槽的溢流閥門，溢流閥門的流量可使用溢流上水管路上面的手閥來調(diào)節(jié)流量的大小，在溢流槽達到使用的液位要求時，就可以打開兆聲開關，然后把要清洗的硅片放入石英槽體內(nèi)，清洗的時間根據(jù)不同的硅片和不同的工藝來決定，以上的預清洗過程正常都可以使用自動程序實現(xiàn)完成。

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本文關鍵詞：兆聲清洗機; 兆聲清洗; 半導體清洗設備; 溢流槽 石英槽?

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