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濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術的不斷發(fā)展,濕法設備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術系統(tǒng)潔凈性技術均勻性技術晶圓片N2干燥技術模塊化系統(tǒng)集成技術自動傳輸及精確控制技術溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術主要技術特點系統(tǒng)結構緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設備制造商華林科納(江蘇)半導體設備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(126xa.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導體行業(yè)相關清洗設備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉式噴鍍臺結合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉噴鍍技術傾斜式旋轉噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉噴鍍結構示意圖如下:從鍍制結構方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結構方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結構方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉噴鍍技術、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結構本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結構,鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結構,可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結構的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結構上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結構簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應用,產(chǎn)品已通過技術定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統(tǒng)設計, 高穩(wěn)定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結構,占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注華林科納(江蘇)半導體官網(wǎng),關注http://126xa.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J健⒆詣涌刂颇J?#160;設備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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華林科納CSE工程師為您解答:電鍍相關基礎知識問題

時間: 2016-07-23
點擊次數(shù): 281

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1.鹽酸有何特征?

答:純凈的鹽酸是無色透明的液體,一般因含有雜質三氯化鐵而呈黃色。常用濃鹽酸中約含37%的氯化氫。鹽酸易揮發(fā),是一種強酸。在電鍍生產(chǎn)中廣泛使用鹽酸作為浸蝕劑。

2.硫酸有和特征?

答:濃度為96%的硫酸溶液,比重為1.84。濃硫酸具有吸水性,吸水過程中放出大量的熱量。在電鍍生產(chǎn)中廣泛使用硫酸作為浸蝕劑,由于其揮發(fā)性低,所以可利用加熱提高浸蝕速度。

3.硝酸有何特征?

答:硝酸是一種氧化型的強酸,在見光受熱時分解放出氧而使別的物質氧化,所以硝酸應盛在棕色瓶內(nèi),電鍍生產(chǎn)中廣泛使用權有作為浸蝕劑。

4.現(xiàn)有濃鹽酸、濃硝酸、濃硫酸各一壇,能憑目測將它們分辨出來嗎?

答:冒白霧的是鹽酸,冒黃煙的是硝酸,無煙霧的是硫酸。

5.如何區(qū)別碳酸鈉,片堿(NaOH)?

答:碳酸鈉又名純堿,又稱弱堿,是白色粉末,水溶液呈堿性,電鍍中配制去油溶液。

片堿,化學名氫氧化鈉,是強堿,又稱燒堿,是白色固體或片狀體。與水溶解后放出熱量,易灼燒皮膚,電鍍中用堿性鍍槽、發(fā)黑、去油等用處。

6.什么叫溶液、溶劑與溶質?

答:一種或數(shù)種物質分散到另一種液體物質里形成的均勻、穩(wěn)定液體叫溶液。能夠溶解其它物質的液體叫溶劑,被溶劑溶解的物質叫溶質。

7.什么叫溶解與溶解度

答:溶質在溶劑作用下,以分子狀態(tài)不斷地擴散到溶劑分子間去的過程叫做溶解。在一定溫度和壓力下,某溶質在100克溶劑里達到飽和所溶解的克數(shù),叫做該溶質在這種溶劑里的溶解度。

8.什么叫溶液濃度?

答:一定量溶液里所含溶質的量叫做溶液的濃度。溶液濃度的表示方法主要有比例濃度、重量百分濃度、克/升濃度、摩爾濃度與當量濃度等。

9.什么叫比例濃度?

答:以溶質與溶劑的重量或體積之比來表示的濃度叫比例濃度。一般比例濃度中均標明是重量比或是體積比,若不標明,則固體按重量計,液體按體積計。如配制1:1的 鹽酸溶液,將1體積的濃鹽酸與1體積的水混合即得;又如配制1:5000的高錳酸鉀溶液,將1克高錳酸鉀溶于5000毫升水中即得。

10.什么叫重量百分濃度?

答:用100克溶液中所含溶質的克數(shù)來表示的濃度叫重量百分濃度。

11.什么叫克/升濃度?

答:以每升溶液中所含溶質的克數(shù)來表示的濃度叫克/升濃度。電鍍生產(chǎn)中廣泛運用克/升濃度

12.什么叫摩爾濃度?

答:通常所說的摩爾濃度是指體積摩爾濃度,即以每升溶液中所含溶質的摩爾數(shù)來表示的濃度,常用符號M表示:

13.什么叫當量濃度?

答:用每升溶液中所含溶質的克當量數(shù)來表示的濃度叫當量濃度,常用符號N表示。?

14.什么叫有機化合物?

答:由碳元素和氫元素組成的化合物及其衍生物總稱為有機化合物,簡稱有機物。

15.有機化合物與無機化合物的性質有哪些不同?

答:有機化合物與無機化合物在某些性質方面的不同見下表:

性質 有機化合物 無機化合物

可燃性 大多數(shù)可以燃燒,受熱易分解 一般都能耐熱,不易燃燒

熔點 大多數(shù)熔點低,一般在300℃以下一般不易熔化

可溶性 易溶于有機溶劑,難溶于水 不溶于有機溶劑,易溶于水

導電性 溶液或熔化時均不導電 一般溶液或熔化時可導電

化學反應 以分子形式參加反應且很慢 以離子形式參加且反應激烈

結合形式 以共價鍵結合 以離子鍵結合

16.什么叫烴?它主要分哪幾種?

答:分子中只含有碳原子和氫原子的有機物叫做烴。烴按其結構可分為開鏈烴和閉鏈烴(簡稱環(huán)烴)。開鏈烴可分為烷烴、炔烴和烯烴三種,閉鏈烴又可分為脂環(huán)烴和芳香烴。

17.烷烴、烯烴、炔烴分子式的組成各有什么規(guī)律?它們的通式是什么?

答:烷烴分子中含氫原子個數(shù)等于碳原子個數(shù)的2倍加2個;烯烴分子中氫原子個數(shù)等于碳原子個數(shù)的2倍;炔烴分子中氫原子個數(shù)等于碳原子個數(shù)的2倍減去2個。若以n表示烴分子中碳原子個數(shù),則烷烴分子式的通式應該是CnH2n+2,烯烴分子式的通式是CnH2n,炔烴分子式的通式是CnH2n-2.

18.什么叫烴的衍生物?

答:烴分子中一個或幾個氫原子被其它原子或原子團所取代的產(chǎn)物叫做烴的衍生物,如1,4-丁炔二醇(C4H6O2)、十二烷基硫酸鈉(C12H25NaSO4)等。

19.有機物在電鍍生產(chǎn)中有哪些用途?

答:有機物在電鍍生產(chǎn)中應用較廣,是電鍍生產(chǎn)中不可缺少的重要原料之一。它主要可用作絡合劑(如EDTA、HEDP等)、添加劑(如糖精、DE、DPE、香豆素、1,4-丁炔二醇、香藍素、洋茉莉醛、十二烷基硫酸鈉、OP乳化劑、海鷗洗滌劑等)、防蝕劑(如烏洛托品、硫脲、甘油等)、溶劑(如乙醇、乙醚、汽油、煤油等)。

物理化學與電化學

20.什么叫表面張力?

答:在液氣兩相的界面上,液體分子所受液體內(nèi)部分子的引力大于氣體分子對它的引力,由此造成的使液體表面縮小的力叫表面張力。表面張力的大小與溶液的性質、溫度、濃度等因素有關。

21.什么是表面活性劑?表面活性劑有哪些類型?

答:能顯著改變液體表面張力或兩相之間的界面張力的物質叫表面活性劑(有時稱界面活性劑)。

表面活性劑有陰離子型的,如肥皂、十二烷基硫酸鈉、十二烷基磺酸鈉等;有陽離子型的,如脂肪族胺鹽、烷基季胺鹽、烷基嘧啶鹵代物等;有兩性表面活性劑,如羚酸型、磺酸脂型等;有非離子型表面活性劑,如OP乳化劑、平平加、海鷗洗滌劑、氟碳類等。

22.表面活性劑的組成與性質如何?

答:表面活性劑的分子是由親油性基團和親水性基團兩部分組成。表面活性劑有乳化作用、泡沫作用增溶作用,并能改變固液兩相接觸時的潤濕性能。

23.表面活性劑在電鍍生產(chǎn)中的用途有哪些?

答:表面活性劑在電鍍中主要用來除油、提高陰極極化作用和改善溶液分散能力。例如,兩性表面活性劑(如環(huán)氧系列)能明顯提高陰極極化作用。

24.怎樣選用表面活性劑?

答:在弱酸性、弱堿性或中性介質中,一般選用陰離子型或非離子型(如十二烷基硫酸鈉、十二烷基磺酸鈉、OT、OP等);在強酸性介質中一般選用非離子型(如聚乙二醇等);為提高陰極極化作用,宜選用具有兩性的表面活性劑,且分子量不宜過大(一般碳原子數(shù)為4—8較理想),活性基團宜多不宜少。


更多的晶圓電鍍相關資訊可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的晶圓電鍍解決方案。

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