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濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為L(zhǎng)ED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測(cè)試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡(jiǎn)便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(126xa.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽(yáng)極和電力線擋板組成的陽(yáng)極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢(shì)。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場(chǎng)不均問(wèn)題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來(lái)的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢(shì)斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場(chǎng)環(huán)境。通過(guò)進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場(chǎng)。從而通過(guò)改變流場(chǎng)的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過(guò)技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50片.l 可對(duì)旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過(guò)20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無(wú)刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過(guò)濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測(cè)保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開(kāi)關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂(lè)故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長(zhǎng):?jiǎn)纹角逑囱b置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對(duì)應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問(wèn)題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開(kāi)關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽(yáng)能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://126xa.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開(kāi)關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
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LED濕法清洗設(shè)備

時(shí)間: 2021-04-08
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LED濕法清洗設(shè)備

LED濕法清洗設(shè)備

主要由供液機(jī)柜、供液源、輸送單元、輸送管路、電氣控制、排風(fēng)裝置、漏液檢測(cè)等部分組成

供液機(jī)柜:

供液機(jī)柜通常由耐腐蝕的PP(聚丙烯)材料焊接而成,機(jī)柜上設(shè)有進(jìn)風(fēng)口及排風(fēng)裝置。排風(fēng)裝置除將酸、堿腐蝕氣體及時(shí)排出供液機(jī)柜外,還可以降低機(jī)柜內(nèi)揮發(fā)出的有機(jī)溶劑濃度,避免發(fā)生燃燒和爆炸。同時(shí)排風(fēng)口裝有風(fēng)壓檢測(cè)傳感器,當(dāng)廠務(wù)端排風(fēng)出現(xiàn)故障時(shí),發(fā)出警報(bào),以利維護(hù)人員及時(shí)處理。在供液機(jī)柜內(nèi)一般設(shè)計(jì)有滾輪機(jī)構(gòu),方便更換供液桶。機(jī)柜內(nèi)設(shè)有水槍,用于腐蝕液的沖洗。腐蝕區(qū)與供液泵、控制系統(tǒng)之間物理隔離,以避免電子元器件及金屬零件等被腐蝕。

供液源:

LED工藝線上供液源采用容積為20L的供液桶,供液桶為標(biāo)準(zhǔn)尺寸的耐腐蝕塑料桶,通常一種化學(xué)液配備兩只供液桶,兩只供液桶一用一備,交替進(jìn)行工作,實(shí)現(xiàn)不間斷供液。

輸送系統(tǒng):

化學(xué)液輸送方式分泵浦輸送和惰性氣體輸送。泵浦輸送是利用泵的壓力做動(dòng)力來(lái)輸送化學(xué)液,其特點(diǎn)是:化學(xué)液可進(jìn)行過(guò)濾處理,輸送產(chǎn)生脈動(dòng)較大,適用于長(zhǎng)距離輸送。惰性氣體輸送是利用氣體的壓力做動(dòng)力來(lái)輸送化學(xué)液。惰性氣體一般采用高純氮?dú)狻T摲绞降奶攸c(diǎn)是:不易和化學(xué)液反應(yīng),輸出流量小,需要壓力操作容器,結(jié)構(gòu)復(fù)雜,易產(chǎn)生故障。CDS較多采用泵浦輸送方式。輸送系統(tǒng)包括供液泵、過(guò)濾器、流量計(jì)等。由于氣動(dòng)隔膜泵或氣動(dòng)風(fēng)囊泵采用壓縮空氣為動(dòng)力源,它的剪切力低、流量大、楊程高、工作中不產(chǎn)生火花、不產(chǎn)生熱量。因此作為供液泵,用來(lái)輸送各種腐蝕性液體,帶顆粒的液體,高黏度、易揮發(fā)、易燃、劇毒的液體。根據(jù)輸送的化學(xué)液特性的不同,可選用PP、PVDF、PTFE、不銹鋼等不同材質(zhì)的氣動(dòng)泵。為減小氣動(dòng)泵引起的化學(xué)液脈動(dòng),可加入泵緩沖器。對(duì)化學(xué)液有較高潔凈度要求時(shí),可在CDS中加入循環(huán)系統(tǒng)和過(guò)濾器,根據(jù)化學(xué)液的特性及工藝要求,選擇相應(yīng)材質(zhì)的過(guò)濾器。

輸送管道:

輸送管道包括閥門及管件。由于PFA材料的雜質(zhì)析出量極少和優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性,且可以通過(guò)焊接或擴(kuò)管實(shí)現(xiàn)連接。因此,CDS中較多采用PFA材質(zhì)的氣動(dòng)隔膜閥和管件。管件的選用,主要考慮防腐性和輸送安全性問(wèn)題,供液管道一般采用雙套管輸送,鋪設(shè)管道時(shí)應(yīng)使其有一定傾斜角度,以利漏液檢查和偵測(cè)。當(dāng)化學(xué)液在內(nèi)管道輸送,如果內(nèi)管泄漏,化學(xué)液就會(huì)順著內(nèi)外管之間的空隙流到供液柜,泄漏檢測(cè)傳感器測(cè)到后發(fā)出報(bào)警以便及時(shí)處理,防止安全事故的發(fā)生。酸、堿化學(xué)液的供液管道內(nèi)管為PFA材質(zhì),外管為透明PVC材料或PFA材料。有機(jī)溶劑等閃點(diǎn)低、易燃、易爆品的供液管道,內(nèi)管為SUS316材質(zhì),外管為PFA材料。為了增加系統(tǒng)的可靠性,應(yīng)減少管道的長(zhǎng)度和管接頭的數(shù)量。

電氣控制系統(tǒng):

CDSPLC進(jìn)行控制。運(yùn)行方式分自動(dòng)運(yùn)行和手動(dòng)運(yùn)行兩種模式,自動(dòng)模式下,當(dāng)CDS接收到濕法設(shè)備發(fā)出的供液請(qǐng)求信號(hào)后,自動(dòng)運(yùn)行供液程序,完成配、補(bǔ)液操作。手動(dòng)模式下可進(jìn)行單步的手動(dòng)操作。系統(tǒng)具有漏液偵測(cè)應(yīng)急處理、系統(tǒng)故障自診斷、條形碼識(shí)別更換供液桶和化學(xué)液用量統(tǒng)計(jì)功能。對(duì)于易燃化學(xué)品,應(yīng)配備自動(dòng)滅火系統(tǒng)。

CDS工作原理:

LED濕法清洗設(shè)備

CDS供液有單桶單泵供液、雙桶單泵供液和雙桶雙泵供液3種方式。單桶單泵供液系統(tǒng)最簡(jiǎn)單,但可靠性較差,間斷供液,換液頻繁。其余兩種供液桶采用一用一備工作方式,當(dāng)一個(gè)供液桶打空后,系統(tǒng)自動(dòng)切換到另一供液桶,實(shí)現(xiàn)不間斷供液。有較高要求時(shí),在系統(tǒng)中可加裝過(guò)濾器和自循環(huán)管路,使原液達(dá)到過(guò)濾和攪拌目的。流量傳感器的作用是控制供液量,提高供液精度。

CDS精確配、補(bǔ)液實(shí)現(xiàn)方法:

兩種或兩種以上溶液按嚴(yán)格配比組成的混合液,要求CDS實(shí)現(xiàn)各組份的精確添加,這是保證產(chǎn)品質(zhì)量的前提。同時(shí),在產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程中,有些化學(xué)液消耗過(guò)大,需要少量的補(bǔ)充。如何實(shí)現(xiàn)精確配、補(bǔ)液,各設(shè)備制造商采用的方法也不盡相同,圖3是一種常用的配、補(bǔ)液原理示意圖。

LED濕法清洗設(shè)備

這種方式是為每種化學(xué)液在濕法清洗設(shè)備主機(jī)上配置計(jì)量槽,計(jì)量槽上設(shè)有液位傳感器,通過(guò)檢測(cè)計(jì)量槽液位,控制閥門的關(guān)閉,以實(shí)現(xiàn)配補(bǔ)液。傳感器的測(cè)量精度,計(jì)量桶橫截面尺寸,閥門關(guān)閉反應(yīng)速度輸送管道內(nèi)殘液的多少等均是影響配補(bǔ)液精度的重要因素。這種方式的特點(diǎn)是系統(tǒng)組成較復(fù)雜,配補(bǔ)液精度低,不適用于任意比例配液要求。為此,我們采用以下方案進(jìn)行控制,見(jiàn)圖4原理示意圖。

LED濕法清洗設(shè)備

這種方式用流量傳感器取代計(jì)量桶,流量計(jì)具有批量處理和在線校正功能,供液量在流量計(jì)量程范圍內(nèi)可任意設(shè)置,當(dāng)供液達(dá)到設(shè)定值,PLC接到流量計(jì)反饋信號(hào)后,自動(dòng)關(guān)閉閥門。閥門關(guān)閉速度和輸送管道內(nèi)殘液對(duì)供液精度的影響可通過(guò)在流量計(jì)線校正功能予與消除。該方式特點(diǎn):配補(bǔ)液精度高,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,可實(shí)現(xiàn)化學(xué)液任意配比要求。

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