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始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術的不斷發(fā)展,濕法設備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術系統(tǒng)潔凈性技術均勻性技術晶圓片N2干燥技術模塊化系統(tǒng)集成技術自動傳輸及精確控制技術溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術主要技術特點系統(tǒng)結構緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設備制造商華林科納(江蘇)半導體設備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(126xa.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導體行業(yè)相關清洗設備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉式噴鍍臺結合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉噴鍍技術傾斜式旋轉噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉噴鍍結構示意圖如下:從鍍制結構方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結構方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結構方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉噴鍍技術、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結構本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結構,鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結構,可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結構的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結構上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結構簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應用,產(chǎn)品已通過技術定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統(tǒng)設計, 高穩(wěn)定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結構,占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注華林科納(江蘇)半導體官網(wǎng),關注http://126xa.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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各種顯示技術對比

時間: 2016-03-23
點擊次數(shù): 148

??????? 近年來顯示技術發(fā)展很快,平板顯示器以其完全不同的顯示和制造技術使之同傳統(tǒng)的視頻圖像顯示器有很大的差別。傳統(tǒng)的視頻圖像顯示器主要為陰極射線管CRT (Cathode ray tubes) ;而平板顯示器與之的主要區(qū)別在于重量和體積(厚度) 方面的變化,通常平板顯示器的厚度不超過10cm (4in) ,當然還有其他的不同,如顯示原理、制造材料、工藝以及視頻圖像顯示驅動方面的各項技術等。
?????? 平板顯示器具有完全平面化、輕、薄、省電等特點,符合未來圖像顯示器發(fā)展的必然趨勢。目前主要的平板顯示器包括: PDP ( Plasma display panel)、LCD( Liquid crystal displays) 、FED( Field emission displays)、 OLED ( Organic light-emitting diode displays ) 以及投影顯示技術(CRT、LCD、LCOS、DLP)等 。


時代先鋒-----LCD-TV
?????? LCD 器件是眾多平板顯示器件中發(fā)展最快、技術最成熟、應用面最廣、已經(jīng)產(chǎn)業(yè)化并仍在迅猛發(fā)展的一種顯示器件,隨著半導體技術的不斷發(fā)展,人們已成功地將半導體技術與LCD 技術結合在一起,從而產(chǎn)生了LCD 的一個新興產(chǎn)業(yè)TFT-LCD。由于LCD 具有超薄、省電、顯示畫質好(即三高:高亮度、高對比度、高分辨率) 的優(yōu)點;大小皆宜的尺寸,從而使液晶顯示器得到了廣泛的應用。不論是以數(shù)量計還是以使用種類計,液晶顯示技術都遠遠地領先于包括CRT 在內(nèi)的其他顯示技術。
?????? LCDTV采用液晶屏和大規(guī)模集成電路相配接, 因此它具有以下的特點:
????? ?(1) 體積小、重量輕, 因而可以做成便攜式和壁掛式, 甚至做到手表上。
????? ?(2) 功耗小: 液晶屏的驅動電壓低、 耗電小。
????? ?(3) 失真小: 由于LCDTV采用行列電極加信號顯示, 故不存在因電子束偏轉所產(chǎn)生的幾何失真和三基色失聚問題。
????? ?(4) 被動顯示型。
????? ?(5) 無輻射、無污染。


一、 液晶顯示原理

????? ?液晶顯示器(LCD)又稱液晶屏, 其工作原理是以液晶電光效應為基礎的。 液晶是一種特殊的有機化合物, 其特性介于液體和晶體之間, 既具有液體的流動性, 又具有晶體的光學、 電學等特性。 LCD的結構如圖1所示, 其內(nèi)有兩塊相距10~15 μm的玻璃基板, 內(nèi)表面有一薄層透明電極, 基板間充滿了10 μm厚的扭曲向列(TN)型的液晶材料, 它在外加電場作用下會產(chǎn)生上下扭曲(90°)、色散和反射等光學效應。??
????? ?基板外表面有上下兩塊偏振片, 入射光側的偏振片為起偏器, 出射光側的為檢偏器。在施加電場的作用下, 當施加的電場高于液晶特性的閾值時, 液晶分子軸平行于電場方向排列, 入射光的偏振光軸很少扭曲, 通過檢偏器的光通量就增加了, 如果電場比閾值大到了飽和值時 , 入射光與呈垂直狀偏振光軸同向, 幾乎不受液晶的影響而穿過檢偏器, 這時液晶呈透明狀態(tài)。
???????LCD內(nèi)上下透明電極作成矩陣狀, 將橫豎電極交叉處對應的液晶看成一個像素, 其中裝于檢偏器一側的X電極(行電極)為掃描電極, 其上加掃描電壓 裝于起偏器一側的Y電極(列電極)為信號電極, 其上加信號電壓, 這樣每個像素等效為一個電阻和一個電容的并聯(lián)電路, 所有液晶像素就等效為立體電路, 如圖2所示。改變外加電壓大小, 可以控制LCD的明暗程度, 得到黑白圖像。
?????? 彩色液晶屏的結構是通過一系列特殊工藝將紅、綠、藍R、G、B三種色素以某種排列方法沉積在玻璃基板內(nèi)形成濾色片, 相對某一像素都要形成紅、 綠、 藍三色點, 三基色只需一套信號電極驅動, 但彩色LCD的像素是單色屏的三倍。 在驅動電路作用下, 各像素分別發(fā)出三色光, 通過空間混色而實現(xiàn)彩色圖像顯示。
?????? 為了使液晶的電光效應響應速度快一些,目前一般采用有源矩陣驅動方式, 即在每個像素位置上, 按照集成工藝, 形成一個非線性開關元件--非晶硅薄膜晶體三極管(a-sitft), 使各像素的尋址完全獨立, 從而消除交叉串擾, 彩色LCD的電路框圖如圖。


大屏幕的領先者------PDP-TV

?????? 等離子體顯示屏PDP基本上是由一個包含紅、綠、藍熒光粉的介質放電單元組成的介質網(wǎng)絡,它被固定在兩片薄玻璃基板之間。然后充以惰性氣體密封后制成。在PDP屏的上下基板施加電脈沖來激勵惰性氣體使之放電,產(chǎn)生等離子體并發(fā)射紫外線,紫外線激勵熒光粉而發(fā)光,由于PDP所有的像素都是同時被激發(fā)放電因此不會產(chǎn)生閃爍。
?????? PDP分為交流和直流型兩種類型,AC-PDP占主導地位。PDP優(yōu)點:
????? ?1.亮度均勻,不受磁場影響,環(huán)境適應能力強。
????? ?2.工藝簡單,適宜大批量生產(chǎn)。
???????3.具有記憶特性,圖像效果好。
????? ?4.色彩還原性好。
????? ?5.視角大。


OLED
????? ?與LCD相比,OLED 的溫度特性、發(fā)光效率、功耗、發(fā)光顏色、響應時間和視角特性均超過了TFT-LCD。因此,OLED 被認為是LCD最強有力的競爭者,并將在未來的3~5 年內(nèi)成為一種重要的顯示器。


一、 OLED 的顯示原理和器件結構

???? ?OLED 基本顯示單位由金屬陰極、透明陽極和有機薄膜組成,如圖1 所示??梢钥吹接袡C薄膜層是夾在金屬陰極、透明陽極之間的,像一個三明治;中間的有機薄膜又分為電子傳輸層、有機發(fā)射層和空穴注入層(有時又分為空穴注入層和空穴傳輸層) 。當電場施加到OLED 基本顯示單位的兩極上,電子和空穴在有機發(fā)射層相結合產(chǎn)生出光,這一過程是電致發(fā)光的過程。所以OLED同LCD的顯示機理是完全不同的,不需要外部光源的支持。
????? ?OLED的有機薄膜很薄,僅僅為500 nm ,而且其可以觀察的視角很寬,達到160°以上,同時電場的電壓也低,僅為2~10V。


二、OLED主要性能特點
????? ?1.亮度高,目前OLED的發(fā)光亮度已可以超過100 000 cd/ m2。
????? ?2.對比度大
????? ?3.色彩效果好
????? ?4.環(huán)境適應性強,可以適應巨大的加速度、振動等惡劣環(huán)境。
????? ?5.視角大。
????? ?6. 響應速度快,可以實現(xiàn)高速度的視頻重放。
????? ?7.功耗小。
????? ?8.分辨率高
????? ?9.基板要求

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