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發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為L(zhǎng)ED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測(cè)試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡(jiǎn)便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(126xa.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢(shì)。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場(chǎng)不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢(shì)斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場(chǎng)環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場(chǎng)。從而通過改變流場(chǎng)的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50片.l 可對(duì)旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測(cè)保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長(zhǎng):?jiǎn)纹角逑囱b置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對(duì)應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://126xa.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
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鈦種植體陽極氧化的分析--華林科納CSE

時(shí)間: 2021-09-16
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純鈦及鈦合金的表面改性一直是研究的熱點(diǎn)。鈦表面陽極氧化技術(shù)因其操作簡(jiǎn)單、臨床效果顯著,成為鈦表面改性的常用方法之一。目前研究多集中于通過鈦表面陽極氧化以提高種植體-骨結(jié)合性能,增強(qiáng)抗菌性,種植修復(fù)體周圍形成良好的軟組織封閉,或與其他表面改性方法結(jié)合以提高鈦生物活性等方面。微弧氧化是在陽極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來,可明顯提高鈦表面生物活性。本文對(duì)鈦表面陽極氧化參數(shù)及其在口腔種植中的應(yīng)用進(jìn)行分析。

1.鈦的特性

鈦為銀灰色金屬,因其在空氣中易被氧化形成1.8~17nm的氧化膜,具有良好的生物相容性及抗腐蝕性而廣泛應(yīng)用于口腔種植中。鈦表面化學(xué)元素組成、形貌、表面能均影響其生物相容性和活性。學(xué)者們一直致力于對(duì)鈦表面改性以提高其生物學(xué)性能,常用的方法包括:酸蝕處理法、陽極氧化法、噴砂法、羥基磷灰石涂層法等。20世紀(jì)30年代出現(xiàn)的鈦表面陽極氧化技術(shù)操作簡(jiǎn)單、成本較低、臨床效果明顯,成為常用的改性方法。微弧氧化因能明顯提高鈦表面的生物學(xué)性能而被廣泛應(yīng)用。

2.陽極氧化影響因素

2.1電壓

電壓是影響傳統(tǒng)陽極氧化及微弧氧化的指標(biāo)之一。傳統(tǒng)陽極氧化階段,隨電壓升高氧化膜厚度隨之增加,且氧化膜厚度與電壓成線性關(guān)系,增長(zhǎng)速度為1.4~2.78nm/V。此氧化膜為透明膜,可發(fā)生光的干涉現(xiàn)象,使鈦表面呈現(xiàn)不同顏色。因此可通過氧化膜的顏色評(píng)定氧化膜厚度。當(dāng)氧化膜達(dá)到一定厚度時(shí),繼續(xù)增加電壓,鈦表面發(fā)生介質(zhì)擊穿現(xiàn)象,此時(shí)傳統(tǒng)陽極氧化向微弧氧化轉(zhuǎn)換,氧化膜厚度仍隨電壓增大而增加,但鈦表面形成多孔性結(jié)構(gòu)。

Benea等在硫酸電解液中對(duì)鈦進(jìn)行陽極氧化,電壓為100V時(shí)發(fā)生微弧氧化,在鈦表面形成納米孔結(jié)構(gòu),氧化膜厚度為380~615nm。電壓的大小影響鈦表面氧化膜晶體結(jié)構(gòu)。二氧化鈦有3種晶體結(jié)構(gòu):板鈦礦、銳鈦礦和金紅石。傳統(tǒng)陽極氧化可在鈦表面形成非晶態(tài)二氧化鈦層,微弧氧化在鈦表面形成銳鈦礦或金紅石相二氧化鈦層。Selimin等在醋酸電解液中,10~200V電壓下對(duì)鈦表面行陽極氧化處理。電壓為100~200V時(shí),鈦表面發(fā)生電弧作用而形成多孔的銳鈦礦氧化層,此結(jié)構(gòu)為羥基磷灰石形成提供位點(diǎn)。而電壓較低時(shí),鈦表面氧化層為無定形結(jié)構(gòu)。

Cui等將鈦置于硫酸電解質(zhì)溶液中陽極氧化,發(fā)現(xiàn)100V電壓下,鈦表面氧化膜為銳鈦礦;150V電壓下,鈦表面氧化膜為銳鈦礦和金紅石;而在180V電壓下只有金紅石。金紅石型二氧化鈦和銳鈦礦型二氧化鈦性能方面存在差異。鈦表面氧化膜的晶體形式影響其表面磷灰石的形成。將無定形型、金紅石型及銳鈦礦型二氧化鈦分別置于SBF溶液中7d,結(jié)果顯示,無定形型二氧化鈦表面無磷灰石形成,銳鈦礦表面只有少量磷灰石形成,而金紅石表面完全被磷灰石覆蓋。磷灰石層可增強(qiáng)種植體與骨組織間結(jié)合,且較致密的金紅石型二氧化鈦可更有效阻止鈦基底離子釋放,增加鈦表面抗腐蝕性能。

2.2電解質(zhì)溶液

常用的電解質(zhì)溶液有水溶液、有機(jī)溶液和熔鹽溶液。最常使用的是水溶液,包括硫酸、磷酸、乙酸鈣、氫氟酸,氫氧化鈉等。在不同種類和濃度的電解質(zhì)溶液中處理得到的氧化膜的相態(tài)、性能、結(jié)構(gòu)等存在差異。傳統(tǒng)陽極氧化使用偏酸性電解液。在含氟電解質(zhì)溶液中行陽極氧化,鈦表面可形成二氧化鈦納米管結(jié)構(gòu)。在磷酸及硫酸溶液中處理,鈦表面可形成有色薄膜。Walter等將鈦在0.9%NaCl電解質(zhì)中陽極氧化,鈦表面呈現(xiàn)藍(lán)色外觀。微弧氧化常用堿性溶液或者有機(jī)溶劑作為電解液。Kaluderovi等首次在NaOH和Ca(H2PO4)2水溶液中進(jìn)行陽極氧化,鈦表面呈現(xiàn)白色,成骨細(xì)胞在其表面黏附生長(zhǎng)良好,這為種植體材料表面改性提供了新方法。

不同種類的電解質(zhì)溶液可提供不同的官能團(tuán)。若將電解液中有效官能團(tuán)沉積于鈦表面,則可提高鈦生物活性。Ca/P是骨組織形成必不可少的元素,含有效官能團(tuán)的鈦表面能更好吸附組織液中的Ca和P,從而形成磷灰石。在含有甘油磷酸鈣和乙酸鈣的電解質(zhì)溶液中微弧氧化,鈦表面形成含有Ca和P的高度結(jié)晶的多孔氧化膜,通過加熱法使其變?yōu)榱谆沂?,?duì)骨組織的形成具有促進(jìn)作用。Cai等認(rèn)為電解質(zhì)溶液的PH影響功能團(tuán)與鈦的結(jié)合力。當(dāng)PH<4時(shí),鈦表面電勢(shì)為正值,電解液中陰離子官能團(tuán)有利于與鈦表面形成良好的結(jié)合;當(dāng)PH>4時(shí),鈦表面電勢(shì)為負(fù)值,所得結(jié)果恰好相反。Jin等認(rèn)為酸性電解質(zhì)溶液中陽極氧化,有利于陰離子官能團(tuán)與鈦表面結(jié)合;堿性電解質(zhì)溶液中,陰離子與鈦表面結(jié)合能力欠佳。因此,可通過調(diào)節(jié)電解質(zhì)溶液PH值,使電解質(zhì)溶液中有利于促進(jìn)骨組織再生的官能團(tuán)更好的吸附于鈦種植體表面。

2.3其他

氧化時(shí)間、鈦基底形態(tài)、電流密度等均影響鈦陽極氧化后氧化膜的結(jié)構(gòu)。在PH為8的氯化鈉溶液中進(jìn)行陽極氧化,結(jié)果顯示表面粗糙度與氧化時(shí)間成負(fù)相關(guān),與電流密度成正相關(guān)。在形成納米管的試驗(yàn)中,隨著氧化時(shí)間的增加,納米管的直徑與長(zhǎng)度隨之增加。鈦基底的表面形態(tài)對(duì)陽極氧化后氧化膜的形態(tài)也有影響。Walter等對(duì)光滑鈦基底與噴砂后粗糙鈦基底進(jìn)行氧化,結(jié)果粗糙基底層氧化膜的厚度和膜表面孔徑的大小均有明顯的降低,彈性模量相應(yīng)降低。且粗糙基底層形成的氧化膜抗摩擦性能增加,有利于種植體在口腔中承受咀嚼壓力。但粗糙鈦基底表面形成的顏色均勻性較差。同時(shí),二氧化鈦晶體結(jié)構(gòu)與電流密度成正相關(guān),隨著電流密度增加,銳鈦礦或金紅石形成量也增加。

3.陽極氧化技術(shù)的應(yīng)用

3.1增加抗腐蝕性與抗菌性

在體內(nèi),金屬的抗腐蝕性能對(duì)種植體的壽命有重要影響。血漿和組織液中的氯離子濃度是海水中氯離子濃度的1/3,是金屬適宜的腐蝕環(huán)境。體液中的氨基酸、蛋白質(zhì)及溶解的氧氣均有利于腐蝕的發(fā)生。細(xì)胞也影響金屬的耐腐蝕性。經(jīng)陽極氧化后,鈦表面形成較厚且致密的氧化膜能阻止金屬離子釋放,防止金屬離子與體液中離子發(fā)生反應(yīng),從而提高種植體抗腐蝕性能。將陽極氧化后的鈦試件置于3.5%的NaCl溶液中,表現(xiàn)出良好的抗腐蝕性能。Karambakhsh將陽極氧化后鈦試件放置在Ringer's溶液中,在37℃環(huán)境中進(jìn)行腐蝕試驗(yàn)。結(jié)果顯示,隨氧化膜厚度增加,鈦表面抗腐蝕性增強(qiáng)。微弧氧化在鈦表面形成多孔結(jié)構(gòu),但其抗腐蝕性仍優(yōu)于未處理鈦。這是由于微弧氧化由兩種涂層構(gòu)成:內(nèi)層阻擋層以及外層的多孔層,內(nèi)層阻擋層阻止鈦基底與體液接觸。微弧氧化形成的氧化膜厚度明顯高于傳統(tǒng)陽極氧化,抗腐蝕性能也提高。

陽極氧化可以在種植體表面形成納米的二氧化鈦管,可在納米管中載附有抗菌作用的藥物,比如銀離子,慶大霉素、青霉素等抗生素,鹵素復(fù)合物等,降低炎癥發(fā)生,提高種植體的成功率。二氧化鈦在紫外光照射下,還可發(fā)生光催化殺菌作用,預(yù)防種植體周圍炎發(fā)生。且納米結(jié)構(gòu)本身就有一定的抗菌效果。鈦表面抗菌性及抗腐蝕性能保證種植修復(fù)體在相對(duì)穩(wěn)定狀態(tài)下行使功能,提高使用壽命。

3.2提高骨結(jié)合強(qiáng)度

表面能和粗糙度對(duì)于細(xì)胞與材料的黏附非常重要。粗糙表面可降低接觸角提高表面能。高表面能的材料有更多電子受體位點(diǎn)來促進(jìn)細(xì)胞分化。在粗糙的鈦表面,成骨細(xì)胞呈現(xiàn)圓形和多邊形,骨鈣素、骨唾液蛋白以及I型膠原表達(dá)增強(qiáng)。表面粗糙度增加可使鈦表面鈣磷等元素沉積增多,在鈦表面沉積的鈣磷比例為1.67,與磷灰石中鈣磷的比率一致,為骨形成提供了良好的元素準(zhǔn)備。鈦在不含F(xiàn)-的電解質(zhì)溶液中行傳統(tǒng)陽極氧化技術(shù),其表面粗糙度降低;在含F(xiàn)-電解液中陽極氧化,其表面形成納米孔或者納米管,明顯增加材料表面潤(rùn)濕性;鈦表面經(jīng)微弧氧化處理后形成納米、亞微米結(jié)構(gòu),其表面粗糙度明顯增加。納米、亞微米結(jié)構(gòu)影響骨-種植體界面的機(jī)械性能、應(yīng)力分布及骨組織重塑,增加種植體與骨組織的相互鎖合,降低應(yīng)力集中導(dǎo)致的骨吸收。Cui等發(fā)現(xiàn),微弧氧化處理的鈦表面形態(tài)是一種立體開放的多孔結(jié)構(gòu),能給磷灰石和鈦之間提供強(qiáng)大的黏結(jié)力,從而使鈦種植體更適合作為生物活性材料。多孔結(jié)構(gòu)利于組織細(xì)胞向內(nèi)生長(zhǎng),增加細(xì)胞生長(zhǎng)黏附空間,提高種植體的固位力。孔的大小影響著骨形成的數(shù)量和質(zhì)量。氧化膜的多孔結(jié)構(gòu)增加了種植體與周圍組織的摩擦力。

多孔性結(jié)構(gòu)使鈦表面彈性模量與骨組織相近,降低種植失敗風(fēng)險(xiǎn)。在多孔結(jié)構(gòu)種植體表面吸附血清白蛋白可明顯增加種植體生物活性。鈦經(jīng)陽極氧化處理后對(duì)體內(nèi)生長(zhǎng)因子也會(huì)產(chǎn)生影響,可增強(qiáng)鈦-骨界面PDGF的表達(dá),促進(jìn)新骨生成,增強(qiáng)TGF-β在鈦合金種植體骨界面的表達(dá),成骨活躍,骨基質(zhì)鈣化成熟較好,骨細(xì)胞排列緊密,新骨形成較多。Lasson等認(rèn)為較厚的氧化膜提高了骨形成的速率,180nm的氧化層帶顯示出較好的骨-種植體的結(jié)合趨勢(shì)。Walter等認(rèn)為鈦經(jīng)陽極氧化后可增強(qiáng)骨鈣素以及I型膠原mRNA表達(dá)水平,從而對(duì)種植體-骨結(jié)合產(chǎn)生有利影響。

4.與其他表面改性技術(shù)聯(lián)合使用

4.1與溶膠-凝膠技術(shù)聯(lián)合使用

陽極氧化法在鈦表面形成二氧化鈦納米管陣列,溶膠-凝膠技術(shù)法可形成PDMS-TEOS膜,經(jīng)兩種表面改性技術(shù)處理后,鈦表面形成一層有機(jī)-無機(jī)涂層。結(jié)果顯示,PDMS-TEOS膜與二氧化鈦氧化膜黏附良好,可提高金屬基底抗腐蝕性。Kang等用溶膠-凝膠技術(shù)磷灰石涂覆于陽極氧化處理的鈦表面,增強(qiáng)鈦的骨結(jié)合能力。

4.2與噴砂酸蝕法聯(lián)合使用

經(jīng)噴砂酸蝕處理后在鈦表面形成微米結(jié)構(gòu),表面粗糙度及潤(rùn)濕性增加。陽極氧化技術(shù)可在鈦表面形成納米層,納米層比微米層具有更好的生物相容性及抗腐蝕性能。Salou等認(rèn)為納米結(jié)構(gòu)可提高骨結(jié)合率并改善傳統(tǒng)噴砂酸蝕處理表面。MG63cells培養(yǎng)顯示:噴砂酸蝕后行陽極氧化處理能提高成骨細(xì)胞活性以及細(xì)胞分化。Ding在噴砂酸蝕后的鈦表面行陽極氧化技術(shù),鈦表面形成直徑為30、50、80nm的二氧化鈦納米管,觀察不同直徑納米管的細(xì)胞相容性。結(jié)果噴砂酸蝕與直徑80nm納米管聯(lián)合處理比單純噴砂酸蝕處理鈦表面新骨形成能力增強(qiáng)。噴砂酸蝕后行陽極氧化技術(shù)可明顯提高鈦在骨中固定強(qiáng)度。Ou等將噴砂酸蝕-陽極氧化種植體、光滑組種植體、噴砂酸蝕種植體植入到豬前磨牙區(qū)域,8周后種植體與骨組織均發(fā)生骨結(jié)合,骨結(jié)合率分別為84.3%±8.1%、76.5%±6.3%和81.1%±8.4%,扭力值分別為(84.5±8.7)、(62.95±11.5)、(76.1±6.6)N·cm。噴砂酸蝕后行陽極氧化可提高種植體的骨結(jié)合率及結(jié)合強(qiáng)度。

4.3與水熱處理聯(lián)合使用

陽極氧化技術(shù)在鈦表面形成的非晶態(tài)納米管陣列不能誘導(dǎo)磷灰石生成。經(jīng)水熱處理后,此氧化鈦?zhàn)兂删w形式,表面親水性提高,且水熱處理可增加其抗腐蝕性能,而對(duì)納米管的影響較小。Liu等認(rèn)為陽極氧化-熱處理是在KOH溶液中形成納米結(jié)構(gòu)二氧化鈦氧化層的適合方法,其氧化層由K2Ti6O13和H2Ti2O5·H2O組成。當(dāng)浸泡在人體模擬體液中,能誘導(dǎo)磷灰石層形成,表現(xiàn)出良好的生物相容性。Grotberg等通過實(shí)驗(yàn)認(rèn)為陽極氧化和熱氧化處理組、陽極氧化組、平滑組、熱處理氧化組的鈦表面抗腐蝕性能逐漸降低。溫度對(duì)鈦表面晶體結(jié)構(gòu)有一定影響。當(dāng)溫度高于400℃,無定型二氧化鈦?zhàn)兂射J鈦礦形式晶向結(jié)構(gòu)。在600℃左右,銳鈦礦向金紅石相轉(zhuǎn)換。溫度對(duì)表面晶相結(jié)構(gòu)的影響受鈦表面形貌、多孔性、晶體大小的影響。Vera等在500℃下處理,表面形貌和粗糙度沒有明顯改變,表面顏色無明顯改變。600℃下水熱處理,氧化膜厚度增加,鈦表面顏色改變。綜上所述,陽極氧化技術(shù)可提高鈦及鈦合金表面生物相容性及生物活性。通過調(diào)節(jié)電壓、電解質(zhì)溶液等電化學(xué)參數(shù)制備出不同的鈦表面形貌,以滿足不同需求。在含F(xiàn)-電解液中行傳統(tǒng)陽極氧化處理,鈦表面形成二氧化鈦納米管結(jié)構(gòu)。對(duì)鈦行微弧氧化處理,鈦表面形成晶相結(jié)構(gòu)的多孔氧化層。兩種處理方法均能顯著提高鈦表面活性及生物相容性??蛇M(jìn)一步將陽極氧化技術(shù)與其他表面改性技術(shù)相結(jié)合,同時(shí)提高鈦表面生物活性。這為陽極氧化技術(shù)在口腔種植領(lǐng)域的應(yīng)用提供了新的發(fā)展前景。在開發(fā)用于口腔種植體表面處理的高可靠性生產(chǎn)解決方案上,華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備CSE擁有豐富的專業(yè)知識(shí),還能利用廣泛的口腔種植體密封、轉(zhuǎn)移和加工的工藝技術(shù)訣竅。生產(chǎn)的設(shè)備為口腔種植體的刻蝕、正常化處理、鈍化、凈化和陽極氧化等濕化學(xué)法而設(shè)計(jì),將各種表面處理步驟集于一臺(tái)緊湊的模塊化機(jī)器。為了盡可能改善口腔種植體骨整合,對(duì)最高潔凈度、生物兼容性和最佳粗糙度的嚴(yán)苛要求需要盡可能高的精確度、純凈度和質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。


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