掃碼添加微信，獲取更多半導(dǎo)體相關(guān)資料
引言
作為光學(xué)部件的鏡頭，由于其光學(xué)特性，有各種各樣的硝種，被認(rèn)為是不可能用水清洗的，同時(shí)，由于其量產(chǎn)化的計(jì)劃，無(wú)論如何都必須自動(dòng)化，與大型照相機(jī)制造商共同研究，試制了光學(xué)鏡頭的超聲波自動(dòng)清洗裝置，才確立了量產(chǎn)化。之后，鏡頭的自動(dòng)清洗裝置大量銷(xiāo)售，并且通過(guò)清洗系統(tǒng)的改良、機(jī)構(gòu)的簡(jiǎn)化、洗滌劑的開(kāi)發(fā)、振動(dòng)器的改良等，一直延續(xù)到現(xiàn)在。
?
實(shí)驗(yàn)
就像光學(xué)透鏡一樣， 液晶玻璃， 磁盤(pán)， 磁磁頭 光掩膜等表面拋光的零部件的清洗， 已經(jīng)有人說(shuō)，如果不使用超聲波清洗，就無(wú)法得到清潔面。當(dāng)然， 超聲波清洗不是全部，與其他清洗方法的組合，洗滌劑的選擇，清洗系統(tǒng)的構(gòu)成，干燥系統(tǒng)的構(gòu)成等都是重要的因素，不要忘記。在原理上被認(rèn)為是理所當(dāng)然的。使用單一共振頻率的振子強(qiáng)制制造駐波， 相反，我們需要做的是， 如何使安裝有振動(dòng)器的面有效地進(jìn)行活塞運(yùn)動(dòng)。當(dāng)然， 洗滌物， 如果進(jìn)行機(jī)械性的搖擺運(yùn)動(dòng)，就會(huì)橫穿氣蝕發(fā)生區(qū)， 反而可以期待同樣的洗凈效果。
因此，與以往的使用空化的洗滌的想法不同。像這樣，超聲波洗滌有各種系統(tǒng)的組合方法，如果頻率、振動(dòng)器輸入等不設(shè)定適當(dāng)?shù)闹?，洗滌物就無(wú)法洗滌，反而會(huì)造成損傷，因此必須十分注意這些系統(tǒng)的選定。因此，本公司一旦有洗滌委托，就會(huì)請(qǐng)教其前工序，即附著了什么樣的污物，經(jīng)過(guò)什么樣的工序附著了污物，根據(jù)這些來(lái)決定洗滌系統(tǒng)。然后，進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，判斷洗滌結(jié)果，進(jìn)入該裝置的設(shè)計(jì)。這樣，洗滌系統(tǒng)的構(gòu)成非常復(fù)雜，關(guān)于該洗滌需要經(jīng)驗(yàn)，而且由于包含了很多技術(shù)訣竅，所以洗滌被認(rèn)為是最容易的，也是最難的。下面介紹各種超聲波自動(dòng)洗滌裝置的洗滌工序、特征等。
氟利昂溶劑的大氣污染問(wèn)題浮出水面， 因此，氟利昂溶劑受到限制，在清洗裝置的干燥工序中，氟利昂逐漸無(wú)法使用，因此，關(guān)于其干燥，代替氟利昂的溶劑在各溶劑制造商開(kāi)始銷(xiāo)售，但是完全代替氟利昂的溶劑在現(xiàn)在看來(lái)很難。一部分超聲波清洗裝置制造商采取了封閉氟利昂的方式，即使勉強(qiáng)進(jìn)行完全封閉也是一種方法。在測(cè)試?yán)又?，有盤(pán)（3.5英寸，5英寸等）、陶瓷基板、液晶玻璃、塑料透鏡等。
為了解決磁性磁頭的加工過(guò)程復(fù)雜且精確的問(wèn)題，并且必須在加工過(guò)程中進(jìn)行各種洗滌。通過(guò)超聲波清洗剝離頭部，將頭部掉落到網(wǎng)中。當(dāng)然，由于會(huì)產(chǎn)生劃痕的問(wèn)題，所以設(shè)計(jì)轎廂是為了將各個(gè)頭部放入網(wǎng)框中。這是根據(jù)粘著劑的種類(lèi)，可以用一種液體進(jìn)行清洗干燥的情況，也可以用堿清洗進(jìn)行剝離，用水清洗進(jìn)行溶劑干燥的多槽式的情況。由于各公司的粘著劑各不相同，所以必須對(duì)剝離液進(jìn)行討論。
抗滑動(dòng)特性也很優(yōu)異。另外，薄膜磁頭輕，小，所以面向窄磁道，FDD用也批量生產(chǎn)了各種各樣的種類(lèi)。
為了清洗這樣的各種磁頭，請(qǐng)注意前一工序中的污垢，籃子的形狀，超聲波的振動(dòng)方向，頻率的選擇等的因素必須考慮洗滌液系統(tǒng)。特別是HDD用復(fù)合頭由于使用了一部分低熔點(diǎn)玻璃，如果在洗滌劑、純水等中浸泡最長(zhǎng)時(shí)間的話會(huì)損壞，所以洗滌劑的種子類(lèi)，有必要選定清洗和水的超聲波清洗時(shí)間。由于噴頭表面附著有研磨劑、蠟等，所以用溶劑除去，用下面的洗滌劑除去無(wú)機(jī)物，這與玻璃的清洗是一樣的。只是洗滌劑的效果好，必須容易水洗。
?
討論和總結(jié)
關(guān)于光學(xué)刮水器、玻璃、陶瓷等表面拋光面的清洗，我們只介紹了具有代表性的各種裝置、清洗工序，與半導(dǎo)體清洗精度的提高一樣，清洗精度也會(huì)進(jìn)一步提高，與此同時(shí)，自動(dòng)清洗裝置的完全自動(dòng)化的要求也是近在咫尺。