在半導體行業(yè)中，用于硅晶圓片和碳化硅晶圓片批量生產(chǎn)的外延爐的內(nèi)腔因為耐高溫、透光、無物質(zhì)沾污的需求，基本使用高純度石英材料制作，除了石英鐘罩作為密閉腔體內(nèi)用途外，為了保證晶體表面生長的氣流均勻性和溫度一致性，另外還會在腔體內(nèi)放置各種形狀的石英件。石英件的表面在一定次數(shù)的外延過程后，表面會沉積多種殘留物質(zhì)。這些殘留物質(zhì)在設備維護保養(yǎng)過程中定期清洗，否則會嚴重影響硅晶圓片和碳化硅晶圓片的外延層生長質(zhì)量。

華林科納是國內(nèi)最早致力于濕法設備的研制單位，多年來與眾多的半導體企業(yè)密切合作，研制開發(fā)適合的半導體清洗機設備。關于鐘罩清洗機，其中又有臥式或立式的分別。

下圖是一個臥式的鐘罩清洗機。

它的優(yōu)點是：

1.成熟專業(yè)的電氣設計，友好的人機交互界面，提供更好地操作體驗；

2.極高的生產(chǎn)效率；

3.結合最先進工藝技術，主體材質(zhì)的整潔可靠，槽體的個性化定制，輔助功能齊全；

4.最佳的占地面積，節(jié)省空間；

5.優(yōu)越的可靠性；

6.獨特的模塊化結構；

7.極其便于后期維修。

它的特征是：

1.可編制程序使得清洗管旋轉(zhuǎn)，清洗更均勻，更全面；

2.配備的PVDF工藝槽，可耐一定濃度的酸堿；

3.裝有清洗溶劑的儲備槽（根據(jù)使用化學品的數(shù)量）放置在工藝槽的后下方

—直接注入且內(nèi)部進行不斷循環(huán)，使得清洗更徹底；

4.特別的噴淋嘴更益于石英管清洗；

5.集成水槍和N2槍，以獲得更好的清洗效果，

6.單獨排液系統(tǒng)，將廢棄的藥液統(tǒng)一排放到固定的容器內(nèi)，避免污染環(huán)境；

7.安全蓋子，保護槽體里的藥液不會濺出槽體；

8.操作簡單易學，便于控制；

9.節(jié)約用酸系統(tǒng)；

10.經(jīng)濟實惠的PP外殼材料。

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