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發(fā)布時間： 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域，濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝，隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展，濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備，如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納（江蘇）CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝，現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為：外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-外延片清洗機設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波（SAW）器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨立密封，具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制，功能強大，操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ；18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（126xa.cn），現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時間： 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點，在6＂ （150mm）晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成，一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、Ｎ２ 保護單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體，二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下：從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出，采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中，陰極的旋轉(zhuǎn)運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決，從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式，可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射，實現(xiàn)攪拌功能，消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu)，鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行，可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關(guān)模擬、仿真和驗證，鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu)，可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納（江蘇）CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理，由于結(jié)構(gòu)上的特點，該方法經(jīng)實驗驗證具有：①結(jié)構(gòu)簡單；②工藝參數(shù)控制容易；③有利氣泡的消除；④鍍制均勻性得到提高；⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝，同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng)，目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用，產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標(biāo)：最...
發(fā)布時間： 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應(yīng)用范圍:l 本機臺適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機臺，可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達控制系統(tǒng)設(shè)計, 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計,微塵控制於每次運轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設(shè)計，隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子，並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨，並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告，氣體不足，傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen，整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/，皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間： 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長：單片式清洗裝置的優(yōu)點（與浸漬.槽式比較）1.晶片表面的微粒數(shù)非常少（到25nm可對應(yīng)）例：附著粒子數(shù)…10個/W以下（0.08UM以上粒子）（參考）槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…（例）1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size（根據(jù)每個客戶可以定制） 液體濺射（塵埃強制除去）  （推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（www.hlkncas.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096；18913575037可立即獲取免費的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時間： 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)（CDS）-華林科納（江蘇）CSEChemical Dispense System System 華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點；具有良好的耐腐蝕性能?？刂颇Ｊ剑菏謩涌刂颇Ｊ?、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學(xué)液體配兩個桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間： 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納（江蘇）CSE-自動單片式腐蝕清洗機應(yīng)用于清洗（包括光刻板清洗）刻蝕 去膠 金屬剝離等；可處理晶圓尺寸2'-12'；可處理晶圓材料：硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等；主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量：1L/min/片4、蝕刻均一性良好（SiO?氧化膜被稀釋HF處理）：≤2%5、干燥時間：≤20S6、藥液回收率：＞95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短（相較于槽式清洗機）2、節(jié)約成本（藥液循環(huán)利用，消耗量遠低于槽式）3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu)，占地面積小 更多的單片（枚葉）式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導(dǎo)體官網(wǎng)，關(guān)注http://126xa.cn ,400-8768-096，18913575037
發(fā)布時間： 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納（江蘇）CSEChemical Dispense System System 華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點；具有良好的耐腐蝕性能?？刂颇Ｊ剑菏謩涌刂颇Ｊ?、自動控制模式 設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-氫氟酸（HF）供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學(xué)液體配兩個桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化...
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【今日半導(dǎo)體新聞熱點】

時間: 2017-01-10
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半導(dǎo)體行業(yè)最新新聞資訊

爭取與美光合作 紫光網(wǎng)羅到前華亞科總經(jīng)理

美商存儲器大廠美光科技上月合并華亞科技后，在新年度展開高層人事調(diào)整，原華亞科總經(jīng)理牟瑞德（Rod）預(yù)定農(nóng)歷春節(jié)后轉(zhuǎn)調(diào)日本，另調(diào)派一位新加坡籍華人來臺接任。另外，前華亞科總經(jīng)理梅國勛（Scott Meikle）自美光退休后，正式加入紫光集團，擔(dān)任高級顧問，為近期加入紫光集團美光層級最高的人員。（出自：經(jīng)濟日報）

英特爾發(fā)表10nm芯片

英特爾本周推出的幾款最新芯片（屬于高端KabyLake系列的一部分），仍然卡在14納米，性能僅勉強超過此前的Skylake系列處理器。（出自：鳳凰科技）

瑞芯微芯片打進三星Chrome Plus NB供應(yīng)鏈

根據(jù)大陸媒體報導(dǎo)，RK3399為瑞芯微目前最強、可應(yīng)用于全平臺的芯片。該芯片采用big.LITTLE大小核架構(gòu)，具有2個Cortex-A72大核+4個Cortex-A53小核。GPU則采用整體效能較上代產(chǎn)品提升45%的ARM新一代高端影像處理器Mali-T860。

報導(dǎo)認為，三星Chromebook選擇RK3399的原因或許是看上其強大效能。而大陸IC設(shè)計公司首度打入三星的高端產(chǎn)品供應(yīng)鏈，對大陸芯片的全球化有象征性意義。（出自：Digitimes）


中興通訊回應(yīng)裁員風(fēng)波：年流動率約 5% 屬正常情況

日前，《路透社》引用中國中興通訊（ZTE）多名高層主管的消息表示，中興通訊將裁員約 3，000 人，約占中興通訊當(dāng)前在全球 60，000 名員工的5％。而且，其中裁員人數(shù)的五分之一 將來自表現(xiàn)欠佳的手機業(yè)務(wù)部門，也就是全球手機業(yè)務(wù)部門將裁員約 600 人，占手機部門員工總數(shù)的 10％。對此，中興通訊回應(yīng)表示：公司全球當(dāng)前有 60，000 名員工，每年流動率約為 5％ 到 8％，都屬于正常情況。（出自：TechNews科技新報）

內(nèi)存市場前景旺 未來5年年均增長達7.3%

內(nèi)存市場日益擴大，研調(diào)機構(gòu) IC Insights 最新報告預(yù)測，DRAM 與 NAND 閃存等，未來5 年年均復(fù)合增長率（CAGR）可達7．3％，產(chǎn)值將從去年的773 億美元擴增至1，099 億美元。

報告將半導(dǎo)體區(qū)分成邏輯、內(nèi)存，模擬與微組件（microcomponents）IC 等4 種類型，在 5 年的預(yù)測區(qū)間內(nèi)，以內(nèi)存成長力道最為強勁，模擬IC 以5．2％次之，微組件為4．4％，至于臺積電擅長代工的邏輯IC 則僅有2．9％。（出自：MoneyDJ新聞）


蘋果設(shè)備出貨量2017有望超過微軟

美國市場研究公司Gartner在最新報告中預(yù)計，采用蘋果操作系統(tǒng)的設(shè)備今年有望在出貨量這項指標(biāo)上超過采用微軟操作系統(tǒng)的設(shè)備。這在本世紀(jì)尚屬首次。

Gartner預(yù)計，在今年超過微軟后，蘋果還將在2018和2019年進一步擴大領(lǐng)先優(yōu)勢。按照該公司的測算，2016年的各種設(shè)備出貨量為23億臺，微軟Windows約占2.6億臺，份額為11.2%。谷歌Android以絕對優(yōu)勢位居首位。（出自：新浪科技）

汽車廠商抱團開發(fā)無人駕駛技術(shù)：分攤成本 擴大市場

隨著無人駕駛汽車大戰(zhàn)愈演愈烈，相關(guān)廠商也分成了兩大陣營，一類可以獨自開發(fā)這種技術(shù)，另外一類則需要借助其他廠商的幫助來為其分擔(dān)財務(wù)和技術(shù)壓力。面對這樣的現(xiàn)狀，各大汽車供應(yīng)商和汽車廠商都在擴大各自的聯(lián)盟規(guī)模，希望自己開發(fā)的無人駕駛汽車技術(shù)能夠被多家汽車廠商采用。

雖然特斯拉、通用汽車和福特都在開發(fā)專有無人駕駛系統(tǒng)，但更多的汽車廠商似乎認為與供應(yīng)商聯(lián)合開發(fā)無人駕駛技術(shù)更有意義——因為ABS和基于雷達的巡航控制功能已經(jīng)存在。（出自：新浪科技）

人工智能熱潮興　推升SoC存儲器測試需求

人工智能(AI)將引發(fā)存儲器測試需求。AI發(fā)展持續(xù)升溫，深度學(xué)習(xí)(Deep learning)更是當(dāng)中成長最為快速的領(lǐng)域，改變了電腦在現(xiàn)實世界中觀看、傾聽與認知事物的方式，并逐漸應(yīng)用于智能手機、穿戴式裝置及自動駕駛汽車等領(lǐng)域中?，F(xiàn)在已有許多芯片供應(yīng)商對深度學(xué)習(xí)的興趣不斷增加，也意味著系統(tǒng)單芯片(SoC)對于存儲器的需求量將會大增，進而帶動存儲器測試需求。（出自：新電子）

東芝聚焦核能和半導(dǎo)體等優(yōu)勢業(yè)務(wù)

近日東芝集團主席稱，銀行將為東芝提供財務(wù)支持。近日，東芝發(fā)布消息稱，其在美國建設(shè)的核電站所需費用超出預(yù)期，可能對業(yè)績帶來數(shù)千億日元損失。東芝CEO綱川智表示，公司將會于2017年2月公布季度財報之際列出具體數(shù)據(jù)。

目前，圍繞核電業(yè)務(wù)的具體損失額還在詳細調(diào)查之中。但東芝稱，將修改2016財年盈利預(yù)期。有分析人士認為，這從側(cè)面反映出東芝在核電站建設(shè)等方面存在疏忽。（出自：中國經(jīng)營報）

我國機器人產(chǎn)業(yè)出現(xiàn)“高端產(chǎn)業(yè)低端化”趨勢

中國機器人產(chǎn)業(yè)近來發(fā)展勢頭迅猛，已連續(xù)多年成為全球最大的機器人應(yīng)用市場，機器人企業(yè)也在短短幾年間從幾十家發(fā)展到幾百家。從市場份額占有率來看，前幾年，中國本土機器人所占的市場份額占國內(nèi)機器人市場的10％左右，后來上升到10％－15％，去年（2015年）已經(jīng)達到25％，增速從全球范圍內(nèi)位列前茅，按照中國機器人十三五的戰(zhàn)略和規(guī)劃，到2020年，這個比率應(yīng)該達到50％。但值得注意的是，我國機器人產(chǎn)業(yè)仍然存在不少問題。（出自：人工智能機器人聯(lián)盟）

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