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濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(126xa.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://126xa.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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半導(dǎo)體謹(jǐn)防資源錯配

時間: 2018-09-08
點(diǎn)擊次數(shù): 84

集成電路產(chǎn)業(yè)大多環(huán)節(jié)需要十年以上的積累方顯成效,涌入的資金并不能在短期內(nèi)全面提升行業(yè)的技術(shù)、產(chǎn)業(yè)競爭力,相反,越來越多的企業(yè)開始感受到資本“過熱”帶來的煎熬。

在“風(fēng)口”上站了接近三年之后,中國集成電路產(chǎn)業(yè)依然受資本熱捧。并且,中興事件之后,越來越多的地方政府、社會資本介入集成電路產(chǎn)業(yè)。2018年兩會之后,國內(nèi)提出發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)的主要城市已經(jīng)達(dá)到30個,其中多地政府成立了集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展基金,預(yù)計(jì)募集基金規(guī)模已經(jīng)超過3000億元。

但是,集成電路產(chǎn)業(yè)大多環(huán)節(jié)需要十年以上的積累方顯成效,涌入的資金并不能在短期內(nèi)全面提升行業(yè)的技術(shù)、產(chǎn)業(yè)競爭力,相反,越來越多的企業(yè)開始感受到資本“過熱”帶來的煎熬。

“很多新公司成立、有積累的公司也要擴(kuò)張,高價挖人隨處可見。”在近日召開的2018集微半導(dǎo)體峰會上,多家集成電路企業(yè)人士告訴21世紀(jì)經(jīng)濟(jì)報道記者,“突然之間就感受到了人才成本的快速上漲,尤其是關(guān)鍵人才,都在搶。大陸半導(dǎo)體的人才成本已經(jīng)超過了臺灣地區(qū),而上海半導(dǎo)體人才的薪水已經(jīng)快逼近硅谷?!?/p>

長期的落后使得中國集成電路一直維持著相對分散的格局,產(chǎn)業(yè)集中度遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于美國、中國臺灣地區(qū)。引導(dǎo)人才、資本、技術(shù)、市場份額向優(yōu)勢企業(yè)集中是國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的必經(jīng)之路,但現(xiàn)在,陸續(xù)涌入但相對分散的資本已經(jīng)漸漸偏離了主航道。

“一哄而上”的資源錯配

根據(jù)中國半導(dǎo)體協(xié)會數(shù)據(jù),2017年,中國前十大集成電路設(shè)計(jì)公司總收入788.2億元,占2073.5億元行業(yè)總收入的38%,與2013年的36%基本持平。雖然2013年以來行業(yè)內(nèi)重大投資頻繁上演,但行業(yè)集中度并未提升。相比之下,美國半導(dǎo)體企業(yè)中,十大設(shè)計(jì)公司占行業(yè)總收入的比重超過90%,在中國臺灣,這一比例也超過了80%。

然而,中國的集成電路設(shè)計(jì)行業(yè)資源仍在進(jìn)一步分散。2015年底,中國集成電路設(shè)計(jì)企業(yè)數(shù)量為736家,但到2016年底就達(dá)到了1362家。各地陸續(xù)出臺的集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策在吸引龍頭企業(yè)落地、海外人才創(chuàng)業(yè)、技術(shù)成果轉(zhuǎn)化的同時,也分散了行業(yè)資源。

“應(yīng)該支持有條件的地區(qū)來發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè),不應(yīng)采用一哄而上的群狼戰(zhàn)術(shù)?!睆B門半導(dǎo)體投資集團(tuán)有限公司總經(jīng)理王匯聯(lián)在2018集微半導(dǎo)體峰會演講時提到,“過度的資本炒作,不利于企業(yè)的人才積累、技術(shù)積累,容易出現(xiàn)嚴(yán)重的急功近利、浮夸問題,嚴(yán)重違背了產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)律。”

目前,國內(nèi)僅廈門成立了專門的半導(dǎo)體投資公司負(fù)責(zé)集成電路產(chǎn)業(yè)的投資、規(guī)劃等事宜,諸如南京、合肥、成都、杭州、西安、武漢等地方政府則依賴本地已具備的龍頭企業(yè)、學(xué)校人才資源等優(yōu)勢進(jìn)行生態(tài)配套建設(shè)。但是,卻有越來越多完全不具備產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)的地方政府也開始加入到這場“半導(dǎo)體爭奪戰(zhàn)”中。

“資本很重要,但耐心更重要。不少地方政府其實(shí)并不了解集成電路產(chǎn)業(yè),很難把‘耐心’作為一種資源投入到產(chǎn)業(yè)中?!币晃慌c國內(nèi)大多企業(yè)、地方政府有接觸的行業(yè)人士向21世紀(jì)經(jīng)濟(jì)報道記者分析,“政府部門人員往往具有比較高的流動性,各地招商時都希望在自己任期內(nèi)能夠看到市場成果。但是,這個行業(yè)里但凡有點(diǎn)挑戰(zhàn)性的技術(shù),都不是一個任期內(nèi)能夠解決的,能夠快速見效的,大多是國內(nèi)已經(jīng)成熟的、競爭激烈的產(chǎn)品,或者是一些有專利風(fēng)險的項(xiàng)目。這些都不利于行業(yè)發(fā)展。”

而對集成電路企業(yè)而言,從最初的寂寞突然化身明星產(chǎn)業(yè)之后,越來越多的企業(yè)開始遭遇迷失、挫折,“很多企業(yè)抵擋不住誘惑接受了高估值,但業(yè)績卻不可能達(dá)到投資人預(yù)期,結(jié)果下一輪融資只能被迫降低估值,企業(yè)受到的傷害非常大。”專注于集成電路行業(yè)投資的中芯聚源總裁孫玉望在此次峰會中介紹,“我已經(jīng)看到好幾個這樣的案例,現(xiàn)在所謂的明星、獨(dú)角獸,五年之后都可能會成為裸泳者,希望企業(yè)、投資人都能夠理性,拒絕虛高的估值?!?/p>

但是,對企業(yè)而言,維持理性變得越來越難。資本的涌入確實(shí)緩解了企業(yè)的資金掣肘,但同時也打破了集成電路產(chǎn)業(yè)更需要的“長期的耐心”。

低利潤、低研發(fā)占比

事實(shí)上,長期的低端競爭使得中國集成電路企業(yè)深陷價格戰(zhàn)之中,難以沖擊高端的技術(shù)、產(chǎn)品。

根據(jù)近期中國芯片企業(yè)發(fā)布的財(cái)報,記者統(tǒng)計(jì)了包括長電科技、通富微電、匯頂科技、士蘭微、韋爾股份、紫光國微、兆易創(chuàng)新等15家上市公司2018半年報,15家公司總收入490億元,利潤約22.9億,凈利率約4.67%;總研發(fā)支出29.69億元,研發(fā)收入占比約6%。其中,僅匯頂科技、紫光國微、全志科技三家企業(yè)的研發(fā)收入占比超過20%,其余均低于10%。利潤率、研發(fā)收入占比均遠(yuǎn)低于美國、臺灣地區(qū)。

“以手機(jī)的射頻芯片為例,國內(nèi)挺早就有企業(yè)做射頻芯片,但長期以來一直是低價競爭,2G、3G、4G時代一直如此。”一位資深手機(jī)射頻行業(yè)人士透露,“以4G射頻為例,國內(nèi)華為、OPPO、vivo所有旗艦機(jī)的射頻,都是進(jìn)口美國的Skyworks、Qrovo?!?/p>

一顆手機(jī)射頻芯片中包含上百顆元器件,Skyworks能夠把所有射頻器件封裝到一個模塊上,一顆售價30美元,而國內(nèi)諸多企業(yè)大多生產(chǎn)其中少部分器件,所有器件綜合售價不足4美元。Skyworks、Qrovo、博通三家公司幾乎壟斷了所有4G射頻高端市場,而國內(nèi)卻有數(shù)十家企業(yè)在低端市場廝殺?!暗?,一個有能力設(shè)計(jì)射頻芯片的工程師年薪已經(jīng)炒到了50萬,之前只有20-30萬,臺灣也只要20、30萬就可以了。價格戰(zhàn)太狠,人才成本太高,哪還有錢去做4G高端芯片?更不用說5G了?!?/p>

事實(shí)上,國內(nèi)從最基礎(chǔ)的電阻、電源元器件,到核心的芯片設(shè)計(jì)、制造,仍然長期處于全球產(chǎn)業(yè)的中低端環(huán)節(jié),僅封裝測試目前能夠接近國際領(lǐng)先水平。

這一環(huán)境與幾年前國內(nèi)的手機(jī)制造業(yè)極其相似,2010年之前,全球前十大手機(jī)廠商幾乎從未出現(xiàn)過中國手機(jī)廠商的身影。中國手機(jī)廠商在2G、3G期間經(jīng)歷了十多年的低價、同質(zhì)競爭,最終在整體產(chǎn)業(yè)鏈的提升、長期技術(shù)積累、4G市場高速發(fā)展等多重積累下開始爆發(fā),然后又解決了國際化品牌打造、市場開拓、專利壁壘等困擾,才終于在全球前五中拿下三個名額。

中國的集成電路產(chǎn)業(yè)勢必要比手機(jī)產(chǎn)業(yè)經(jīng)歷更多、更長的挫折與磨礪,相比于一哄而上的拔苗助長,中國的集成電路產(chǎn)業(yè)更需要思考如何應(yīng)對越來越激烈的價格戰(zhàn),以及即將爆發(fā)的專利糾紛等問題。

來源:21世紀(jì)經(jīng)濟(jì)報道



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