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始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為L(zhǎng)ED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測(cè)試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡(jiǎn)便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(126xa.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽(yáng)極和電力線擋板組成的陽(yáng)極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢(shì)。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場(chǎng)不均問(wèn)題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來(lái)的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢(shì)斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場(chǎng)環(huán)境。通過(guò)進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場(chǎng)。從而通過(guò)改變流場(chǎng)的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過(guò)技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50片.l 可對(duì)旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過(guò)20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無(wú)刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過(guò)濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測(cè)保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長(zhǎng):?jiǎn)纹角逑囱b置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對(duì)應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問(wèn)題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩?dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽(yáng)能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://126xa.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡(jiǎn)稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房?jī)?nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說(shuō)明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過(guò)濾器:配有10” PFA材質(zhì)過(guò)濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測(cè)器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過(guò)濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化...
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硅以外的半導(dǎo)體材料探索之旅

時(shí)間: 2018-10-09
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此時(shí)此刻,半導(dǎo)體行業(yè)理所當(dāng)然地關(guān)注著摩爾定律即將發(fā)生的變化,這個(gè)著名的技術(shù)預(yù)測(cè)奠定了微電子時(shí)代驚人進(jìn)步的基礎(chǔ),以及它對(duì)硅芯片技術(shù)持續(xù)進(jìn)步和主導(dǎo)地位的潛在影響。這意味著考慮微系統(tǒng)的歷史中的另一個(gè)卓有遠(yuǎn)見的觀點(diǎn)是值得的。當(dāng)新生的高級(jí)研究計(jì)劃局(DARPA)在1959年度過(guò)一周年紀(jì)念日時(shí),加州理工學(xué)院的理查德·費(fèi)曼(Richard Feynman)教授發(fā)表了他最著名、最重要的演講之一,題為“在底部還有很大空間”。

同戈登·摩爾一樣,費(fèi)曼也預(yù)測(cè)到了微尺度系統(tǒng)內(nèi)的許多技術(shù)進(jìn)步機(jī)會(huì)。然而,費(fèi)曼的觀點(diǎn)更為寬泛,強(qiáng)調(diào)了在原子尺度上操縱結(jié)構(gòu)的能力所帶來(lái)的奇特可能性。DARPA在將包括半導(dǎo)體在內(nèi)的許多“奇異”結(jié)構(gòu)帶入現(xiàn)實(shí)生活的過(guò)程中發(fā)揮了核心作用,其能力超越了半個(gè)世紀(jì)以來(lái)硅電子所取得的二進(jìn)制處理能力。

硅以外的半導(dǎo)體材料探索之旅

費(fèi)曼的演講在20世紀(jì)80年代激發(fā)了人們對(duì)納米技術(shù)的興趣,因?yàn)樗麑?duì)納米技術(shù)的推測(cè)以及在原子尺度上定制材料的能力正逐步實(shí)現(xiàn)。當(dāng)時(shí),新興的晶體生長(zhǎng)技術(shù)正在創(chuàng)造一種稱為復(fù)合半導(dǎo)體的材料,在這種材料中,精確的化學(xué)成分或合金可以在原子水平上逐層變化。特別是GaAs及其合金作為新的神奇材料出現(xiàn),使晶體管的性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)硅的極限。DARPA發(fā)現(xiàn)新型GaAs晶體管具有更快速移動(dòng)電子的潛力,從而可以在電磁頻譜的更高頻率上工作。雖然這項(xiàng)新技術(shù)不會(huì)在高度集成的數(shù)字邏輯上取代硅技術(shù),但DARPA預(yù)計(jì)其價(jià)值將推動(dòng)下一代雷達(dá)和通信系統(tǒng)的發(fā)展。為此,DARPA在1988年從國(guó)防部長(zhǎng)辦公室(OSD)手中接過(guò)了指揮棒,開始了“微波和毫米波集成電路(MIMIC)”計(jì)劃,該計(jì)劃于兩年前由OSD提出。

DARPA的MIMIC技術(shù),特別是由它產(chǎn)生的集成技術(shù),使國(guó)防部能夠制造出無(wú)線電和雷達(dá)系統(tǒng),以比先前任何時(shí)候都更高的頻率和帶寬使用頻譜。

2018年3月11日,美國(guó)空軍一架F-16C獵鷹戰(zhàn)斗機(jī)在阿富汗上空同KC-135同溫層加油機(jī)補(bǔ)給完畢后,起飛返回巡邏區(qū)域。這架飛機(jī)的聯(lián)合直接攻擊彈藥的核心是通過(guò)DARPA的MIMIC計(jì)劃開發(fā)的高性能芯片,這種芯片也使得精確武器所需的RF和毫米波電路成為可能。

硅以外的半導(dǎo)體材料探索之旅

一名第10山地師步兵旅戰(zhàn)斗隊(duì)3-6 FA的士兵駕駛著新型精密火力拆卸系統(tǒng),該系統(tǒng)讓士兵可以通過(guò)一個(gè)應(yīng)用程序在已批準(zhǔn)的智能手機(jī)上觀看無(wú)人機(jī)上的實(shí)時(shí)流媒體全動(dòng)態(tài)視頻。世界范圍內(nèi)普遍使用的手機(jī)技術(shù)部分歸功于DARPA資助研究的GaAs半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

MIMIC計(jì)劃一直持續(xù)到1995年,對(duì)工業(yè)產(chǎn)生了深遠(yuǎn)的影響,它尋求開發(fā)將高頻材料和組件集成到軍事相關(guān)技術(shù)(如無(wú)線電和雷達(dá))中的方法和手段,并建立可靠的工業(yè)基地完成這些事情。實(shí)際上,MIMIC計(jì)劃可以實(shí)現(xiàn)GaAs晶體管技術(shù),從而產(chǎn)生一類新的RF“前端”組件。射頻系統(tǒng)的前端是在電磁頻譜中發(fā)送和接收信號(hào)的放大技術(shù)。DARPA的MIMIC技術(shù),特別是其中出現(xiàn)的集成技術(shù),使得國(guó)防部(DOD)能夠制造出比以往任何時(shí)候都能在更高頻率和帶寬上接入頻譜的無(wú)線電和雷達(dá)系統(tǒng)。GaAs技術(shù)在國(guó)防部系統(tǒng)中的應(yīng)用一直持續(xù)到今天。

除了國(guó)防應(yīng)用之外,高頻GaAs放大器為商業(yè)界提供了一個(gè)關(guān)鍵的拼圖,因?yàn)樯虡I(yè)界在上世紀(jì)90年代尋求建立新的移動(dòng)電話技術(shù)。GaAs晶體管使得裝有小電池的手提電話能夠建立與發(fā)射塔的關(guān)鍵通信鏈路。直到今天,每一部智能手機(jī)都包含一小部分GaAs來(lái)執(zhí)行這一關(guān)鍵功能,而且由于DARPA對(duì)MIMIC計(jì)劃的投資,美國(guó)在這個(gè)價(jià)值數(shù)十億美元的半導(dǎo)體行業(yè)的供應(yīng)商中享有占據(jù)主導(dǎo)地位。

GaAs技術(shù)的成功證明了硅之外的半導(dǎo)體技術(shù)的防御意義和商業(yè)可行性,并將一種曾經(jīng)新奇的研究材料變成了一種商品技術(shù)。然而,即使GaAs正在逐漸成熟,但由美國(guó)海軍研究辦公室(ONR)和其他機(jī)構(gòu)贊助的研究人員已經(jīng)開始發(fā)現(xiàn)半導(dǎo)體材料的下一個(gè)飛躍。寬帶隙半導(dǎo)體(WBGS)材料被認(rèn)為是很有前途的,因?yàn)樗鼈兡芟馟aAs那樣快速移動(dòng)電子,同時(shí)也能處理大電場(chǎng)。這種高電流和高電壓的結(jié)合驅(qū)動(dòng)了提供更多RF功率的能力。雖然世界各地也正在開發(fā)幾種候選材料,但DARPA認(rèn)為GaN及其合金最有前途,并且建立了寬帶隙半導(dǎo)體射頻(WBGS-RF)計(jì)劃來(lái)快速推進(jìn)這項(xiàng)技術(shù)。

WBGS-RF計(jì)劃試圖將尚未經(jīng)證實(shí)的有潛力的材料成熟化,使之成為可以促進(jìn)國(guó)防事業(yè)的工業(yè)技術(shù)。該計(jì)劃于21世紀(jì)初啟動(dòng),最初采用GaN材料,用直徑2英寸的小型半導(dǎo)體晶圓承載,晶圓上有大量微管或孔洞,形如瑞士奶酪。在這種不順利的狀態(tài)下,WBGS-RF計(jì)劃系統(tǒng)地解決了材料方面的挑戰(zhàn),然后逐步成功地承擔(dān)了器件和電路設(shè)計(jì)方面的挑戰(zhàn)。最終,GaN技術(shù)實(shí)現(xiàn)了它的承諾,現(xiàn)在正被用于下一代雷達(dá)技術(shù),如海軍的空中和導(dǎo)彈防御雷達(dá)(AMDR)。除此之外,還有更多的事情要做:GaN現(xiàn)在是所有主要RF半導(dǎo)體公司的技術(shù)組合的一部分。美國(guó)再次在這個(gè)新興市場(chǎng)中占據(jù)主導(dǎo)地位。

DARPA的努力使得復(fù)合半導(dǎo)體從研究邊緣發(fā)展成為主流半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。DARPA還推動(dòng)主流硅技術(shù)采用包括硅合金在內(nèi)的變體。特別值得一提的是,硅與鍺的組合是DARPA在21世紀(jì)初支持的“高效、敏捷的微系統(tǒng)技術(shù)(TEAM)”計(jì)劃所倡導(dǎo)的技術(shù)。鍺(Ge)是1947年貝爾實(shí)驗(yàn)室制造的晶體管的材料基礎(chǔ);然而,由于鍺的可靠性問(wèn)題和硅的加工優(yōu)勢(shì),鍺很快就被拋棄,人們轉(zhuǎn)而青睞硅。讓鍺回歸的理由是,盡管它本身沒有用,但是包含Ge與Si或SiGe混合的材料使得具有增強(qiáng)RF性能的器件的原子級(jí)工程可以直接構(gòu)建高密度的傳統(tǒng)硅邏輯器件。這種技術(shù)不具備GaAs和GaN等其他復(fù)合半導(dǎo)體的完整性能優(yōu)勢(shì),但它有能力生產(chǎn)混合模擬和數(shù)字功能的芯片。事實(shí)證明,這種特性非常有用,SiGe技術(shù)現(xiàn)在已成為為本地WiFi放大器等應(yīng)用提供低功耗商用解決方案的主導(dǎo),現(xiàn)在有望為5G通信提供相控陣系統(tǒng)。

GaAs、GaN和SiGe晶體管技術(shù)的這些引人注目的成功證明了通過(guò)在原子尺度上操縱晶體結(jié)構(gòu)可能實(shí)現(xiàn)的持續(xù)創(chuàng)新。然而,即使這些努力也是在硅半導(dǎo)體領(lǐng)域建立的相對(duì)容易理解的晶體管物理范例內(nèi)進(jìn)行的。微系統(tǒng)更廣泛的前沿領(lǐng)域已經(jīng)超越了材料的電子特性,正如在此過(guò)程中出現(xiàn)的一些更奇特的技術(shù)所說(shuō)明的那樣。例如,DARPA在21世紀(jì)初進(jìn)行了一系列計(jì)劃,利用半導(dǎo)體加工來(lái)制造可移動(dòng)和彎曲的微小結(jié)構(gòu),而不僅僅是傳導(dǎo)電子,支持了微型機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)的發(fā)展。MEMS技術(shù)在DARPA的支持下蓬勃發(fā)展,如今已發(fā)展成為一個(gè)價(jià)值數(shù)十億美元的產(chǎn)業(yè)。MEMS運(yùn)動(dòng)傳感器和執(zhí)行器是安全氣囊保護(hù)系統(tǒng)、導(dǎo)航,以及游戲產(chǎn)品的核心,甚至是在影院屏幕上投射電影的內(nèi)含數(shù)百萬(wàn)個(gè)的微鏡的數(shù)字微鏡芯片。

近年來(lái),DARPA率先利用所謂的相變材料來(lái)制造RF開關(guān),這種開關(guān)通過(guò)材料晶體結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)換來(lái)操作,而不是通過(guò)傳統(tǒng)的晶體管動(dòng)作。這種大規(guī)模轉(zhuǎn)換到另一種物理基礎(chǔ)和用于數(shù)字切換的材料,讓太赫茲頻段的RF開關(guān)的演示成為可能,太赫茲頻段是手機(jī)操作頻率的1000倍左右。

在DARPA的持續(xù)投資下,半導(dǎo)體技術(shù)層出不窮,它們強(qiáng)化了費(fèi)曼關(guān)于微系統(tǒng)領(lǐng)域存在的廣泛機(jī)會(huì)的觀點(diǎn)。雖然這些微米和納米的景觀已經(jīng)不是DARPA成立時(shí)的樣子,但是在底部還有很大空間!

硅以外的半導(dǎo)體材料探索之旅

?2英寸單晶GaAs晶圓,紫色是橡膠手套的反射。

硅以外的半導(dǎo)體材料探索之旅

?DARPA的GaN-on-diamond高電子遷移率晶體管(HEMT)表現(xiàn)出了改進(jìn)的熱性能,可以為RF系統(tǒng)帶來(lái)更好的性能。

硅以外的半導(dǎo)體材料探索之旅

▲?密歇根大學(xué)受DARPA資助的研究人員在定時(shí)和慣性測(cè)量單元(TIMU)方面取得了重大進(jìn)展,該單元包含了暫時(shí)無(wú)法使用GPS時(shí)所需的一切輔助導(dǎo)航。單芯片TIMU原型包含六軸IMU(三個(gè)陀螺儀和三個(gè)加速度計(jì)),并將高度精確的主時(shí)鐘集成到比一美分硬幣還小的微型系統(tǒng)中。這個(gè)IMU芯片集成了突破性器件(時(shí)鐘、陀螺儀和加速度計(jì))、材料,以及DARPA的“用于定位導(dǎo)航授時(shí)的微技術(shù)(Micro-PNT)”計(jì)劃中的設(shè)計(jì)。

來(lái)源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察



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