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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納(江蘇)CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設備制造商華林科納(江蘇)半導體設備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗設備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(126xa.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費的半導體行業(yè)相關(guān)清洗設備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關(guān)模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 華林科納(江蘇)CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統(tǒng)設計, 高穩(wěn)定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J健⒆詣涌刂颇J皆O備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納(江蘇)CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導體官網(wǎng),關(guān)注http://126xa.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化...
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CMOS圖像傳感器的工作原理

時間: 2021-03-01
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1.引言

CMOS(ComplementaryMetalOxideSemiconductor,互補金屬氧化物半導體)圖像傳感器是利用CMOS工藝制造的圖像傳感器,主要利用了半導體的光電效應,和電荷耦合器件(CCD)圖像傳感器的原理相同。

自從上世紀60年代末期,CMOS圖像傳感器與CCD圖像傳感器的研究幾乎同時起步,但由于受當時工藝水平的限制,CMOS圖像傳感器圖像質(zhì)量差、分辨率低、噪聲降不下來和光照靈敏度不夠[1],因而沒有得到重視和發(fā)展。而CCD器件因為有光照靈敏度高、噪音低、像素少等優(yōu)點一直主宰著圖像傳感器市場[2]。由于集成電路設計技術(shù)和工藝水平的提高,CMOS圖像傳感器過去存在的缺點,現(xiàn)在都可以找到辦法克服,而且它固有的優(yōu)點更是CCD器件所無法比擬的,因而它再次成為研究的熱點。

2.基本原理

CMOS型和CCD型固態(tài)圖像傳感器在光檢測方面都利用了硅的光電效應原理,不同點在于像素光生電荷的讀出方式。CMOS圖像傳感器工作原理如圖1所示[3]。根據(jù)像素的不同結(jié)構(gòu),CMOS圖像傳感器可以分為無源像素被動式傳感器(PPS)和有源像素主動式傳感器(APS)。根據(jù)光生電荷的不同產(chǎn)生方式APS又分為光敏二極管型、光柵型和對數(shù)響應型,現(xiàn)在又提出了DPS(digitalpixelsensor)概念。

CMOS圖像傳感器的工作原理?

1)無源像素被動式傳感器(PPS)

PPS的像素結(jié)構(gòu)包含一個光電二極管和一個場效應管開關(guān)V,其像素結(jié)構(gòu)如圖2所示,圖3為信號時序圖。當V選通時,光電二極管中由于光照產(chǎn)生的電荷傳送到了列選擇線,然后列選擇線下端的積分放大器將該信號轉(zhuǎn)化為電壓輸出,光電二極管中產(chǎn)生的電荷與光信號成一定的比例關(guān)系。無源像素具有單元結(jié)構(gòu)簡單、尋址簡單、填充系數(shù)高、量子效率高等優(yōu)點,但它靈敏度低、讀出噪聲大。因此PPS不利于向大型陣列發(fā)展,所以限制了應用,很快被APS代替。

CMOS圖像傳感器的工作原理?

2)有源像素主動式傳感器(APS)

APS像素結(jié)構(gòu)的基本電路如圖4所示。從圖上可以看出,場效應管V1構(gòu)成光電二極管的負載,它的柵極接在復位信號線上,當復位脈沖出現(xiàn)時,V1導通,光電二極管被瞬時復位;而當復位脈沖消失后,V1截止,光電二極管開始積分光信號。圖5為上述過程的時序圖,其中,復位脈沖首先來到,V1導通,光電二極管復位;復位脈沖消失后,光電二極管進行積分;積分結(jié)束后,V3管導通,信號輸出。

CMOS圖像傳感器的工作原理?

3)數(shù)字像素圖像傳感器(DPS)

上面提到的無源像素傳感器和器和有源像素傳感器的像素讀出均為模擬信號,于是它們又通稱為模擬像素傳感器。近年來,美國斯坦福大學提出了一種新的CMOS圖像傳感器結(jié)構(gòu)一數(shù)字像素傳感器(DPS),在像素單元里集成了ADC(Analog-to-DigitalConvertor)和存儲單元[4]。由于這種結(jié)構(gòu)的像素單元讀出為數(shù)字信號,其它電路都為數(shù)字邏輯電路,因此數(shù)字像素傳感器的讀出速度極快,具有電子快門的效果,非常適合高速應用,而且它不像讀出模擬信號的過程,不存在器件噪聲對其產(chǎn)生干擾。另外,由于DPS充分利用了數(shù)字電路的優(yōu)點,因

此易于隨著CMOS工藝的進步而提高解析度,性能也將很快達到并超過CCD圖像傳感器,并且實現(xiàn)系統(tǒng)的單片集成。

3.性能指標[5]

CMOS圖像傳感器與CCD圖像傳感器相比,具有功耗低、攝像系統(tǒng)尺寸小、可將信號處理電路與MOS圖像傳感器集成在一個芯片上等優(yōu)點。但其圖像質(zhì)量(特別是低亮度環(huán)境下)與系統(tǒng)靈活性與CCD相比相對較低。表1列出CCD與CMOS圖像傳感器的特點,從表中可見CMOS與CCD圖像傳感器各有特點,二者互為補充,不會出現(xiàn)誰消滅誰的結(jié)局),在可預見的未來將并存發(fā)展,共同繁榮圖像傳感器市場。

CMOS圖像傳感器的工作原理?

1)傳感器尺寸

CMOS圖像傳感器的尺寸越大,則成像系統(tǒng)的尺寸越大。目前,CMOS圖像傳感器的常見尺寸有1英寸、2/3英寸、1/2英寸、1/3英寸、1/4英寸等。

2)像素總數(shù)和有效像素數(shù)

像素總數(shù)是衡量CMOS圖像傳感器的主要技術(shù)指標之一。CMOS圖像傳感器的總體像素中被用來進行有效的光電轉(zhuǎn)換并輸出圖像信號的像素為有效像素。顯而易見,有效像素總數(shù)隸屬于像素總數(shù)集合。有效像素數(shù)目直接決定了CMOS圖像傳感器的分辨能力。

3)最小照度

最小照度是指在使用最大光圈增益、攝取特定目標時視頻信號輸出幅度為100IRE所對應的入射光的最小值。

4)動態(tài)范圍

動態(tài)范圍由CMOS圖像傳感器的信號處理能力和噪聲決定,反映了CMOS圖像傳感器的工作范圍。參照CCD的動態(tài)范圍,其數(shù)值是輸出端的信號峰值電壓與均方根噪聲電壓之比,通常用DB表示。

5)靈敏度

圖像傳感器對入射光功率的響應能力被稱為響應度。對于CMOS圖像傳感器來說,通常采用電流靈敏度來反映響應能力,電流靈敏度也就是單位光功率所產(chǎn)生的信號電流。

6)分辨力

分辨力是指CMOS圖像傳感器對景物中明暗細節(jié)的分辨能力。通常用調(diào)制傳遞函數(shù)(MTF)來表示,同時也可以用空間頻率(lp/mm)來表示。

7)光電響應不均勻性

CMOS圖像傳感器是離散采樣型成像器件,光電響應不均勻性定義為CMOS圖像傳感器在標準的均勻照明條件下,各個像元的固定噪聲電壓峰峰值與信號電壓的比值。

8)光譜響應特性

CMOS圖像傳感器的信號電壓Vs和信號電流Is是入射光波長λ的函數(shù)。光譜響應特性就是指CMOS圖像傳感器的響應能力隨波長的變化關(guān)系,它決定了CMOS圖像傳感器的光譜范圍。

4.關(guān)鍵技術(shù)問題及解決途徑[6]

5.1)暗電流

暗電流是CMOS圖像傳感器的難題之一。CMOS成像器件均有較大的像

素尺寸,因此,在正常范圍內(nèi)也會產(chǎn)生一定的暗電流。暗電流限制了器件的靈敏度和動態(tài)范圍。通過改進CMOS工藝,降低溫度,壓縮結(jié)面積,可降低暗電流的發(fā)生率,也可通過提高幀速率來縮短暗電流的匯集時間,從而減弱暗電流的影響。

2)噪聲

噪聲的大小直接影響CMOS圖像傳感器對信號的采集和處理,因此,如何提高信噪比是CMOS圖像傳感器的關(guān)鍵技術(shù)之一。噪聲主要包括散粒噪聲、熱噪聲、1/f噪聲、非均勻噪聲和固定模式噪聲。采取以下措施可抑制噪聲和提高靈敏度:a.采用減少失調(diào)的獨特電路,使用制造更加穩(wěn)定的晶體管專用工藝;b.每個像元內(nèi)含一個對各種變化靈敏度相對較低的放大器;c.借鑒CCD圖像傳感器的制備技術(shù),采用相關(guān)雙取樣電路技術(shù)和微透鏡陣列技術(shù);d.光敏二極管設計成針形結(jié)構(gòu)或掩埋形結(jié)構(gòu)。

3)填充系數(shù)

CMOS圖像傳感器的填充系數(shù)一般在20%~30%之間,而CCD圖像傳感器則高達80%以上,這主要是由于CMOS圖像傳感器的像素中集成了讀出電路。采用微透鏡陣列結(jié)構(gòu),在整個CMOS有源像素傳感器的像元上放置一個微透鏡將光集中到有效面積上,可以大幅度提高靈敏度和填充系數(shù)。

4)動態(tài)范圍

動態(tài)范圍是反映圖像傳感器性能的主要指標之一。目前CMOS圖像傳感器的動態(tài)范圍還稍遜于CCD,雖然對數(shù)響應型CMOS圖像傳感器的動態(tài)范圍可達140dB,但同時也增加了圖像噪聲,影響了圖像質(zhì)量提高動態(tài)范圍的方法之一就是利用PECVD超高真空系統(tǒng)以及專用集成電路(ASIC)薄膜技術(shù),改進光電二極管的材料組合,提高低灰度部位的感光度來提高動態(tài)范圍。

5.研究進展

視頻便攜式攝像機、掌上電腦、PDA和保安設備的巨大需求推動了CMOS圖像傳感器的廣泛應用。其中以APS發(fā)展最為迅速,過去工藝中各種不易解決的技術(shù)問題現(xiàn)在都能找到相應的解決辦法,圖像質(zhì)量得到大大改善,像素規(guī)模已由最初的幾萬像素發(fā)展到現(xiàn)在的幾百萬上千萬像素。CDS電路,技術(shù)彩色濾波器陣列技術(shù),數(shù)字信號處理(DSP)技術(shù),噪聲抑制技術(shù)不斷有新突破,目前CMOS傳感器大都采用0.35mm或0.5mm的CMOS制造工藝,CMOS單元面積上的像素數(shù)已與CCD相當,因此可基本達到CCD器件的高分辨率。

目前CMOS圖像傳感器主要朝著高分辨率、高動態(tài)范圍、高靈敏度、超微型化、數(shù)字化、多功能化的方向發(fā)展。隨著CMOS圖像傳感器技術(shù)的完善和發(fā)展,它的應用范圍也會不斷拓寬,全球CMOS圖像傳感器銷售量將逐年大幅度增長。


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