国产最火爆中文字幕精品亚洲无线码一区网站_国产日韩欧美中文字幕第一页_亚洲欧洲成人∨a在线观看_欧美老妇在线视频_欧美一级a做一级a做片性_又又酱游泳馆酒店_色哟哟国产精品视频_可莉被旅行者若干哭了_日韩毛片电影在线观看_高清一级不卡毛片

歡迎訪問華林科納(江蘇)半導體設備技術有限公司官網
手機網站
始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

--- 全國服務熱線 --- 0513-87733829
產品中心 Products
400-8798-096
聯(lián)系電話
聯(lián)系我們
掃一掃
QQ客服
SKYPE客服
旺旺客服
新浪微博
分享到豆瓣
Products 產品詳情
產品名稱:

廢氣處理系統(tǒng)---CSE

上市日期: 2016-06-06

?

廢氣處理系統(tǒng)-華林科納(江蘇)CSE

華林科納(江蘇)半導體CSE 的廢氣處理系統(tǒng)可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體,負壓范圍為:-500Pa -1500Pa;

?21.jpg

設備名稱

華林科納(江蘇)CSE-廢氣處理系統(tǒng)

系統(tǒng)說明

1.可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體,負壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa;

2.工藝穩(wěn)定,負壓波動在15%.

3.電壓:380V,三相五線,8KW;

4.采用英國廢氣處理系統(tǒng)工藝,CSE在原工藝上經過升級改造,新的系統(tǒng)推出市場后,客戶反映效果較好;

系統(tǒng)工作原理

為酸性/堿性/其它特殊氣體處理系統(tǒng),主要由以下幾大部分組成:負壓腔、正壓腔、初級錐形噴淋塔、三級噴淋凈化塔、高壓射流器、抽風孔、負壓動力泵、循環(huán)噴淋泵、電控系統(tǒng);

廢氣經過一級錐形噴淋塔進入負壓腔內(每個噴淋塔中間為傘裝型噴頭,對廢氣層形成水封,瞬間中和廢氣)、通過射流器產生負壓把負壓腔內的廢氣抽入正壓腔內中和(在負壓腔與正壓腔之間設有三級噴淋凈化塔,三級噴淋凈化塔內配有PP填料,配有噴嘴,再次充分噴淋中和廢氣)、處理完的氣通過正壓腔上的排氣口排出。

成功案例

河北普興電子有限公司
上海新傲半導體有限公司
上海硅酸鹽研究所中試基地
蘇州納維科技有限公司

設備制造商

華林科納(江蘇)半導體設備有限公司 126xa.cn?400-8768-096 ;18913575037

更多半導體行業(yè)廢氣處理系統(tǒng)可以關注華林科納(江蘇)半導體設備官網126xa.cn;現在咨詢400-8768-096,18913575037可立即免費獲取華林科納CSE提供廢氣處理系統(tǒng)的相關方案。

華林科納(江蘇)半導體CSE 的廢氣處理系統(tǒng)可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體,負壓范圍為:-500Pa -1500Pa

Hot Products / 熱賣產品 More
2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE華林科納(江蘇)半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(www.hlkncas.com),現在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-華林科納(江蘇)CSEChemical Dispense System System 華林科納(江蘇)半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式設備名稱華林科納(江蘇)CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10...
2016 - 03 - 08
IPA干燥設備-華林科納CSE華林科納(江蘇)CSE-IPA干燥設備主要用于材料加工 太陽能電池片 分立器件 GPP等行業(yè)中晶片的沖洗干燥工藝,單臺產量大,效率高設備名稱華林科納(江蘇)CSE-IPA干燥設備應用范圍適用于2-8”圓片及方片動平衡精度高規(guī)格工藝時間: 一般親水性晶圓片: ≤10 增加 @ 0.12 μm疏水性晶圓片: ≤30 增加 @ 0.12 μm金屬含量: 任何金屬≤ 1?1010 atoms / cm2 增加干燥斑點: 干燥后無斑點IPA 消耗量: ≤ 30 ml / run 設備制造商華林科納(江蘇)半導體設備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18913575037IPA 干燥系統(tǒng)組成: IPA干燥工藝原理 01...
2016 - 03 - 07
刻蝕方法分為:干法刻蝕和濕法刻蝕,干法刻蝕是以等離子體進行薄膜刻蝕的技術,一般是借助等離子體中產生的粒子轟擊刻蝕區(qū),它是各向異性的刻蝕技術,即在被刻蝕的區(qū)域內,各個方向上的刻蝕速度不同,通常Si3N4、多晶硅、金屬以及合金材料采用干法刻蝕技術;濕法刻蝕是將被刻蝕材料浸泡在腐蝕液內進行腐蝕的技術,這是各向同性的刻蝕方法,利用化學反應過程去除待刻蝕區(qū)域的薄膜材料,通常SiO2采用濕法刻蝕技術,有時金屬鋁也采用濕法刻蝕技術。下面分別介紹各種薄膜的腐蝕方法流程:二氧化硅腐蝕:在二氧化硅硅片腐蝕機中進行,腐蝕液是由HF、NH4F、與H2O按一定比例配成的緩沖溶液。腐蝕溫度一定時,腐蝕速率取決于腐蝕液的配比和SiO2摻雜情況。摻磷濃度越高,腐蝕越快,摻硼則相反。SiO2腐蝕速率對溫度最敏感,溫度越高,腐蝕越快。具體步驟為:1、將裝有待腐蝕硅片的片架放入浸潤劑(FUJI FILM DRIWEL)中浸泡1...
Copyright ©2005 - 2013 華林科納(江蘇)半導體設備有限公司
犀牛云提供企業(yè)云服務
華林科納(江蘇)半導體設備有限公司
地址:中國江蘇南通如皋高新區(qū)桃金東路90號
電話:0513-87733829
126xa.cn

傳真:0513-87733829
郵編:226500


X
1

QQ設置

3

SKYPE 設置

4

阿里旺旺設置

2

MSN設置

5

電話號碼管理

  • 400-8798-096
6

二維碼管理

8

郵箱管理

展開