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發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
2設備構成及詳細技術說明2.1工藝說明 2.2.臺面結構圖如下      3.設備說明3.1 排風系統(tǒng)?●排風裝置(排風壓力、風量根據(jù)實際情況或客戶要求設計)將設備內(nèi)揮發(fā)的有毒氣體抽到車間排風管道或戶外(室外排放遵守國家環(huán)保要求),避免擴散到室內(nèi);?●排風通道內(nèi)設有風量導流板,從而使排風效果達到最佳;?●本體頂部后方自帶強力抽風1個風道口裝置(每個藥劑槽對應一個),排風口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體;?●排風口處設有手動調(diào)節(jié)風門,操作人員可根據(jù)情況及時調(diào)節(jié)排風量;3.2設備防護門:?●本體前方安裝有防護隔離門,隔離門采用透明PVC板制成,前門可以輕松開合,在清洗過程中,隔離門關閉,以盡量改善工作環(huán)境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水;?●給排水排廢接頭均為活性連接;?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質(zhì)PLC可編程控制器控制全操作過程, ?●人機界面為觸摸屏,接口中有手動操作、故障報警、安全保護等功能,各工作位過程完成提前提示報警,觸摸屏選用優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品;?●觸摸屏加鎖定,以防非授權人員修改或設定參數(shù);?●所有電控部分需獨立封閉,帶抽風系統(tǒng),獨立的配電柜?●設備照明:設備其它部位--低電壓燈,根據(jù)工作需要可控照明;?●設備整體采取人性化設計,方便操作;并裝有漏電保護和聲光報警提示裝置,保證性能安全可靠;電控部分導線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導線,電氣控制部分內(nèi)部還通有壓縮空氣保護,可防水耐腐蝕;?●設備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進行保護,免受腐蝕;?●設備具有良好的接地裝置;
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
設備概況:(僅做參考)主要功能:本設備主要手動搬運方式,通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的效果。設備名稱:KOH  Etch刻蝕清洗機           設備型號:CSE-SC-NZD254整機尺寸(參考):自動設備約2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/籃)設備形式:室內(nèi)放置型;操作形式:手動各槽位主要技術工藝:設備組成:該設備主要由清洗部分、抽風系統(tǒng)及電控部分組成設備走向:方案圖按 “左進右出”方式,另可按要求設計“右進左出”方式;設備描述:此裝置是一個全自動的處理設備。8.0英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測 / 操作每個槽前上方對應操作按鈕,與觸摸屏互相配合主體材料:德國進口10mmPP板,優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架,外包3mmPP板防腐;臺面板為德國10mm PP板;DIW管路及構件采用日本進口clean-PVC管材,需滿足18M去離子水水質(zhì)要求,酸堿管路材質(zhì)為進口PFA/PVDF;采用國際標準生產(chǎn)加工,焊接組裝均在萬級凈化間內(nèi)完成;排風:位于機臺后上部工作照明:上方防酸照明三菱、歐姆龍 PLC控制。安全考慮:設有EMO(急停裝置), 強電弱點隔離所有電磁閥均高于工作槽體工作液面電控箱正壓裝置(CDA Purge)設備三層防漏  樓盤傾斜   漏液報警  設備整體置于防漏托盤內(nèi)排放管路加過濾裝置所有槽體折彎成型,可有效避免死角顆粒;更多化學品相關濕法腐蝕相關設備(KOH腐蝕刻蝕機、RCA清洗機、去膠機、外延片清洗機、酸堿腐蝕機、顯影機等)以及干燥設備(馬蘭戈尼干燥機Marangoni、單腔...
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中芯國際、華力微、長江存儲今年將紛紛啟動進入1x納米以下制程技術的深水區(qū),中芯國際明年上半14納米FinFET將風險試產(chǎn),并推進7納米研發(fā)進程;上海華力Fab6未來也將成為14納米量產(chǎn)重要基地;長江存儲今年首顆大陸自主研發(fā)快閃存儲器芯片也將邁入量產(chǎn),未來數(shù)月將進入密集裝機期。據(jù)外媒報導,中芯國際已經(jīng)訂購了一臺EUV設備,首臺EUV設備購自ASML,價值近1.2億美元。EUV是當前半導體產(chǎn)業(yè)中最先進也最昂貴的半導體制造設備,全球僅荷蘭設備商ASML供應。EUV是未來1x納米繼續(xù)走向1x納米以下的關鍵微影機臺,包括英特爾、三星、臺積電等大廠都在爭搶購買該設備。設備供應商ASML曾表示,一臺EUV從下單到正式交貨約長達22個月,若以中芯目前訂購來看,按正常交期也要2020年初左右才能到貨。按照中芯國際的技術藍圖規(guī)劃,2019年上半肩負14納米FinFET將風險試產(chǎn)任務,若2020年順利取得EUV,將可進一步向前推進至7納米。而目前研發(fā)團隊最高負責人、中芯國際聯(lián)席CEO梁孟松則扮演先進技術藍圖規(guī)劃的推手。盡管中芯目前在制造制程上仍落后于臺積電等市場領導者2~3代,但此舉已經(jīng)凸顯了中芯在研發(fā)團隊重整旗鼓之后的雄心,此時下單EUV也屬正當其時。不過下單歸下單,未來技術挑戰(zhàn)仍擁有幾大內(nèi)外變數(shù)考驗,一是先進高階設備的進口能否順利進入大陸;二是設備啟動的上海能否給予充足的電力供給;三是順利裝機之后設...
發(fā)布時間: 2018 - 05 - 29
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2018年5月,公安部一所“多維身份識別與可信認證技術國家工程實驗室”發(fā)布2018年度科研項目評審結果,由大唐電信旗下大唐微電子技術有限公司申報的“基于多維生物識別技術的終端安全芯片和平臺安全存儲芯片及其系統(tǒng)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”科研項目被評為該國家工程實驗室重點項目。“多維身份識別與可信認證技術國家工程實驗室”于2016年11月15日獲得國家發(fā)展改革委批復立項,公安部第一研究所為項目法人單位,共建單位包括清華大學、中國人民銀行印制科學技術研究所、中國科學院信息工程研究所、中國信息通信研究院、中國科學院自動化研究所、華大半導體有限公司、大唐微電子技術有限公司(以下簡稱大唐微電子)、北京遠鑒科技股份有限公司。2017年底,實驗室面向所有共建單位征集了22個科研項目,經(jīng)過評審,僅有4個項目被列為重點項目。大唐微電子獲評的該芯片產(chǎn)業(yè)化項目是唯一的芯片類重點項目。大唐微電子 “基于多維生物識別技術的終端安全芯片和平臺安全存儲芯片及其系統(tǒng)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”科研項目可以解決數(shù)據(jù)采集、身份識別、安全環(huán)境、安全傳輸和安全存儲等環(huán)節(jié)的安全難題,其芯片工藝、功能、性能、安全性等均達到國內(nèi)、乃至國際級領先水平。該項目結合終端設備和服務器后臺可實現(xiàn)多行業(yè)可信識別的產(chǎn)業(yè)化落地,有利于提升國內(nèi)可信識別產(chǎn)品安全水平,提升國家在國密安全存儲控制芯片領域的競爭力,進一步推動存儲控制芯片國產(chǎn)化進程。大唐微電子在安全芯片領域擁有二...
發(fā)布時間: 2018 - 05 - 29
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2019年3月20-22日 ,SEMICON China 2019展覽會將在上海新國際博覽中心盛大開幕。在這一年一度的半導體行業(yè)盛會上,我們將展示最新的產(chǎn)品及最前沿的技術,并期待與業(yè)界專家交流市場商機,洽談合作機會。在此,華林科納誠摯邀請您蒞臨我們的展位!華林科納展位號 【5584】▲華林科納展位號  5584重點主推產(chǎn)品濕法清洗系統(tǒng)、刻蝕系統(tǒng)、CDS系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)的四大系列數(shù)十種型號的產(chǎn)品時間:2019年3月20-22日地址:上海新國際博覽中心N5華林科納展位號:5584與 您 不 見 不 散 !
發(fā)布時間: 2019 - 01 - 07
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據(jù)知情人士透露,中國最大的晶圓代工廠中芯國際已經(jīng)訂購了一臺EUV設備,在中美兩國貿(mào)易緊張的情況下,此舉旨在縮小與市場領先者的技術差距,確保關鍵設備的供應。EUV是當前半導體產(chǎn)業(yè)中最先進也最昂貴的芯片制造設備。中芯國際的首臺EUV設備購自荷蘭半導體設備制造商ASML,價值1.2億美元。盡管中芯目前在制造工藝上仍落后于臺積電等市場領導者兩到三代,此舉仍突顯了該公司幫助提升中國本土半導體制造技術的雄心壯志,也保證了在最先進的光刻設備方面的供應。目前包括英特爾、三星、臺積電等巨頭都在購買該設備,以確保在此后的先進工藝中能制造性能更強大、設計更領先的芯片。目前,臺積電、英特爾、三星等公司都訂購了ASML的EUV設備。據(jù)供應鏈消息人士透露,臺積電今年已預訂了多達10臺該設備,三星預訂了大約6臺,英特爾在今年則預計需要3臺,全球第二大代工廠格芯也預訂了一臺。ASML在4月中旬的財報中表示,計劃在今年內(nèi)出貨20臺EUV設備,但沒有指明采購者詳情。知情人士透露,中芯國際是在4月份美國宣布對中興制裁的第二天下的訂單。他表示,中芯國際購買該價格不菲的設備獲得了來自政府背景基金的部分資助,這臺EUV設備成本與中芯去年的凈利潤1.264億美元大致相當。消息顯示,中芯預定的EUV預計在2019年初交付。長期以來,中國進口前沿芯片制造設備一直受到限制。業(yè)內(nèi)皆知的瓦森納協(xié)定是一種建立在自愿基礎上的集團性出口控制機...
發(fā)布時間: 2018 - 05 - 18
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實驗室常用的改進的RCA 清洗工藝1.水中超聲清洗:灰塵、殘余物去除2.濃硫酸、濃硫酸+雙氧水:表面污染(有機物、重金屬、微粒)      BHF去除氧化層 (to 疏水性)3.堿洗(雙氧水、氨水、水):顆粒、有機物去除      BHF去除氧化層 (to 疏水性)4.酸洗(雙氧水、鹽酸、水):微粒、金屬去除      BHF去除氧化層 (to 疏水性)5.超純水淋洗:去除離子設備組成:  中央控制系統(tǒng)及晶圓輸入端  串聯(lián)式化學酸槽、堿槽及洗滌槽  檢測系統(tǒng),包括流量監(jiān)測,溫度檢測,酸槽化學濃度校準  旋轉、干燥設備華林科納(江蘇)專業(yè)生產(chǎn)半導體濕法清洗設備包括RCA清洗設備,兆聲清洗設備,超聲清洗設備,更多詳情可以關注http://126xa.cn/ ,400-8768-096
發(fā)布時間: 2018 - 07 - 05
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記者日前從銀川經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)了解到,寧夏銀和半導體科技有限公司8英寸半導體硅片項目進入設備裝配期,8英寸半導體級單晶硅片將于6月份試生產(chǎn)。芯片制造主要分為硅片制備、芯片制造、芯片測試與挑選、裝配與封裝、終測五大環(huán)節(jié),硅片制備是第一個環(huán)節(jié),硅片質(zhì)量對于后續(xù)芯片制造至關重要。相當長的一段時間內(nèi),大尺寸硅片主要由美日德等原設備供應商供應,國內(nèi)沒有成熟的生產(chǎn)鏈。銀和半導體大硅片項目建成后,可彌補國內(nèi)生產(chǎn)半導體集成電路產(chǎn)業(yè)、汽車、計算機、消費電子、通訊、工業(yè)、醫(yī)療和國防等產(chǎn)業(yè)對8英寸半導體級單晶硅片需求,保證國內(nèi)市場供應硅片安全性及集成電路產(chǎn)業(yè)鏈的完整和穩(wěn)定。同時,降低我國對高品質(zhì)半導體硅片的進口依賴,大幅降低成本并增加產(chǎn)業(yè)競爭力,滿足我國集成電路產(chǎn)業(yè)對硅襯底基礎材料的迫切要求?!拔覀円蜒邪l(fā)了具有自主知識產(chǎn)權的40-16nm制程8英寸半導體拋光片制造技術,并實現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化?!睂幭你y和半導體科技有限公司行政總經(jīng)理浩育洲說。公司將通過開展高品質(zhì)半導體硅片的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化,建成國際先進水平的大尺寸半導體硅片產(chǎn)業(yè)化、創(chuàng)新研究和開發(fā)基地。6月份試投產(chǎn)后,可年產(chǎn)420萬片8英寸半導體級單晶硅片,項目達產(chǎn)后,年銷售收入10億元。近年來,銀川經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)先后引進了一批在國際國內(nèi)有重大影響的新材料產(chǎn)業(yè)項目,建成世界知名的單晶硅生產(chǎn)基地、國內(nèi)最大的工業(yè)藍寶石生產(chǎn)基地,正在成為國內(nèi)重要的戰(zhàn)略性新興材料生產(chǎn)基地。一季...
發(fā)布時間: 2018 - 05 - 11
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RCA清洗工藝是一種在半導體制造過程中被廣泛應用的工藝,是去除硅片表面各類玷污的有效方法。華林科納(江蘇)的工程師在本文中簡單介紹了RCA清洗工藝的原理及應用。 隨著半導體技術的發(fā)展,半導體器件和集成電路內(nèi)各元件及連線越來越微細,因此制造過程中,塵粒、金屬等的污染,對晶片內(nèi)電路功能的損壞影響越來越大。因此在制作過程中除了要排除外界的污染源外,集成電路制造工藝過程中均需要對硅片表面進行清洗,以有效地使用化學溶液清除殘留在硅片表面上的各種雜質(zhì)。 硅片是半導體器件和集成電路中使用最廣泛的基底材料,對其表面的清洗是整個硅片制造工藝中極為重要的環(huán)節(jié)之一。半導體領域中的濕式清洗技術是伴隨設備的微小化及對產(chǎn)品質(zhì)量要求的不斷提高而提高的,是以 RCA 清洗技術為基本的框架,經(jīng)過多年的不斷發(fā)展形成。完全清潔的基片表面是實現(xiàn)高性能處理的第一步。如果基底表面不完全清潔,其他處理無論如何控制也達不到高質(zhì)量的要求。 目前在國內(nèi),對硅片表面進行化學清洗的設備比較多,但大多屬于手動設備,在實際應用過程中存在工藝一致性差、效率低下、無法適應大批量生產(chǎn)等缺點。國外進口的全自動 RCA 清洗機雖然性能優(yōu)越,但售價非常昂貴,使眾多半導體生產(chǎn)廠家望而卻步。鑒于此,華林科納(江蘇)CSE自主獨立開發(fā)了全自動半導體RCA 清洗機,經(jīng)過試驗和用戶使用驗證,完全能達到用戶的使用要...
發(fā)布時間: 2018 - 07 - 06
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中國有意在半導體行業(yè)成為全球領導者。為實現(xiàn)這一目標,中國正在尋求國外資金的投資。在美國萬般阻撓中國稱霸下一代技術野心之背景下,這一亞洲大國的新舉措著實出乎人意料。部分是為了減少對國外技術的過分依賴,中國政府成立了一個基金,目標融資2000億元人民幣(約合317億美元)來支持從處理器設計商到設備制造者等一系列國內(nèi)企業(yè)。中國科技行業(yè)監(jiān)管機構本周三表示,“國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金股份有限公司”(業(yè)內(nèi)簡稱“大基金”)將接受國外的投資?!霸搰一鸬诙A段的主要目標仍然是融資。我們歡迎國外企業(yè)的加入?!惫I(yè)和信息化部(工信部)總工程師兼發(fā)言人陳因解釋道。最近全球兩大經(jīng)濟體——美國和中國——之間的紛爭核心所在便是半導體。兩國糾紛不僅使得關稅高漲,也使得中國在美國企業(yè)的投資減少,并給中國從第五代無線通訊到人工智能等的科技發(fā)展帶來重擊。美國政府正在考慮動用1977年法律。根據(jù)這項法律,唐納德·特朗普總統(tǒng)或可宣布進入國家緊急狀態(tài),以便阻止交易和沒收資產(chǎn)。隨著美國將中興通訊列入黑名單七年,北京再一次猛然意識到中國迫切需要減少自己對美國技術的依賴。針對中興的舉措反而刺激了中國現(xiàn)有的計劃——在未來十年內(nèi)投資1500億美元,逐步搶占芯片設計和制造領域的領先地位。美國高管和官員們曾多次提醒,中國的這一野心或可損害美國利益。目前,中國每年的半導體進口額約為2000億美元——差不多和石油進口額齊平。中國...
發(fā)布時間: 2018 - 04 - 26
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一.簡介  兆聲清洗是運用在半導體清洗設備中的一種比較新穎清洗技術,它不僅保存了超聲波清洗的優(yōu)點,而且克服了它的不足,它是由高頻(900khz 可根據(jù)實際使用來定)振效應并結合化學清洗劑的化學反應對硅片進行清洗的。在清洗時,由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動,最大瞬時速度可達到30cm/s。因此,形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細小微粒被強制除去并進入到清洗液中。 二.作用兆聲波清洗可去掉硅片表面上小于0.2μm的粒子,起到超聲波起不到的作用。這種方法能同時起到機械擦片和化學清洗兩種方法的作用。目前兆聲波清洗方法已成為拋光片清洗的一種有效方法。 三.結構兆聲波清洗的結構主要可以分為放著清洗晶片的石英槽體、保證在清洗過程溫度穩(wěn)定的溢流外槽、產(chǎn)生兆聲波的兆聲振盒及其發(fā)生器、保證清洗槽體內(nèi)溫度的在線加熱和根據(jù)設備使用中是否需要的自動供酸系統(tǒng),是否有其他結構可根據(jù)實際使用來進行添加。 四.使用原理  兆聲波清洗機是用在硅片清洗中的一種清洗技術,使用時首先要把清洗槽體和在線加熱內(nèi)注入適當?shù)那逑吹囊后w,注入的的方法可根據(jù)廠方的注液方式分為手動上液和自動上液,上液完成之后打開在線加熱,使溫度達到使用溫度,溫度達到時...
發(fā)布時間: 2018 - 07 - 03
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近日,常州集成電路生態(tài)產(chǎn)業(yè)園項目正式簽約落戶武進國家高新區(qū),計劃聚集全球一流的算法、芯片、固件、軟件、測試、工藝等研發(fā)團隊入駐。市委書記汪泉出席并講話。據(jù)了解,該項目總投資100億元,總規(guī)劃面積約500畝。湖南國科控股有限公司將在武進國家高新區(qū)組建系列芯片研發(fā)公司,主要從事驅(qū)動芯片、可信計算、國密安全、多媒體芯片、通訊、人工智能等芯片設計業(yè)務。同時,在國家大基金對常州集成電路產(chǎn)業(yè)的支持下,國科控股將引進其投資、參股的芯片公司或生態(tài)企業(yè),牽頭成立可信計算聯(lián)合實驗室和院士工作站,聯(lián)合有關單位成立數(shù)字版權保護(DRM)研發(fā)、測試中心,打造4K內(nèi)容管理和運營服務產(chǎn)業(yè)基地。汪泉在致辭中表示,集成電路是新一代信息技術產(chǎn)業(yè)的核心,是新時期推進經(jīng)濟社會發(fā)展和保障國家安全的戰(zhàn)略性、基礎性、先導性產(chǎn)業(yè)。目前,常州正在推進智慧城市、智能制造產(chǎn)業(yè)發(fā)展,而集成電路是智慧城市和智能制造的大腦。我國在集成電路產(chǎn)業(yè)領域和歐美等發(fā)達國家存在較大差距,必須加快推進國內(nèi)在集成電路領域的自主創(chuàng)新和自主產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。汪泉說,作為國家信息技術產(chǎn)業(yè)布局的集成電路設計企業(yè),國科承擔了眾多國家重點科研項目,填補了眾多研發(fā)空白。企業(yè)此次在武進布局集成電路生態(tài)產(chǎn)業(yè)園,是加快集成電路生態(tài)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重大舉措,為國家發(fā)展戰(zhàn)略作出貢獻。對常州、武進而言,可以彌補在集成電路領域的發(fā)展短板,有助于地方拓展延伸集成電路的完整產(chǎn)業(yè)鏈,形成常武地區(qū)新的發(fā)...
發(fā)布時間: 2018 - 04 - 23
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