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濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 14
2設(shè)備構(gòu)成及詳細(xì)技術(shù)說(shuō)明2.1工藝說(shuō)明 2.2.臺(tái)面結(jié)構(gòu)圖如下      3.設(shè)備說(shuō)明3.1 排風(fēng)系統(tǒng)?●排風(fēng)裝置(排風(fēng)壓力、風(fēng)量根據(jù)實(shí)際情況或客戶(hù)要求設(shè)計(jì))將設(shè)備內(nèi)揮發(fā)的有毒氣體抽到車(chē)間排風(fēng)管道或戶(hù)外(室外排放遵守國(guó)家環(huán)保要求),避免擴(kuò)散到室內(nèi);?●排風(fēng)通道內(nèi)設(shè)有風(fēng)量導(dǎo)流板,從而使排風(fēng)效果達(dá)到最佳;?●本體頂部后方自帶強(qiáng)力抽風(fēng)1個(gè)風(fēng)道口裝置(每個(gè)藥劑槽對(duì)應(yīng)一個(gè)),排風(fēng)口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體;?●排風(fēng)口處設(shè)有手動(dòng)調(diào)節(jié)風(fēng)門(mén),操作人員可根據(jù)情況及時(shí)調(diào)節(jié)排風(fēng)量;3.2設(shè)備防護(hù)門(mén):?●本體前方安裝有防護(hù)隔離門(mén),隔離門(mén)采用透明PVC板制成,前門(mén)可以輕松開(kāi)合,在清洗過(guò)程中,隔離門(mén)關(guān)閉,以盡量改善工作環(huán)境并減小對(duì)人體的傷害. ?●形式:上下推拉門(mén)。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水;?●給排水排廢接頭均為活性連接;?●排放方式均采用氣動(dòng)控制的方式來(lái)保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質(zhì)PLC可編程控制器控制全操作過(guò)程, ?●人機(jī)界面為觸摸屏,接口中有手動(dòng)操作、故障報(bào)警、安全保護(hù)等功能,各工作位過(guò)程完成提前提示報(bào)警,觸摸屏選用優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品;?●觸摸屏加鎖定,以防非授權(quán)人員修改或設(shè)定參數(shù);?●所有電控部分需獨(dú)立封閉,帶抽風(fēng)系統(tǒng),獨(dú)立的配電柜?●設(shè)備照明:設(shè)備其它部位--低電壓燈,根據(jù)工作需要可控照明;?●設(shè)備整體采取人性化設(shè)計(jì),方便操作;并裝有漏電保護(hù)和聲光報(bào)警提示裝置,保證性能安全可靠;電控部分導(dǎo)線采用耐高溫、耐腐蝕的專(zhuān)用導(dǎo)線,電氣控制部分內(nèi)部還通有壓縮空氣保護(hù),可防水耐腐蝕;?●設(shè)備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過(guò)PE管進(jìn)行保護(hù),免受腐蝕;?●設(shè)備具有良好的接地裝置;
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 14
設(shè)備概況:(僅做參考)主要功能:本設(shè)備主要手動(dòng)搬運(yùn)方式,通過(guò)對(duì)硅片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個(gè)用戶(hù)要求的效果。設(shè)備名稱(chēng):KOH  Etch刻蝕清洗機(jī)           設(shè)備型號(hào):CSE-SC-NZD254整機(jī)尺寸(參考):自動(dòng)設(shè)備約2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/籃)設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;操作形式:手動(dòng)各槽位主要技術(shù)工藝:設(shè)備組成:該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成設(shè)備走向:方案圖按 “左進(jìn)右出”方式,另可按要求設(shè)計(jì)“右進(jìn)左出”方式;設(shè)備描述:此裝置是一個(gè)全自動(dòng)的處理設(shè)備。8.0英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測(cè) / 操作每個(gè)槽前上方對(duì)應(yīng)操作按鈕,與觸摸屏互相配合主體材料:德國(guó)進(jìn)口10mmPP板,優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架,外包3mmPP板防腐;臺(tái)面板為德國(guó)10mm PP板;DIW管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口clean-PVC管材,需滿(mǎn)足18M去離子水水質(zhì)要求,酸堿管路材質(zhì)為進(jìn)口PFA/PVDF;采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工,焊接組裝均在萬(wàn)級(jí)凈化間內(nèi)完成;排風(fēng):位于機(jī)臺(tái)后上部工作照明:上方防酸照明三菱、歐姆龍 PLC控制。安全考慮:設(shè)有EMO(急停裝置), 強(qiáng)電弱點(diǎn)隔離所有電磁閥均高于工作槽體工作液面電控箱正壓裝置(CDA Purge)設(shè)備三層防漏  樓盤(pán)傾斜   漏液報(bào)警  設(shè)備整體置于防漏托盤(pán)內(nèi)排放管路加過(guò)濾裝置所有槽體折彎成型,可有效避免死角顆粒;更多化學(xué)品相關(guān)濕法腐蝕相關(guān)設(shè)備(KOH腐蝕刻蝕機(jī)、RCA清洗機(jī)、去膠機(jī)、外延片清洗機(jī)、酸堿腐蝕機(jī)、顯影機(jī)等)以及干燥設(shè)備(馬蘭戈尼干燥機(jī)Marangoni、單腔...
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目前在半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)中,普遍采用RCA清洗技術(shù)清洗拋光硅片,今天我們介紹一種溶浸式濕法化學(xué)清洗,串聯(lián)的SC1和兆聲去除顆粒,含O3的去離子水工藝形成均勻硅氧化膜,最后用IPA干燥。IPA干燥是利用IPA的低表面張力和易揮發(fā)的特性,取代硅片表面的具有較高表面張力的水分,然后用熱N2吹干,達(dá)到徹底干燥硅片水膜的目的。此種干燥工藝比傳統(tǒng)的離心式甩干法、真空干燥法、單純熱N2干燥法在降低金屬和顆粒站務(wù)的引入及干燥速度方面有較大的有事。但此工藝在有片盒干燥的過(guò)程中易產(chǎn)生邊緣目檢缺陷的缺點(diǎn)。針對(duì)這點(diǎn),我們?cè)谏a(chǎn)中總結(jié)了一下經(jīng)驗(yàn),并通過(guò)控制將此缺陷降到可控范圍內(nèi)。1、硅片進(jìn)入IPA干燥腔后,通過(guò)片盒支架的特殊設(shè)計(jì),使拋光面自動(dòng)與片盒脫離接觸。這樣IPA蒸氣可充分分布到拋光面表面,有利于均勻的干燥。2、PFA片盒作為硅片的載體,由于材料微觀多孔的特性,經(jīng)過(guò)反復(fù)烘干,孔被放大,加上長(zhǎng)時(shí)間的化學(xué)溶浸,少量化學(xué)物質(zhì)吸附在PFA的孔內(nèi),烘干后易在硅片上行程邊緣缺陷,因此定期處理PFA片盒是很必要的。作為濕制程設(shè)備專(zhuān)業(yè)制造商,華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備有限公司對(duì)IPA干燥系統(tǒng)有豐富的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和產(chǎn)線使用驗(yàn)證,為硅片的清洗、干燥提供有效的保障。 更多清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://126xa.cn ,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2019 - 06 - 26
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在半導(dǎo)體行業(yè)中,用于硅晶圓片和碳化硅晶圓片批量生產(chǎn)的外延爐的內(nèi)腔因?yàn)槟透邷?、透光、無(wú)物質(zhì)沾污的需求,基本使用高純度石英材料制作,除了石英鐘罩作為密閉腔體內(nèi)用途外,為了保證晶體表面生長(zhǎng)的氣流均勻性和溫度一致性,另外還會(huì)在腔體內(nèi)放置各種形狀的石英件。石英件的表面在一定次數(shù)的外延過(guò)程后,表面會(huì)沉積多種殘留物質(zhì)。這些殘留物質(zhì)在設(shè)備維護(hù)保養(yǎng)過(guò)程中定期清洗,否則會(huì)嚴(yán)重影響硅晶圓片和碳化硅晶圓片的外延層生長(zhǎng)質(zhì)量。華林科納是國(guó)內(nèi)最早致力于濕法設(shè)備的研制單位,多年來(lái)與眾多的半導(dǎo)體企業(yè)密切合作,研制開(kāi)發(fā)適合的半導(dǎo)體清洗機(jī)設(shè)備。關(guān)于鐘罩清洗機(jī),其中又有臥式或立式的分別。下圖是一個(gè)臥式的鐘罩清洗機(jī)。它的優(yōu)點(diǎn)是:1.成熟專(zhuān)業(yè)的電氣設(shè)計(jì),友好的人機(jī)交互界面,提供更好地操作體驗(yàn);2.極高的生產(chǎn)效率;3.結(jié)合最先進(jìn)工藝技術(shù),主體材質(zhì)的整潔可靠,槽體的個(gè)性化定制,輔助功能齊全;4.最佳的占地面積,節(jié)省空間;5.優(yōu)越的可靠性;6.獨(dú)特的模塊化結(jié)構(gòu);7.極其便于后期維修。它的特征是:1.可編制程序使得清洗管旋轉(zhuǎn),清洗更均勻,更全面;2.配備的PVDF工藝槽,可耐一定濃度的酸堿;3.裝有清洗溶劑的儲(chǔ)備槽(根據(jù)使用化學(xué)品的數(shù)量)放置在工藝槽的后下方—直接注入且內(nèi)部進(jìn)行不斷循環(huán),使得清洗更徹底;4.特別的噴淋嘴更益于石英管清洗;5.集成水槍和N2槍?zhuān)垣@得更好的清洗效果,6.單獨(dú)排液系統(tǒng),將廢棄的藥液統(tǒng)一排放到固定的容器內(nèi),...
發(fā)布時(shí)間: 2020 - 04 - 29
瀏覽次數(shù):153
在光學(xué)冷加工中,超聲波清洗是如何實(shí)現(xiàn)洗凈目的的呢?一般來(lái)說(shuō),清洗工藝主要以干燥的方式命名,如 IPA 工藝,是指利用 IPA(異丙醇)蒸汽進(jìn)行脫水干燥的清洗工藝,純水工藝是指利用熱純水慢提拉或冷純水甩干的方式進(jìn)行干燥的清洗工藝。當(dāng)然,還有其他的命名方式。經(jīng)過(guò)不斷的變化、發(fā)展,光學(xué)冷加工中的清洗工藝主要以 IPA 工藝和純水工藝為主?! PA干燥  IPA 工藝包括四個(gè)流程:洗滌、漂洗、脫水、干燥?!   ∫?yàn)橄礈爝^(guò)程分溶劑清洗和水基清洗,所以有不同的工藝:有先進(jìn)行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進(jìn)行水基清洗;也有先進(jìn)行溶劑清洗,再用乳化劑溶解溶劑,再進(jìn)行水基清洗的。顯然,后者在流程上更流暢、緊湊,對(duì)設(shè)備要求也簡(jiǎn)單。經(jīng)過(guò)洗滌后的鏡片表面不會(huì)有結(jié)合牢固的污垢,僅可能有一些清洗劑和松散污垢的混合物?!   ∥覀冎溃瑹o(wú)機(jī)光學(xué)玻璃是一種過(guò)冷的熔融態(tài)物質(zhì),沒(méi)有固定的分子結(jié)構(gòu),它的結(jié)構(gòu)式可描述為二氧化硅和某些金屬氧化物形成的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。其骨架結(jié)構(gòu)為鍵能很大的硅氧共價(jià)鍵,外圍是鍵能小、易斷裂的氧與金屬離子形成的離子鍵。在洗滌時(shí),由于超聲場(chǎng)和化學(xué)洗劑的共同作用,某些硅氧鍵含量少或者外圍鍵能特別小的的材料易于在清洗過(guò)程中發(fā)生變化而導(dǎo)致洗滌效果不良。所以,選擇性能溫和的洗劑、合適的洗劑濃度、溫度、超聲功率、洗滌時(shí)間對(duì)保證鏡片的清洗質(zhì)量十分重要?!   ±昧魉畬⑾礈旌箸R片表面的洗劑和污物溶解、排除的過(guò)程稱(chēng)為漂...
發(fā)布時(shí)間: 2019 - 06 - 11
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隨著我國(guó)經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展,化學(xué)包裝桶的用量 和清洗回用量一直處于增長(zhǎng)狀態(tài),華林科納(江蘇)從管理角度我國(guó) 包裝桶的清洗和再生基本劃入危廢處理范疇早, 由于包裝桶收集、清洗、利用過(guò)程涉及化學(xué)物質(zhì)眾 多,這些化學(xué)物質(zhì)具有腐蝕性、毒性、易燃性、反 應(yīng)性,廠區(qū)安全生產(chǎn)和環(huán)境污條防治晃為重要嘰 目前,除個(gè)別包裝桶清洗企業(yè)外,大部分包裝 桶清洗再生企業(yè)均存在安全隱患和環(huán)境污染問(wèn)題, 大量不規(guī)范的企業(yè)及個(gè)人收集、清洗、出售包裝 桶,造成含各種化學(xué)品的廢水被隨意排'放,一些容質(zhì)量控制及安全生產(chǎn)等眾多技術(shù)要求和規(guī) 范,從包裝桶識(shí)別、收集、分類(lèi)存放、余料收集、 分別清洗、廢物處理處置,再生加工冬過(guò)程開(kāi)展蔔 裝桶清潔星產(chǎn)和污染防治,實(shí)現(xiàn)包裝桶清洗行業(yè)的 源頭減排、再利用、資源化和無(wú)害化化學(xué)包裝桶清洗行業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)狀和問(wèn)題.我國(guó)化學(xué)包裝桶收集、清洗和再生利用行業(yè)包 含4類(lèi)企業(yè),一類(lèi)是原料和產(chǎn)品生產(chǎn)企業(yè),產(chǎn)品相 對(duì)單一,使用包裝桶量大,回收自用同類(lèi)包裝桶, 這些企業(yè)一般有較完善處理處置設(shè)施;其次是具有 危廢收集處理資質(zhì)的大、中型綜合包裝桶清洗、再 生企業(yè),具有較完善的處理處置設(shè)施,但由于包裝 桶涉及化學(xué)物質(zhì)復(fù)雜,或多或少的存在環(huán)境問(wèn)題; 第三是非法收集和清洗企業(yè),有一定規(guī)模,具有流 動(dòng)性,隱蔽性強(qiáng)的特點(diǎn),但部分也相對(duì)固定,沒(méi)有 水處理設(shè)施或僅有簡(jiǎn)陋的水池,一般要實(shí)施有價(jià)余 料收集;此外,非法個(gè)人收集和非法...
發(fā)布時(shí)間: 2020 - 05 - 08
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近年來(lái)衍射光柵技術(shù)、全息術(shù)、傅里葉光學(xué)和計(jì)算全息等技術(shù)推動(dòng)了衍射光學(xué)理論的發(fā)展,特別是在衍射光學(xué)器件方面的研究已經(jīng)達(dá)到了實(shí)用化的水平。衍射光學(xué)器件的特點(diǎn)DOE的特點(diǎn)則是具有高衍射效率、獨(dú)特的色散性能、更多的設(shè)計(jì)自由度、寬廣的材料可選性,并具有特殊的光學(xué)性能,因此DOE成為實(shí)現(xiàn)離軸照明的理想元件。一般用于光刻系統(tǒng)離軸照明的DOE,其子單元個(gè)數(shù)需衍射的概念光沿著直線傳播,當(dāng)光穿過(guò)一個(gè)小孔或經(jīng)過(guò)一個(gè)輪廓分明的邊緣時(shí),沿小孔邊緣產(chǎn)生了干涉圖形,結(jié)果得到了一個(gè)模糊的圖像,而不是希望出現(xiàn)在光和陰影之間的清晰邊緣,光看上去沿狹縫邊緣彎曲了。這種現(xiàn)象被稱(chēng)做衍射。衍射光學(xué)器件的主要應(yīng)用1.光束整形(1)平頂光束整形“ Top-Hat ”或“ Flat-Top ”光束整形是衍射光學(xué)器件(DOE),用于將近高斯入射激光束轉(zhuǎn)換為圓形,矩形,正方形,線形或均勻強(qiáng)度(平坦)點(diǎn)或在特定工作平面中具有鋒利邊緣的其他形狀。頂帽(平頂)光束整形器的典型應(yīng)用包括:激光燒蝕,激光焊接,激光穿孔,激光劃線,醫(yī)療和美學(xué)激光應(yīng)用。(2)光束擴(kuò)散器/光束勻質(zhì)器英文名為BeamHomogenizer / Optical Diffuser,使用勻化鏡能把單模或多模的準(zhǔn)直輸入光束,轉(zhuǎn)換為能量分布高度均勻的光斑。光斑的波長(zhǎng)和形狀輪廓都可自定義,形狀一般為圓形、正方形、直線、長(zhǎng)方形、六邊形、橢圓形等任意形狀。光束均化鏡在許多需要明確定義光...
發(fā)布時(shí)間: 2020 - 04 - 29
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新冠病毒的來(lái)臨,讓全社會(huì)嚴(yán)陣以待。全球不斷攀升的確診人數(shù)對(duì)半導(dǎo)體市場(chǎng)和供應(yīng)鏈都造成了一定壓力。然而壓力面前,具有前瞻性的企業(yè)卻不懼疫情影響,逆勢(shì)而上,增資提產(chǎn),為今后長(zhǎng)期的發(fā)展提前做好準(zhǔn)備。這些消息釋放出來(lái)也極大地提振了全行業(yè)的士氣。形勢(shì)嚴(yán)峻新冠病毒向行業(yè)施壓2019年,全球半導(dǎo)體行業(yè)進(jìn)入下行周期,智能手機(jī)、PC、筆記本電腦等需求放緩導(dǎo)致了半導(dǎo)體市場(chǎng)的下滑。專(zhuān)家原本預(yù)測(cè)2020年半導(dǎo)體或?qū)⒅鼗厣仙壍溃?G的部署與AI的需求將成為推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)復(fù)蘇的強(qiáng)勁動(dòng)力。然而,新型冠狀病毒肺炎疫情的突然發(fā)生,為半導(dǎo)體行業(yè)回暖帶來(lái)不確定性。集邦咨詢(xún)認(rèn)為,疫情擴(kuò)大使得未來(lái)終端需求能見(jiàn)度降低,尤以專(zhuān)注于智能手機(jī)與消費(fèi)性電子領(lǐng)域的IC設(shè)計(jì)業(yè),2020年第二季度營(yíng)收可能受到較大影響。集邦咨詢(xún)修改了2020年第一季度智能手機(jī)生產(chǎn)總數(shù)的預(yù)估,下調(diào)至2.75億只,較去年同期衰退約12%,為近5年來(lái)新低。疫情帶來(lái)壓力的同時(shí),也推動(dòng)人們對(duì)網(wǎng)絡(luò)通信給予更多的依賴(lài)與重視。市場(chǎng)重新評(píng)估數(shù)據(jù)中心、人工智能的價(jià)值。一大批人工智能、5G芯片企業(yè)產(chǎn)品加速落地。研究機(jī)構(gòu)預(yù)計(jì),2020年我國(guó)人工智能市場(chǎng)將再續(xù)輝煌,市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到42.5億美元,預(yù)計(jì)年增長(zhǎng)率約為51.5%。而在5G通信方面,華為中國(guó)運(yùn)營(yíng)商業(yè)務(wù)部副總裁楊濤預(yù)測(cè),到2023年,與5G相關(guān)的半導(dǎo)體收入將達(dá)到208億美元以上。雖然疫情的爆發(fā)帶給半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)些許沖擊,然5G與A...
發(fā)布時(shí)間: 2020 - 04 - 21
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根據(jù)研究數(shù)據(jù)顯示,在大規(guī)模量產(chǎn)方面,首屈一指的當(dāng)然是日本三洋,現(xiàn)有產(chǎn)能1GW,量產(chǎn)效率達(dá)23%。除此之外,具有較成熟HIT技術(shù)的還有Keneka、Sunpreme、Solarcity、福建均石、晉能、新奧、漢能等企業(yè)。  圖表:國(guó)內(nèi)外HIT太陽(yáng)能電池產(chǎn)業(yè)化情況(單位:%,MW) 目前HIT產(chǎn)品的量產(chǎn)難點(diǎn)主要包括以下幾方面:   (1)高質(zhì)量硅片:相較常規(guī)N型產(chǎn)品,HIT電池對(duì)硅片質(zhì)量有更高的要求,需要謹(jǐn)慎選擇硅片供應(yīng)商。   (2)制絨后硅片表面潔凈度的控制:HIT電池對(duì)硅片表面潔凈度要求非常高,需要平衡硅片清洗潔凈程度和相關(guān)化學(xué)品以及水的消耗。   (3)各工序Q-time控制:HIT電池在完成非晶硅鍍膜之前,對(duì)硅片暴露在空氣中的時(shí)間以及環(huán)境要求比較嚴(yán)苛,需要注意各工序Q-time的控制。   (4)生產(chǎn)連續(xù)性對(duì)于TCO鍍膜設(shè)備的影響:TCO鍍膜必須保證連續(xù)投料,否則良率和設(shè)備狀況都會(huì)受到影響,尤其在產(chǎn)線剛投產(chǎn)時(shí),保持生產(chǎn)連續(xù)性是一大挑戰(zhàn)。   (5)高粘度漿料的連續(xù)印刷穩(wěn)定性:在HIT電池制備過(guò)程中,漿料粘度大導(dǎo)致的虛印斷柵現(xiàn)象較多,需要數(shù)倍于常規(guī)產(chǎn)線的關(guān)注。   (6)焊帶拉力的穩(wěn)定性:拉力穩(wěn)定的窗口窄,雙玻雙面發(fā)電的組件結(jié)構(gòu)進(jìn)...
發(fā)布時(shí)間: 2019 - 05 - 05
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一、無(wú)源晶振與有源晶振的對(duì)比1. 無(wú)源晶振是有2個(gè)引腳的無(wú)極性元件,需要借助于時(shí)鐘電路才能產(chǎn)生振蕩信號(hào),自身無(wú)法振蕩起來(lái),無(wú)源晶振需要用DSP片內(nèi)的振蕩器,在datasheet上有建議的連接方法。無(wú)源晶振沒(méi)有電壓的問(wèn)題,信號(hào)電平是可變的,也就是說(shuō)是根據(jù)起振電路來(lái)決定的,同樣的晶振可以適用于多種電壓,可用于多種不同時(shí)鐘信號(hào)電壓要求的DSP,而且價(jià)格通常也較低,因此對(duì)于一般的應(yīng)用如果條件許可建議用晶體,這尤其適合于產(chǎn)品線豐富批量大的生產(chǎn)者。2. 有源晶振有4只引腳,是一個(gè)完整的振蕩器,里面除了石英晶體外,還有晶體管和阻容元件 。有源晶振不需要DSP的內(nèi)部振蕩器,信號(hào)質(zhì)量好,比較穩(wěn)定,而且連接方式相對(duì)簡(jiǎn)單(主要是做好電源濾波,通常使用一個(gè)電容和電感構(gòu)成的PI型濾波網(wǎng)絡(luò),輸出端用一個(gè)小阻值的電阻過(guò)濾信號(hào)即可),不需要復(fù)雜的配置電路。有源晶振相比于無(wú)源晶體通常體積較大,但現(xiàn)在許多有源晶振是表貼的,體積和晶體相當(dāng),有的甚至比許多晶體還要小。二、無(wú)源晶振與有源晶振的優(yōu)缺點(diǎn)無(wú)源晶振相對(duì)于晶振而言其缺陷是信號(hào)質(zhì)量較差,通常需要精確匹配外圍電路(用于信號(hào)匹配的電容、電感、電阻等),更換不同頻率的晶體時(shí)周邊配置電路需要做相應(yīng)的調(diào)整。使用時(shí)建議采用精度較高的石英晶體,盡可能不要采用精度低的陶瓷晶體。相對(duì)于無(wú)源晶體,有源晶振的缺陷是其信號(hào)電平是固定的,需要選擇好合適輸出電平,靈活性較差,...
發(fā)布時(shí)間: 2020 - 04 - 29
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簡(jiǎn)單介紹一下晶振?!笆⒕д瘛本褪怯檬⒉牧献龀傻氖⒕д裰C振器產(chǎn)生頻率的作用,具有穩(wěn)定,抗干擾性能良好,廣泛應(yīng)用于各種電子產(chǎn)品中。石英晶振是晶振中的一種,晶振的正確分類(lèi)方法是石英晶振和陶瓷晶振,顯而易見(jiàn)石英和陶瓷就是對(duì)晶振材質(zhì)的區(qū)分。石英晶振 是一種用于穩(wěn)定頻率和選擇頻率的電子元件,已被廣泛地使用在無(wú)線電話、載波通訊、廣播電視、衛(wèi)星通訊、數(shù)字儀表、鐘表等各種電子設(shè)備中。晶體諧振器和晶體振蕩器的區(qū)別石英晶體諧振器是一種無(wú)源晶體,石英晶體振蕩器角度來(lái)說(shuō)就是有源晶振。而無(wú)源晶體和有源晶振的區(qū)別就在于,前者無(wú)電壓范圍,后者有電壓;再一個(gè)區(qū)別就在于后者的價(jià)格往往要高于前者價(jià)格的幾倍。兩個(gè)名次術(shù)語(yǔ)如同雙胞胎,僅一字之差。而正是這一字之差使得兩者的屬性參數(shù)在電路板中都有著決然不同的角色。如何正確區(qū)分石英晶體諧振器和石英晶體振蕩器簡(jiǎn)而言之即是晶體諧振器和晶體振蕩器的差別在哪里,我們先不看它的材質(zhì)。共同點(diǎn):1、晶體諧振器和晶體振蕩器都有貼片封裝和插件封裝。2、晶體諧振器和晶體振蕩器使用范圍都一致。通信,無(wú)線,GPS隨處可見(jiàn)他們的身影。不同點(diǎn):1、晶體振蕩器價(jià)格往往要比晶體諧振器價(jià)格高。2、晶體振蕩器參數(shù)有電壓?jiǎn)挝唬w諧振器參數(shù)不會(huì)有電壓?jiǎn)挝弧?、晶體振蕩器腳位均是4腳以上包括4腳,晶體諧振器通常是2腳或者4腳,不會(huì)存在4腳以上的晶體諧振器。4、晶體振蕩器的高度往往要高于晶體諧振器。5、...
發(fā)布時(shí)間: 2020 - 04 - 29
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據(jù)中國(guó)臺(tái)灣媒體報(bào)道,韓國(guó)產(chǎn)業(yè)通商資源部昨(20)日宣布,韓國(guó)化學(xué)大廠SKC目前正對(duì)用于半導(dǎo)體制程的光罩基板(Mask Blank)的試作樣品展開(kāi)測(cè)試,預(yù)計(jì)2020年下半年正式展開(kāi)量產(chǎn)。據(jù)報(bào)導(dǎo),韓國(guó)的半導(dǎo)體制造中,其光罩基板約90%依賴(lài)日本供應(yīng),同時(shí)光罩基板也是韓國(guó)大量進(jìn)口自日本的20種高科技材料之一,韓國(guó)政府希望在20種主要材料、零件、設(shè)備,能脫離對(duì)日貨的倚賴(lài),而光罩基板就名列其中。資料顯示,SKC與SK海力士同屬于SK集團(tuán)旗下,自1976年成立以來(lái),在韓國(guó)最早開(kāi)發(fā)及生產(chǎn)了不計(jì)其數(shù)的薄膜、化學(xué)、材料領(lǐng)域的產(chǎn)品,其核心部門(mén)為薄膜和化學(xué)部門(mén)。自2018年開(kāi)始,SKC已投入430億韓元(約3500萬(wàn)美元)用于建設(shè)光罩基板廠,并于2019年建成,SKC不僅計(jì)劃在2020年內(nèi)開(kāi)始光罩基板的量產(chǎn),同時(shí)也計(jì)劃在2021年量產(chǎn)更高端的產(chǎn)品。2019年7月,日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省宣布,將對(duì)用于智能手機(jī)及電視機(jī)的半導(dǎo)體等制造過(guò)程中需要的三種材料加強(qiáng)對(duì)韓國(guó)的出口管制,這三種材料分別為用于半導(dǎo)體清洗的氟化氫、用于智能手機(jī)顯示屏等的氟化聚酰亞胺,以及涂覆在半導(dǎo)體基板上的感光劑“光刻膠”。對(duì)此,韓國(guó)也出臺(tái)了相關(guān)措施以應(yīng)對(duì)日本針對(duì)韓國(guó)的出口管制措施。如提出了100大核心戰(zhàn)略產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)化計(jì)劃,將投入7.8萬(wàn)億韓元的研發(fā)費(fèi)用,在1至5年內(nèi)實(shí)現(xiàn)核心戰(zhàn)略產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)化,而韓國(guó)企業(yè)也在加速在該領(lǐng)域的國(guó)產(chǎn)化。2019年,外媒曾報(bào)道,SK...
發(fā)布時(shí)間: 2020 - 04 - 21
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