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發(fā)布時間: 2016 - 11 - 02
全自動濕法去膠清洗機-華林科納(江蘇)CSE華林科納CSE濕法處理設備是國內最早致力于集成電路濕法設備的研制單位,多年來與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作,研制開發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設備 設備名稱華林科納(江蘇)CSE-全自動濕法去膠清洗機設備設備概況尺寸(參考):約3500(L)*1500(W)*2000(H)(具體尺寸根據(jù)實際圖紙確定)清洗件規(guī)格:一次性可裝8寸晶片25pcs典型生產(chǎn)節(jié)拍:5~10min/籃(清洗節(jié)拍連續(xù)可調)門:不銹鋼合頁門+PVC視窗主題構造特點設備由于是在一個腐蝕的環(huán)境,我們設備的排風方式,臺面下抽風,每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋,槽蓋下有單獨的抽風裝置。設備結構外型,整機主要由機架、工藝槽體、機械手傳輸系統(tǒng)、排風系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、水路系統(tǒng)及氣路系統(tǒng)等組成。由于工藝槽內藥液腐蝕性強,設備需要做防腐處理:(1)設備機架采用鋼結構骨架包塑;(2)殼體采用鏡面SUS316L不銹鋼焊接,制程區(qū)由耐腐蝕的SUS316L板材組合焊接而成:(3)電氣區(qū)設置在設備后上部,與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離;(4)槽體材料選用耐相應溶液腐蝕的材料;(5)機械手探人濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理。應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等設備制造商華林科納(江蘇)半導體設備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18913575037更多全自動濕法去膠清洗機設備可以關注華林科納(江蘇)半導體設備官網(wǎng)126xa.cn;現(xiàn)在咨詢400-8768-096,18913575037可立即免費獲取華林科納CSE提供的全自動濕法去膠清洗機設備的相關方案
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 07
金屬剝離清洗機-華林科納(江蘇)CSE微機電系統(tǒng)(MEMS)是指用微機械加工技術制作的包括傳感器/微致動器/微能源/等微機械基本部分以及高性能的電子集成線路組成的微機電器件與裝置。其典型的生產(chǎn)工藝流程為:成膜工藝(氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:濺射/電鍍/摻雜:擴散 注入 退火)→光刻圖形(旋涂/光刻/顯影)→干法/濕法/ 刻蝕(濕法刻蝕/硅刻蝕/SiO?刻蝕/去膠清洗/金屬刻蝕/金屬剝離/RCA清洗)設備名稱華林科納(江蘇)CSE-金屬剝離清洗機設備系列CSE-CX13系列設備概況尺寸(參考):機臺尺寸 : 1750mmWx1400mmDx1900mmH(具體尺寸根據(jù)實際圖紙確定)清洗量:6寸25裝花籃2籃;重量:500Kg( 大約);工作環(huán)境:室內放置;主體構造特點外 殼:不銹鋼304 板組合焊接而成。安全門:無安全門,采用敞開式設計;管路系統(tǒng):藥液管路采用不銹鋼管,純水管路采用CL-PVC管;閥門:藥液管路閥門采用不銹鋼電磁閥門;排 風:后下抽風,動力抽風法蘭位于機臺上部;水汽槍:配有水氣槍各2把,分置于兩側;隔板:藥液槽之間配有隔離板,防止藥液交叉污染;照明:機臺上方配照明(與工作區(qū)隔離);機臺支腳:有滑輪裝置及固定裝置,并且有高低調整及鎖定功能。三色警示燈置于機臺上方明顯處。工作槽參數(shù)剝離洗槽槽體:不銹鋼316,有效尺寸405×220×260mm;化學藥品:剝離洗液;藥液供液:人工手動加入;工作溫度:60℃并可調;溫度可調;加熱方式:五面體貼膜加熱/投入式加熱器加入熱;液位控制:采用N2背壓數(shù)位檢測; 計時功能:工藝時間可設定,并可調,到設定時間后聲鳴提示,點擊按鈕后開始倒序計時;批次記憶:藥液使用次數(shù)可記憶,藥液供入時間可記憶,設定次數(shù)和設定時間到后更換藥液;排液:排液管道材質為不銹鋼管,按鈕控制;槽蓋:配有手動槽蓋;IPA槽...
發(fā)布時間: 2016 - 12 - 05
管道清洗機設備—華林科納CSE半自動石英管清洗設備適用于臥式或立式石英管清洗優(yōu)點石英管清洗:臥式—標準/立式—選項 先進的圖形化界面 極高的生產(chǎn)效率 最佳的占地 結合最先進工藝技術 優(yōu)越的可靠性 獨特的模塊化結構 極其便于維修 應用 清洗不同尺寸的石英管一般特征 可編程使得清洗管旋轉,清洗更干凈 PVDF工藝槽 裝有清洗溶劑的儲備槽(根據(jù)使用化學品的數(shù)量)放置在工藝槽的后下方 — 直接注入且內部進行不斷循環(huán) 特別的噴淋嘴更益于石英管清洗 集成水槍和N2搶 單獨排液系統(tǒng) 安全蓋子 易于操作和控制 節(jié)約用酸系統(tǒng) 全自動的清洗工藝步驟 備件 經(jīng)濟實惠的PP外殼材料—標準更多的石英管道清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(126xa.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
1、設備概況:主要功能:本設備主要采用手動搬運方式,通過對擴散、外延等設備的石英管、碳化硅管腐蝕、漂洗等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的清洗效果。主體采用德國勞士領 瓷白PP板,骨架采用不銹鋼 外包PP 防腐板;設備名稱:半自動石英管清洗機設備型號:CSE-SC-N401整機尺寸(參考):4500mm*1500mm*2100mm;被清洗爐管尺寸(Max):也可清洗其它可放入清洗槽中的石英器皿等被清洗物設備形式:室內放置型;節(jié)拍:約1--12小時(節(jié)拍可調根據(jù)實際工藝時間而定)      操作形式:半自動2、設備描述:此裝置是一個半自動的處理設備。PROFACE 8.0英寸大型觸摸屏顯示 / 檢測 / 操作清洗工作過程由三菱 / 歐姆龍PLC控制。3、設備特點: 腐蝕漂洗能力強,性能穩(wěn)定,安全可靠;設備成本合理,自動化程度高,使用成本低;技術先進,結構合理,適宜生產(chǎn)線上大批次操作;結合華林科納公司全體同仁之力,多年品質保障,使其各部分遠遠領先同類產(chǎn)品;設備上層電器控制系統(tǒng)及抽風系統(tǒng),中層工作區(qū),下層為管道安裝維修區(qū),主體結構由清洗機主體、酸洗槽、水清洗槽、防漏盤、抽風系統(tǒng)、工件滾動系統(tǒng)、氮氣鼓泡系統(tǒng)、支撐及旋轉驅動機構、管路部分、電控部分。本設備裝有雙防漏盤結構,并有防漏檢測報警系統(tǒng),在整臺設備的底部裝有接液盤。設備配有在槽體下方配有傾斜式防漏層。4、工藝流程:檢查水、電、氣正常→啟動電源→人工上料→注酸→槽體底部氮氣鼓泡→石英管轉動(7轉/min)→進入酸泡程序→自動排酸(到儲酸箱)→槽體底部自動注水(同時氣動碟閥關閉)→懸浮顆粒物經(jīng)過溢流壩流出→排水碟閥打開(重顆粒雜質排出)→初級潔凈水經(jīng)過溢流壩溢出→清洗次數(shù)重復循環(huán)(人工控制)→下料。 酸洗和水洗在同一槽內完成1#,2#可通過循環(huán)泵循環(huán)使用...
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 08
KOH etching is a chemical process used for the fabrication of silicon nanostructures. This etching process has been studied extensively in both research and real-world applications.CSE  provides individualized solutions for customers that want to use this process by using theKOH etching tank along with their existing wet bench equipment. All ofCSE’s KOH tanks are manufactured on site and built per your specifications. All PFA material is used for cleanliness and compatibility.Definition of KOH EtchingPotassium Hydroxide (KOH) etching is a wet chemical etching process used to create cavities in silicon. Highly corrosive alkaline chemical compound (pH 12) is used in conjunction with DI water and thermal regulation. The etch rate is limited; and the precision of Si etching...
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 08
WET PROCESSING-MANUAL WET BENCHESWet Processing Manual Wet Bench Stations for Clean Room ApplicationsCSE’s wet processing manual wet benches are available in a wide variety of configurations. Standard construction will support both acid and solvent applications. Our standard wet benches give you all of the process and safety features as our fully automated or semi-automatedwet bencheswithout the extra cost for robotics. Our electrical and mechanical engineers prepare sign off drawings for each wet bench order. Our 30 plus years of continues business operation gives you the satisfaction you deserve. All process, etching or cleaning components are built and designed in-house giving you complete turnkey support.Benefits of Wet Processing Manual Benches:§ High end manual eq...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 02
Single cavity vertical dryer -CSEApplication of CSE cleaning system to various cleaning and drying processes AdvantageCSE cleaning system is applied to various cleaning and drying processesDifferent configurations (devices that can be placed on desktop operations, single independent, double chambers) for wafer size to 200mm best area, equipment with rollers can be movedSuperior reliabilityUnique modular structure it is extremely easy to repairEasy to use and operate The cleaning and drying machine is equipped with two kinds of automatic and manual systems. It is capable of complicate and different process requirements. Its stability and ease of operation will bring additional economic benefits to any factory. RinseSte can handle wafers of different sizes. The software program th...
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3月21日,華林科納在SEMICON China 2019 展會結束之后,在上海世紀皇冠假日酒店舉辦半導體制造企業(yè)沙龍,來自政府、行業(yè)協(xié)會、業(yè)內專家、企業(yè)代表、媒體代表近百位嘉賓參加本次會議。本次企業(yè)沙龍致力于推動半導體濕制程工藝領域的信息交流與合作,整合創(chuàng)新資源,探索行業(yè)管理和科技服務的新模式,進一步促進產(chǎn)業(yè)發(fā)展與技術進步。現(xiàn)場氣氛非常融洽。
發(fā)布時間: 2019 - 04 - 01
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3月20日,SEMICON China 2019中國半導體展開展第一天,華林科納展區(qū)一經(jīng)亮相,便圈粉無數(shù)?,F(xiàn)場快報,帶您一起去看看華林科納的新技術,新產(chǎn)品、新亮點!!感謝各位親愛的朋友們,第一天就快要把我們的展位擠爆了。大家對我們的濕制程設備、閥門等都非常感興趣,得到了新老客戶的贊譽。趕快來我們的展位  N5-5584 ,從上海新國際展覽中心3號門入口可直達5號館,超大超全的產(chǎn)品展示,恭候您的大駕。今年我們的準備的禮品都非常不錯哦,只要拉到最下掃碼關注我們,來展會現(xiàn)場出示公眾號即可得到,數(shù)量有限,要抓緊啦。
發(fā)布時間: 2019 - 04 - 01
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2019年3月20-22日SEMICON China 將在上海新國際博覽中心舉辦。25年來,SEMICON China伴隨著中國半導體產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展而成為中國權威的半導體行業(yè)盛會之一。展會開始進入倒計時了!我們期待您的大駕光臨,在此奉上貼心的《參觀指南》。
發(fā)布時間: 2019 - 03 - 16
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3月5日下午,在華林科納南通生產(chǎn)基地會議室組織了2019年的第一場技術培訓,公司銷售部、技術部、生產(chǎn)部、資材部、采購部等部門悉數(shù)參加。華林科納超聲設備專家朱洪崗先生講課主講人華林科納超聲設備專家朱洪崗先生在本次培訓會上做了關于《超聲波設備原理》的主題培訓,通過超聲波清洗原理、清洗效果與特點、設備的基本構造、設備使用保養(yǎng)四個版塊展開培訓。認真的聽課參加培訓的同事們積極討論,針對超聲波核心技術在公司項目中的應用提出了自己的見解,現(xiàn)場氣氛熱烈。仔細的記筆記通過此次培訓,促使各部門同事更加深入了解超聲波清洗的應用和方案選擇,有利于部門相互協(xié)作,幫助客戶更加精準地選擇和使用華林科納的產(chǎn)品。培訓受到了公司各部門的歡迎和好評,后續(xù)的培訓將定期舉行。
發(fā)布時間: 2019 - 03 - 07
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SEMICON China 2019 展會將在上海新國際博覽中心舉行。在展覽期間,華林科納 N5-5584 展位將會展示濕制程領域的設備解決方案,并將于 3月21日 舉辦客戶答謝酒會。感謝您一直以來對華林科納的支持與厚愛,真誠期待您的光臨,共創(chuàng)我們美好未來。—— 華林集團
發(fā)布時間: 2019 - 03 - 05
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2019年3月20-22日 ,SEMICON China 2019展覽會將在上海新國際博覽中心盛大開幕。在這一年一度的半導體行業(yè)盛會上,我們將展示最新的產(chǎn)品及最前沿的技術,并期待與業(yè)界專家交流市場商機,洽談合作機會。在此,華林科納誠摯邀請您蒞臨我們的展位!華林科納展位號 【5584】▲華林科納展位號  5584重點主推產(chǎn)品濕法清洗系統(tǒng)、刻蝕系統(tǒng)、CDS系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)的四大系列數(shù)十種型號的產(chǎn)品時間:2019年3月20-22日地址:上海新國際博覽中心N5華林科納展位號:5584與 您 不 見 不 散 !
發(fā)布時間: 2019 - 01 - 07
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實驗室常用的改進的RCA 清洗工藝1.水中超聲清洗:灰塵、殘余物去除2.濃硫酸、濃硫酸+雙氧水:表面污染(有機物、重金屬、微粒)      BHF去除氧化層 (to 疏水性)3.堿洗(雙氧水、氨水、水):顆粒、有機物去除      BHF去除氧化層 (to 疏水性)4.酸洗(雙氧水、鹽酸、水):微粒、金屬去除      BHF去除氧化層 (to 疏水性)5.超純水淋洗:去除離子設備組成:  中央控制系統(tǒng)及晶圓輸入端  串聯(lián)式化學酸槽、堿槽及洗滌槽  檢測系統(tǒng),包括流量監(jiān)測,溫度檢測,酸槽化學濃度校準  旋轉、干燥設備華林科納(江蘇)專業(yè)生產(chǎn)半導體濕法清洗設備包括RCA清洗設備,兆聲清洗設備,超聲清洗設備,更多詳情可以關注http://126xa.cn/ ,400-8768-096
發(fā)布時間: 2018 - 07 - 05
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RCA清洗工藝是一種在半導體制造過程中被廣泛應用的工藝,是去除硅片表面各類玷污的有效方法。華林科納(江蘇)的工程師在本文中簡單介紹了RCA清洗工藝的原理及應用。 隨著半導體技術的發(fā)展,半導體器件和集成電路內各元件及連線越來越微細,因此制造過程中,塵粒、金屬等的污染,對晶片內電路功能的損壞影響越來越大。因此在制作過程中除了要排除外界的污染源外,集成電路制造工藝過程中均需要對硅片表面進行清洗,以有效地使用化學溶液清除殘留在硅片表面上的各種雜質。 硅片是半導體器件和集成電路中使用最廣泛的基底材料,對其表面的清洗是整個硅片制造工藝中極為重要的環(huán)節(jié)之一。半導體領域中的濕式清洗技術是伴隨設備的微小化及對產(chǎn)品質量要求的不斷提高而提高的,是以 RCA 清洗技術為基本的框架,經(jīng)過多年的不斷發(fā)展形成。完全清潔的基片表面是實現(xiàn)高性能處理的第一步。如果基底表面不完全清潔,其他處理無論如何控制也達不到高質量的要求。 目前在國內,對硅片表面進行化學清洗的設備比較多,但大多屬于手動設備,在實際應用過程中存在工藝一致性差、效率低下、無法適應大批量生產(chǎn)等缺點。國外進口的全自動 RCA 清洗機雖然性能優(yōu)越,但售價非常昂貴,使眾多半導體生產(chǎn)廠家望而卻步。鑒于此,華林科納(江蘇)CSE自主獨立開發(fā)了全自動半導體RCA 清洗機,經(jīng)過試驗和用戶使用驗證,完全能達到用戶的使用要...
發(fā)布時間: 2018 - 07 - 06
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一.簡介  兆聲清洗是運用在半導體清洗設備中的一種比較新穎清洗技術,它不僅保存了超聲波清洗的優(yōu)點,而且克服了它的不足,它是由高頻(900khz 可根據(jù)實際使用來定)振效應并結合化學清洗劑的化學反應對硅片進行清洗的。在清洗時,由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動,最大瞬時速度可達到30cm/s。因此,形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細小微粒被強制除去并進入到清洗液中。 二.作用兆聲波清洗可去掉硅片表面上小于0.2μm的粒子,起到超聲波起不到的作用。這種方法能同時起到機械擦片和化學清洗兩種方法的作用。目前兆聲波清洗方法已成為拋光片清洗的一種有效方法。 三.結構兆聲波清洗的結構主要可以分為放著清洗晶片的石英槽體、保證在清洗過程溫度穩(wěn)定的溢流外槽、產(chǎn)生兆聲波的兆聲振盒及其發(fā)生器、保證清洗槽體內溫度的在線加熱和根據(jù)設備使用中是否需要的自動供酸系統(tǒng),是否有其他結構可根據(jù)實際使用來進行添加。 四.使用原理  兆聲波清洗機是用在硅片清洗中的一種清洗技術,使用時首先要把清洗槽體和在線加熱內注入適當?shù)那逑吹囊后w,注入的的方法可根據(jù)廠方的注液方式分為手動上液和自動上液,上液完成之后打開在線加熱,使溫度達到使用溫度,溫度達到時...
發(fā)布時間: 2018 - 07 - 03
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濕法腐蝕清洗設備是集成電路、LED、太陽能、MEMS等芯片制造中必不可少的工藝設備,而為了更好的達到腐蝕效果,在各種腐蝕工藝中往往要配合藥液的循環(huán)完成,從而達到更好的腐蝕均勻性。華林科納(江蘇)半導體CSE工程師介紹了幾種常用的腐蝕工藝循環(huán)原理及在濕法腐蝕清洗設備的典型應用。 關鍵詞:工藝槽循環(huán)過濾; 濕法腐蝕清洗; 硅腐蝕;隨著芯片制造特征尺寸的縮小,工藝水平的不斷提高,對晶片腐蝕的均勻性,晶片表面顆粒及金屬污染等潔凈度指標提出了更高的要求,因此,濕法腐蝕清洗設備在采用晶片旋轉、抖動、超聲清洗、兆聲清洗等的同時,業(yè)內普遍采用工藝槽循環(huán)過濾方式,來凈化槽內藥液,同時均勻流場保證藥液濃度和溫度的均勻性。1 濕法腐蝕的關鍵問題硅的濕法腐蝕在選擇腐蝕工藝和腐蝕劑時,需考慮諸多因素影響(如濃度、時間、溫度、攪拌等)的同時,需考慮以下幾方面的問題:(1)腐蝕速率。較高的腐蝕速率將有效的縮短腐蝕時間,但所得到的腐蝕表面較粗糙。腐蝕液的濃度與腐蝕速率及腐蝕表面質量有關,當腐蝕液濃度較小時,腐蝕速率較大。(2)腐蝕選擇性。選擇性是指要腐蝕材料的腐蝕速率與不希望腐蝕的材料(如掩模)的腐蝕速率的比率。一般地,選擇比越大越好。(3)腐蝕均勻性。在硅腐蝕表面各處,腐蝕速率常常不相等,造成腐蝕表面出現(xiàn)起伏等,腐蝕尺寸比較大時表現(xiàn)尤為明顯。這與腐蝕液濃度有關,反應槽中腐蝕液的濃度...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 11
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