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始于90年代末

濕法制程整體解決方案提供商

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發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
2設(shè)備構(gòu)成及詳細(xì)技術(shù)說明2.1工藝說明 2.2.臺面結(jié)構(gòu)圖如下      3.設(shè)備說明3.1 排風(fēng)系統(tǒng)?●排風(fēng)裝置(排風(fēng)壓力、風(fēng)量根據(jù)實際情況或客戶要求設(shè)計)將設(shè)備內(nèi)揮發(fā)的有毒氣體抽到車間排風(fēng)管道或戶外(室外排放遵守國家環(huán)保要求),避免擴(kuò)散到室內(nèi);?●排風(fēng)通道內(nèi)設(shè)有風(fēng)量導(dǎo)流板,從而使排風(fēng)效果達(dá)到最佳;?●本體頂部后方自帶強(qiáng)力抽風(fēng)1個風(fēng)道口裝置(每個藥劑槽對應(yīng)一個),排風(fēng)口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體;?●排風(fēng)口處設(shè)有手動調(diào)節(jié)風(fēng)門,操作人員可根據(jù)情況及時調(diào)節(jié)排風(fēng)量;3.2設(shè)備防護(hù)門:?●本體前方安裝有防護(hù)隔離門,隔離門采用透明PVC板制成,前門可以輕松開合,在清洗過程中,隔離門關(guān)閉,以盡量改善工作環(huán)境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水;?●給排水排廢接頭均為活性連接;?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質(zhì)PLC可編程控制器控制全操作過程, ?●人機(jī)界面為觸摸屏,接口中有手動操作、故障報警、安全保護(hù)等功能,各工作位過程完成提前提示報警,觸摸屏選用優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品;?●觸摸屏加鎖定,以防非授權(quán)人員修改或設(shè)定參數(shù);?●所有電控部分需獨(dú)立封閉,帶抽風(fēng)系統(tǒng),獨(dú)立的配電柜?●設(shè)備照明:設(shè)備其它部位--低電壓燈,根據(jù)工作需要可控照明;?●設(shè)備整體采取人性化設(shè)計,方便操作;并裝有漏電保護(hù)和聲光報警提示裝置,保證性能安全可靠;電控部分導(dǎo)線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導(dǎo)線,電氣控制部分內(nèi)部還通有壓縮空氣保護(hù),可防水耐腐蝕;?●設(shè)備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進(jìn)行保護(hù),免受腐蝕;?●設(shè)備具有良好的接地裝置;
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 14
設(shè)備概況:(僅做參考)主要功能:本設(shè)備主要手動搬運(yùn)方式,通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個用戶要求的效果。設(shè)備名稱:KOH  Etch刻蝕清洗機(jī)           設(shè)備型號:CSE-SC-NZD254整機(jī)尺寸(參考):自動設(shè)備約2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/籃)設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;操作形式:手動各槽位主要技術(shù)工藝:設(shè)備組成:該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成設(shè)備走向:方案圖按 “左進(jìn)右出”方式,另可按要求設(shè)計“右進(jìn)左出”方式;設(shè)備描述:此裝置是一個全自動的處理設(shè)備。8.0英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測 / 操作每個槽前上方對應(yīng)操作按鈕,與觸摸屏互相配合主體材料:德國進(jìn)口10mmPP板,優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架,外包3mmPP板防腐;臺面板為德國10mm PP板;DIW管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口clean-PVC管材,需滿足18M去離子水水質(zhì)要求,酸堿管路材質(zhì)為進(jìn)口PFA/PVDF;采用國際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工,焊接組裝均在萬級凈化間內(nèi)完成;排風(fēng):位于機(jī)臺后上部工作照明:上方防酸照明三菱、歐姆龍 PLC控制。安全考慮:設(shè)有EMO(急停裝置), 強(qiáng)電弱點隔離所有電磁閥均高于工作槽體工作液面電控箱正壓裝置(CDA Purge)設(shè)備三層防漏  樓盤傾斜   漏液報警  設(shè)備整體置于防漏托盤內(nèi)排放管路加過濾裝置所有槽體折彎成型,可有效避免死角顆粒;更多化學(xué)品相關(guān)濕法腐蝕相關(guān)設(shè)備(KOH腐蝕刻蝕機(jī)、RCA清洗機(jī)、去膠機(jī)、外延片清洗機(jī)、酸堿腐蝕機(jī)、顯影機(jī)等)以及干燥設(shè)備(馬蘭戈尼干燥機(jī)Marangoni、單腔...
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[關(guān)鍵詞:半導(dǎo)體設(shè)備]半導(dǎo)體設(shè)備商應(yīng)用材料(Applied Materials)日前宣布,材料工程獲得技術(shù)突破,能在大數(shù)據(jù)與人工智能(AI)時代加速芯片效能。應(yīng)用材料表示,20 年來首樁晶體管接點與導(dǎo)線的重大金屬材料變革,能解除 7 納米及以下晶圓工藝主要的效能瓶頸,由于鎢(W)在晶體管接點的電性表現(xiàn)與銅(Cu)的局部終端金屬導(dǎo)線工藝都已逼近物理極限,成為 FinFET 無法完全發(fā)揮效能的瓶頸,因此芯片設(shè)計者在 7 納米以下能以鈷(Co)金屬取代鎢與銅,藉以增進(jìn) 15% 芯片效能。目前中國半導(dǎo)體設(shè)備以蝕刻、薄膜及 CMP 發(fā)展腳步最快,此部分將以打入主流廠商產(chǎn)線、取得認(rèn)證并藉此建立量產(chǎn)數(shù)據(jù)為目標(biāo),朝向打入先進(jìn)工藝的前段晶體管工藝之遠(yuǎn)期目標(biāo)相當(dāng)明確,然而相較國際主流半導(dǎo)體設(shè)備廠商的技術(shù)水平,中國半導(dǎo)體設(shè)備廠商仍是追隨者角色,因此鈷取代鎢和銅的趨勢確立,將影響中國半導(dǎo)體設(shè)備廠商尤其是蝕刻、薄膜及 CMP 的研究發(fā)展方向。 (出自:拓墣產(chǎn)業(yè)研究院)更多半導(dǎo)體設(shè)備相關(guān)新聞可以關(guān)注華林科納(江蘇)半導(dǎo)體設(shè)備公司 126xa.cn 18913575037
發(fā)布時間: 2018 - 07 - 03
瀏覽次數(shù):120
電子工廠化學(xué)品供應(yīng)與回收系統(tǒng)概述由于電子產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)需要使用大量的化學(xué)品,而這些化學(xué) 品都具有一定危險性,稍有疏忽,就會造成重大的人員傷亡 和設(shè)備的損失,因此,如何將這些化學(xué)品在保證品質(zhì)的前提下安全輸送到使用點,如何將這些使用過的化學(xué)品合理地回 收處理,將是電子工廠生產(chǎn)安全的重要問題。由此看來,電 子工廠中化學(xué)品的供應(yīng)與回收系統(tǒng)之改進(jìn)、優(yōu)化仍是值得探 究的。 原來國內(nèi)大規(guī)模集成電路生 產(chǎn)線所需的化學(xué)品供給、回收系統(tǒng)管道完全由海外公司承攬施工,隨著國內(nèi) IC 制造業(yè)的發(fā)展,國內(nèi)一流的 IC 工廠建設(shè)公司已經(jīng)開始打破這一局面,涉足該系統(tǒng)的施工,為我國電 子行業(yè)的自主發(fā)展添加了助推劑。 本文就新型顯示器件廠(簡稱 LCD)和集成電路芯片廠 (簡稱芯片廠)的化學(xué)品供應(yīng)和回收系統(tǒng)進(jìn)行在系統(tǒng)類型、 基本構(gòu)成、主要安全技術(shù)措施等方面做了些總結(jié), 可供系統(tǒng)優(yōu)化時參考。 1 化學(xué)品供應(yīng)系統(tǒng) 1.1 化學(xué)品供應(yīng)系統(tǒng)的分類 化學(xué)品供應(yīng)系統(tǒng)在國外一些企業(yè)稱為 CDS(Chemical Dispense System) 或 簡 寫 為 BCD (Bulk chemical distribution),它是為生產(chǎn)線 24 小時不間斷供應(yīng)化學(xué)品的 系統(tǒng)。供應(yīng)系統(tǒng)供應(yīng)的化學(xué)品一般使用量較大或有多臺設(shè)備 使用,屬于遠(yuǎn)距離輸送,不適用使用量少或是使用前存放時間有限制的化學(xué)品(通常需用特殊的包裝輸送到使用點)。...
發(fā)布時間: 2017 - 04 - 06
瀏覽次數(shù):1406
近日,華潤微電子(重慶)有限公司揭牌暨戰(zhàn)略合作備忘錄簽約活動在西永微電園舉行?,F(xiàn)場,華潤微電子控股有限公司、重慶市經(jīng)信委、重慶西永微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)開發(fā)有限公司簽署了戰(zhàn)略合作協(xié)議,三方將致力于將華潤微電子(重慶)有限公司打造為全國最大的功率半導(dǎo)體基地,促進(jìn)重慶市集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展。 據(jù)悉,華潤微電子控股有限公司是國內(nèi)唯一純國資、全產(chǎn)業(yè)鏈,并實現(xiàn)產(chǎn)品設(shè)計自主、制造過程可控的微電子企業(yè)。隨著央企間產(chǎn)業(yè)重組整合全面展開,去年11月6日,經(jīng)國務(wù)院國資委批復(fù),同意將中航航空電子系統(tǒng)有限責(zé)任公司所持中航(重慶)微電子有限公司股權(quán),劃轉(zhuǎn)給華潤微電子控股有限公司。在此背景下,去年12月28日,華潤微電子(重慶)有限公司正式揭牌成立。據(jù)悉,本次整合在中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展史上創(chuàng)造了三項第一:央企間微電子業(yè)務(wù)的第一次重組;國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵戰(zhàn)略資源(8英寸晶圓生產(chǎn)線)的第一次整合;國內(nèi)分立器件產(chǎn)品和業(yè)務(wù)規(guī)模最大的一次整合。整合后,華潤微電子控股有限公司的功率器件業(yè)務(wù)將占國內(nèi)市場份額的6.5%。根據(jù)簽約,華潤微電子(重慶)有限公司成立后,將設(shè)立國家級功率半導(dǎo)體研發(fā)中心、建設(shè)國內(nèi)最大的功率半導(dǎo)體制造中心,同時完善上下游產(chǎn)業(yè)鏈等。協(xié)議的簽署,不僅能將晶圓制造升級擴(kuò)產(chǎn),還將帶來從原材料制造、IC設(shè)計到封裝測試的完整產(chǎn)業(yè)鏈條,帶動重慶集成電路產(chǎn)業(yè)基地升級。 (出自:重慶日報)更多半導(dǎo)體、集成電路、MEMS器件等...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 11
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目前半導(dǎo)體業(yè)發(fā)展的市場越來越巨大,而半導(dǎo)體工藝設(shè)備則為半導(dǎo)體大規(guī)模制造提供制造基礎(chǔ),今天華林科納半導(dǎo)體CSE的小編為大整理了一套最全的半導(dǎo)體材料工藝設(shè)備匯總。1、單晶爐 設(shè)備名稱:單晶爐。設(shè)備功能:熔融半導(dǎo)體材料,拉單晶,為后續(xù)半導(dǎo)體器件制造,提供單晶體的半導(dǎo)體晶坯。主要企業(yè)(品牌):國際:德國PVA TePla AG公司、日本Ferrotec公司、美國QUANTUM DESIGN公司、德國Gero公司、美國KAYEX公司。國內(nèi):西安理工晶科、常州華盛天龍、上海漢虹、西安華德、上海申和熱磁、上虞晶盛、晉江耐特克、寧夏晶陽、常州江南、沈陽科儀公司。2、氣相外延爐設(shè)備名稱:氣相外延爐。設(shè)備功能:為氣相外延生長提供特定的工藝環(huán)境,實現(xiàn)在單晶上,生長與單晶晶相具有對應(yīng)關(guān)系的薄層晶體,為單晶沉底實現(xiàn)功能化做基礎(chǔ)準(zhǔn)備。氣相外延即化學(xué)氣相沉積的一種特殊工藝,其生長薄層的晶體結(jié)構(gòu)是單晶襯底的延續(xù),而且與襯底的晶向保持對應(yīng)的關(guān)系。主要企業(yè)(品牌): 國際:美國CVD Equipment公司、美國GT公司、法國Soitec公司、法國AS公司、美國ProtoFlex公司、美國科特·萊思科(Kurt J.Lesker)公司、美國Applied Materials公司。國內(nèi):中國電子科技集團(tuán)第四十八所、青島賽瑞達(dá)、合肥科晶材料技術(shù)有限公司、北京金盛微納、濟(jì)南力冠電子科技有限公司。3、分子...
發(fā)布時間: 2017 - 04 - 05
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2018年內(nèi)存更加供不應(yīng)求 降價已無可能據(jù)集邦咨詢(TrendForce)公布的最新調(diào)查報告,進(jìn)入第四季度后,三星、SK海力士、美光這三大DRAM顆粒巨頭都已經(jīng)基本規(guī)劃好了明年的路線圖,資本支出都趨于保守,意味著大規(guī)模產(chǎn)能擴(kuò)張已經(jīng)不可能,甚至制程工藝前進(jìn)的腳步也會緩慢下來。畢竟,商人都是以賺錢為目的的,DRAM大廠明年的首要目標(biāo)就是獲得持續(xù)而且穩(wěn)定的利潤,價格則要至少維持在今年下半年的水平。集邦咨詢估計,2018年DRAM產(chǎn)業(yè)的供應(yīng)增幅只會有大約19.6%,是近幾年的一個地點,而市場需求增幅將有20.6%,也就是說整個市場供需關(guān)系會更加緊張。從需求端看,勢頭強(qiáng)勁的主要是手機(jī)內(nèi)存容量提升,以及服務(wù)器/數(shù)據(jù)中心的巨大缺口,而供給端方面,產(chǎn)能吃緊自然需要新建工廠,但建設(shè)一座300毫米晶圓廠至少一年,再加上設(shè)備投入和調(diào)試,即便現(xiàn)在行動,效果出來也要到2019年了。關(guān)鍵是,2018年三大廠商的晶圓產(chǎn)能增幅預(yù)計只有區(qū)區(qū)5-7%,主要來自現(xiàn)有產(chǎn)能的重新分配和制造工藝的升級。具體廠商方面,三星電子的產(chǎn)能增加空間很有限,目前月均DRAM晶圓產(chǎn)能平均為39萬塊,而能擴(kuò)充的工廠只有Line 17和一部分Line 15,因此三星計劃在韓國京畿道平澤市新建第二座300毫米DRAM晶圓廠。SK海力士同樣受困于產(chǎn)能不足:M10工廠較老無法轉(zhuǎn)入18nm,改而做代工去了;M14工廠規(guī)格高于最初計劃,預(yù)計年底可達(dá)8萬...
發(fā)布時間: 2017 - 10 - 23
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由全球半導(dǎo)體協(xié)會中國委員會主辦的全球規(guī)模最大、規(guī)格最高的半導(dǎo)體展SEMICON/FPD China 2017 國際半導(dǎo)體展3月14-16日在上海舉辦。這是全球半導(dǎo)體業(yè)界連續(xù)六年規(guī)格最高、規(guī)模最大的“嘉年華”,近900家展商在展會現(xiàn)場與逾6萬名專業(yè)觀眾互動。華林科納半導(dǎo)體CSE在此次展會參展的產(chǎn)品吸引了很多客戶前來觀展。
發(fā)布時間: 2017 - 03 - 17
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2017年全球晶圓代工市場規(guī)模將達(dá)550億美元 關(guān)鍵詞:晶圓、晶圓硅片清洗機(jī)晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。晶圓的原始材料是硅,而地殼表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅礦石經(jīng)由電弧爐提煉,鹽酸氯化,并經(jīng)蒸餾后,制成了高純度的多晶硅,其純度高達(dá)99.999999999%。據(jù)了解,截止2016年12月,全球折合成8寸晶圓的產(chǎn)能為每月1711.4萬片;其中中國大陸全球市場占有率接近11%,相比2015年上升了1.1個百分點,僅次于臺灣、韓國、日本和北美。臺灣、韓國、日本是主要的晶圓產(chǎn)地,晶圓產(chǎn)能占全球晶圓產(chǎn)能的59.3%。臺灣、韓國、日本是主要的晶圓產(chǎn)地,占比達(dá)59.30%,而大陸產(chǎn)能占比為10.80%。而華林科納(江蘇)CSE一直致力于開發(fā)生產(chǎn)半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備,其制造的晶圓硅片清洗機(jī)、甩干機(jī)、單片清洗機(jī)等設(shè)備廣受業(yè)界好評。從供給端來看,2016年中國地區(qū)晶圓制造產(chǎn)能僅占全球10.8%,而消費(fèi)市場占全球33%,中國半導(dǎo)體市場供需關(guān)系嚴(yán)重失衡。另據(jù)了解,2016年全球晶圓代工工廠營業(yè)收入前十排名分別是臺積電、格羅方德、聯(lián)華電子、中芯國際、力晶半導(dǎo)體、TowerJazz、世界先進(jìn)、華虹宏力、Dongbu HiTek和X-Fab。其中,前四大晶圓代工廠為臺積電、格羅方德、...
發(fā)布時間: 2017 - 10 - 09
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3月14日,由國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)中國委員會主辦的SEMICON China 2017國際半導(dǎo)體展在上海新國際博覽中心開幕。蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司此次參展給大家?guī)砹税雽?dǎo)體濕法清洗解決方案,與眾多專業(yè)觀眾以及行業(yè)伙伴進(jìn)行了現(xiàn)場交流,深入交流了半導(dǎo)體濕法清洗的相關(guān)技術(shù)要求以及工藝,其中 單片清洗機(jī)、黑硅制絨設(shè)備、晶圓電鍍設(shè)備、濕法刻蝕機(jī)設(shè)備、甩干機(jī)以及兆聲清洗機(jī)受到很多客戶詳詢,現(xiàn)場人氣也是爆滿。更多半導(dǎo)體濕法腐蝕清洗相關(guān)的新聞?wù)堦P(guān)注126xa.cn
發(fā)布時間: 2017 - 03 - 14
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【華林科納(江蘇)CSE-導(dǎo)讀】“在新需求驅(qū)動下,國產(chǎn)半導(dǎo)體裝備(制造業(yè))正進(jìn)入黃金發(fā)展期。”近日,在南京開幕的2017中國集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展研討會暨第十二屆中國集成電路制造年會上,北方華創(chuàng)總裁趙晉榮表示。據(jù)統(tǒng)計,至2020年,全球計劃新建的晶圓廠項目中,有逾四成將落戶中國,帶來巨大投資機(jī)會。本文關(guān)鍵詞:半導(dǎo)體裝備; 集成電路; 晶圓廠; 移動互聯(lián)網(wǎng)催發(fā)了芯片市場的持續(xù)增長,新建晶圓廠的熱潮正在給半導(dǎo)體設(shè)備制造商,尤其是國內(nèi)制造商帶來新機(jī)遇。資料顯示,新建一條年產(chǎn)5萬片的最先進(jìn)12英寸晶圓生產(chǎn)線需投資450億元,其中設(shè)備投資占75%以上。據(jù)統(tǒng)計,到2020年,全球?qū)⑿陆?2座晶圓廠,其中26座落戶中國,占比高達(dá)42%,這給國內(nèi)半導(dǎo)體裝備制造商帶來了機(jī)遇。 “到2020年,僅芯片前端設(shè)備的市場規(guī)模就將達(dá)到300億美元至400億美元。”中微半導(dǎo)體董事長兼首席執(zhí)行官尹志堯預(yù)計,中微半導(dǎo)體從事的刻蝕和化學(xué)薄膜設(shè)備將有良好的市場前景?!拔覀兘y(tǒng)計,2016年到2020年,國內(nèi)共有998億美元總投資,半導(dǎo)體設(shè)備投資為748億美元。其中,等離子體刻蝕設(shè)備投資大約為134.7億美元,中微的刻蝕機(jī)可以分得相當(dāng)大的份額。” 另據(jù)趙晉榮介紹,北方華創(chuàng)的半導(dǎo)體裝備包括14納米邏輯工藝裝備解決方案、8/12英寸先進(jìn)封裝工藝裝備解決方案、6/8英寸微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)/化...
發(fā)布時間: 2017 - 09 - 29
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CSE華林科納——誠邀各位業(yè)內(nèi)朋友蒞臨參觀我司在SEMICON China 2017的展位,歡迎大家一起交流與探討,以便于更深的合作;我們的技術(shù)團(tuán)隊會在T1館T113展位恭候大家的光臨,希望我們的技術(shù)和經(jīng)驗?zāi)軌驇椭蠹医鉀Q半導(dǎo)體、光伏、MEMS等行業(yè)在濕法腐蝕清洗中遇到的問題和挑戰(zhàn)。如何能找到我們我們的展位在 TI 館 T113 展位。公司的介紹蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司(簡稱CSE)成立于2008年3月,總投資4500萬元;  目前已形成濕法清洗系統(tǒng)、刻蝕系統(tǒng)、CDS系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)的四大系列數(shù)十種型號的產(chǎn)品;廣泛應(yīng)用于大規(guī)模集成電路電力電子器件、光電子器件、MEMS和太陽能電池等領(lǐng)域。 公司注重持續(xù)創(chuàng)新和技術(shù)改進(jìn),目前已擁有發(fā)明專利技術(shù)18項,并多次獲得國家高新技術(shù)產(chǎn)品認(rèn)定證書,肯定了企業(yè)的整體實力。 10多年以來始終為半導(dǎo)體和太陽能行業(yè)提供創(chuàng)新的專用的濕法工藝解決方案; 以技術(shù)創(chuàng)新為支撐,以精細(xì)管理做保證,以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和優(yōu)良的服務(wù)贏得了各界用戶的贊許和信賴。你可能會感興趣的設(shè)備此外,我們也給大家準(zhǔn)備了豐富禮品,期待大家的參與;重要的事再重復(fù)一遍哦CSE華林科納將參加2017年慕尼黑上海半導(dǎo)體展SEMICON CHINA誠邀各位業(yè)內(nèi)朋友蒞臨參觀、洽談!展位號:T113時間:2017年3月14日—16日上海新國際博覽中心 T館地址:上海市浦東新區(qū)龍陽...
發(fā)布時間: 2017 - 03 - 11
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