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濕制程設(shè)備專業(yè)制造商

半導(dǎo)體清洗設(shè)備的領(lǐng)軍品牌


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發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。南通華林科納CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動(dòng)濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺(tái)圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱南通華林科納CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動(dòng)傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(126xa.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 南通華林科納CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最大晶...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái),可同Run 50~100片.l 可對(duì)旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動(dòng)值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺(tái)內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動(dòng)態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動(dòng)異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動(dòng)化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲(chǔ)存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲(chǔ)存能力記憶模組...
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE南通華林科納半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對(duì)應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個(gè)客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時(shí)間: 2016 - 03 - 07
自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導(dǎo)體CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式設(shè)備名稱南通華林科納CSE-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在自動(dòng)模式情形...
發(fā)布時(shí)間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system南通華林科納CSE-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2"-12";可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時(shí)間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注南通華林科納半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://126xa.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時(shí)間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動(dòng)供液系統(tǒng)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對(duì)象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動(dòng)化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式 設(shè)備名稱南通華林科納CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號(hào)CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺(tái)或者一臺(tái) PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶(自動(dòng)切換)、配兩臺(tái)泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動(dòng)化與親和力。在...
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各種顯示技術(shù)對(duì)比

時(shí)間: 2016-03-23
點(diǎn)擊次數(shù): 55

??????? 近年來顯示技術(shù)發(fā)展很快,平板顯示器以其完全不同的顯示和制造技術(shù)使之同傳統(tǒng)的視頻圖像顯示器有很大的差別。傳統(tǒng)的視頻圖像顯示器主要為陰極射線管CRT (Cathode ray tubes) ;而平板顯示器與之的主要區(qū)別在于重量和體積(厚度) 方面的變化,通常平板顯示器的厚度不超過10cm (4in) ,當(dāng)然還有其他的不同,如顯示原理、制造材料、工藝以及視頻圖像顯示驅(qū)動(dòng)方面的各項(xiàng)技術(shù)等。
?????? 平板顯示器具有完全平面化、輕、薄、省電等特點(diǎn),符合未來圖像顯示器發(fā)展的必然趨勢。目前主要的平板顯示器包括: PDP ( Plasma display panel)、LCD( Liquid crystal displays) 、FED( Field emission displays)、 OLED ( Organic light-emitting diode displays ) 以及投影顯示技術(shù)(CRT、LCD、LCOS、DLP)等 。


時(shí)代先鋒-----LCD-TV
?????? LCD 器件是眾多平板顯示器件中發(fā)展最快、技術(shù)最成熟、應(yīng)用面最廣、已經(jīng)產(chǎn)業(yè)化并仍在迅猛發(fā)展的一種顯示器件,隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,人們已成功地將半導(dǎo)體技術(shù)與LCD 技術(shù)結(jié)合在一起,從而產(chǎn)生了LCD 的一個(gè)新興產(chǎn)業(yè)TFT-LCD。由于LCD 具有超薄、省電、顯示畫質(zhì)好(即三高:高亮度、高對(duì)比度、高分辨率) 的優(yōu)點(diǎn);大小皆宜的尺寸,從而使液晶顯示器得到了廣泛的應(yīng)用。不論是以數(shù)量計(jì)還是以使用種類計(jì),液晶顯示技術(shù)都遠(yuǎn)遠(yuǎn)地領(lǐng)先于包括CRT 在內(nèi)的其他顯示技術(shù)。
?????? LCDTV采用液晶屏和大規(guī)模集成電路相配接, 因此它具有以下的特點(diǎn):
????? ?(1) 體積小、重量輕, 因而可以做成便攜式和壁掛式, 甚至做到手表上。
????? ?(2) 功耗小: 液晶屏的驅(qū)動(dòng)電壓低、 耗電小。
????? ?(3) 失真小: 由于LCDTV采用行列電極加信號(hào)顯示, 故不存在因電子束偏轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的幾何失真和三基色失聚問題。
????? ?(4) 被動(dòng)顯示型。
????? ?(5) 無輻射、無污染。


一、 液晶顯示原理

????? ?液晶顯示器(LCD)又稱液晶屏, 其工作原理是以液晶電光效應(yīng)為基礎(chǔ)的。 液晶是一種特殊的有機(jī)化合物, 其特性介于液體和晶體之間, 既具有液體的流動(dòng)性, 又具有晶體的光學(xué)、 電學(xué)等特性。 LCD的結(jié)構(gòu)如圖1所示, 其內(nèi)有兩塊相距10~15 μm的玻璃基板, 內(nèi)表面有一薄層透明電極, 基板間充滿了10 μm厚的扭曲向列(TN)型的液晶材料, 它在外加電場作用下會(huì)產(chǎn)生上下扭曲(90°)、色散和反射等光學(xué)效應(yīng)。??
????? ?基板外表面有上下兩塊偏振片, 入射光側(cè)的偏振片為起偏器, 出射光側(cè)的為檢偏器。在施加電場的作用下, 當(dāng)施加的電場高于液晶特性的閾值時(shí), 液晶分子軸平行于電場方向排列, 入射光的偏振光軸很少扭曲, 通過檢偏器的光通量就增加了, 如果電場比閾值大到了飽和值時(shí) , 入射光與呈垂直狀偏振光軸同向, 幾乎不受液晶的影響而穿過檢偏器, 這時(shí)液晶呈透明狀態(tài)。
???????LCD內(nèi)上下透明電極作成矩陣狀, 將橫豎電極交叉處對(duì)應(yīng)的液晶看成一個(gè)像素, 其中裝于檢偏器一側(cè)的X電極(行電極)為掃描電極, 其上加掃描電壓 裝于起偏器一側(cè)的Y電極(列電極)為信號(hào)電極, 其上加信號(hào)電壓, 這樣每個(gè)像素等效為一個(gè)電阻和一個(gè)電容的并聯(lián)電路, 所有液晶像素就等效為立體電路, 如圖2所示。改變外加電壓大小, 可以控制LCD的明暗程度, 得到黑白圖像。
?????? 彩色液晶屏的結(jié)構(gòu)是通過一系列特殊工藝將紅、綠、藍(lán)R、G、B三種色素以某種排列方法沉積在玻璃基板內(nèi)形成濾色片, 相對(duì)某一像素都要形成紅、 綠、 藍(lán)三色點(diǎn), 三基色只需一套信號(hào)電極驅(qū)動(dòng), 但彩色LCD的像素是單色屏的三倍。 在驅(qū)動(dòng)電路作用下, 各像素分別發(fā)出三色光, 通過空間混色而實(shí)現(xiàn)彩色圖像顯示。
?????? 為了使液晶的電光效應(yīng)響應(yīng)速度快一些,目前一般采用有源矩陣驅(qū)動(dòng)方式, 即在每個(gè)像素位置上, 按照集成工藝, 形成一個(gè)非線性開關(guān)元件--非晶硅薄膜晶體三極管(a-sitft), 使各像素的尋址完全獨(dú)立, 從而消除交叉串?dāng)_, 彩色LCD的電路框圖如圖。


大屏幕的領(lǐng)先者------PDP-TV

?????? 等離子體顯示屏PDP基本上是由一個(gè)包含紅、綠、藍(lán)熒光粉的介質(zhì)放電單元組成的介質(zhì)網(wǎng)絡(luò),它被固定在兩片薄玻璃基板之間。然后充以惰性氣體密封后制成。在PDP屏的上下基板施加電脈沖來激勵(lì)惰性氣體使之放電,產(chǎn)生等離子體并發(fā)射紫外線,紫外線激勵(lì)熒光粉而發(fā)光,由于PDP所有的像素都是同時(shí)被激發(fā)放電因此不會(huì)產(chǎn)生閃爍。
?????? PDP分為交流和直流型兩種類型,AC-PDP占主導(dǎo)地位。PDP優(yōu)點(diǎn):
????? ?1.亮度均勻,不受磁場影響,環(huán)境適應(yīng)能力強(qiáng)。
????? ?2.工藝簡單,適宜大批量生產(chǎn)。
???????3.具有記憶特性,圖像效果好。
????? ?4.色彩還原性好。
????? ?5.視角大。


OLED
????? ?與LCD相比,OLED 的溫度特性、發(fā)光效率、功耗、發(fā)光顏色、響應(yīng)時(shí)間和視角特性均超過了TFT-LCD。因此,OLED 被認(rèn)為是LCD最強(qiáng)有力的競爭者,并將在未來的3~5 年內(nèi)成為一種重要的顯示器。


一、 OLED 的顯示原理和器件結(jié)構(gòu)

???? ?OLED 基本顯示單位由金屬陰極、透明陽極和有機(jī)薄膜組成,如圖1 所示??梢钥吹接袡C(jī)薄膜層是夾在金屬陰極、透明陽極之間的,像一個(gè)三明治;中間的有機(jī)薄膜又分為電子傳輸層、有機(jī)發(fā)射層和空穴注入層(有時(shí)又分為空穴注入層和空穴傳輸層) 。當(dāng)電場施加到OLED 基本顯示單位的兩極上,電子和空穴在有機(jī)發(fā)射層相結(jié)合產(chǎn)生出光,這一過程是電致發(fā)光的過程。所以O(shè)LED同LCD的顯示機(jī)理是完全不同的,不需要外部光源的支持。
????? ?OLED的有機(jī)薄膜很薄,僅僅為500 nm ,而且其可以觀察的視角很寬,達(dá)到160°以上,同時(shí)電場的電壓也低,僅為2~10V。


二、OLED主要性能特點(diǎn)
????? ?1.亮度高,目前OLED的發(fā)光亮度已可以超過100 000 cd/ m2。
????? ?2.對(duì)比度大
????? ?3.色彩效果好
????? ?4.環(huán)境適應(yīng)性強(qiáng),可以適應(yīng)巨大的加速度、振動(dòng)等惡劣環(huán)境。
????? ?5.視角大。
????? ?6. 響應(yīng)速度快,可以實(shí)現(xiàn)高速度的視頻重放。
????? ?7.功耗小。
????? ?8.分辨率高
????? ?9.基板要求

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