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濕制程設(shè)備專業(yè)制造商

半導(dǎo)體清洗設(shè)備的領(lǐng)軍品牌


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推薦產(chǎn)品 / 產(chǎn)品中心
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。南通華林科納CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備 設(shè)備名稱南通華林科納CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封,具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制,功能強(qiáng)大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設(shè)備制造商南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(126xa.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、N2 保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下:從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出,采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射,實(shí)現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu),鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證,鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu),可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。 南通華林科納CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理,由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn),該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有:①結(jié)構(gòu)簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用,產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo):最大晶...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺適用於半導(dǎo)體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì),隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動化控制器(人機(jī) Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE南通華林科納半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應(yīng))例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強(qiáng)制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導(dǎo)體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J健⒆詣涌刂颇J皆O(shè)備名稱南通華林科納CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system南通華林科納CSE-自動單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2"-12";可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應(yīng)用領(lǐng)域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進(jìn)封裝等  設(shè) 備 名 稱CSE-單片清洗機(jī)類  型單片式適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機(jī))2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠(yuǎn)低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu),占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注南通華林科納半導(dǎo)體官網(wǎng),關(guān)注http://126xa.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送,經(jīng)管道至設(shè)備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點(diǎn);具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J健⒆詣涌刂颇J?#160;設(shè)備名稱南通華林科納CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi):酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房;3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材,內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì);4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn);5. 過濾器:配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān);8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能:每種化學(xué)液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
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太陽能光伏最新新聞資訊

時間: 2017-01-04
點(diǎn)擊次數(shù): 89

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太陽能光伏最新新聞資訊

韓七電企投資30億美元發(fā)展可再生能源 近四成將用于太陽能

根據(jù)韓國政府規(guī)劃,到2025年,可再生能源占全國電力總量比例將達(dá)到11%。同時,政府鼓勵公共能源企業(yè)和私營企業(yè)大力投資可再生能源,以實(shí)現(xiàn)全國可再生能源發(fā)展目標(biāo)和減排目標(biāo)。

韓國六大電力企業(yè)聯(lián)合韓國電力工社KEPC日前宣布,將在2017-2018年投資30.6億美元發(fā)展可再生能源,尤其是可再生能源發(fā)電設(shè)施、新技術(shù)的開發(fā),從而加強(qiáng)韓國在可再生能源領(lǐng)域的重要地位,共同應(yīng)對氣候變化。

據(jù)介紹,這筆投資的38.6%將用于太陽能發(fā)電,35%用于風(fēng)力發(fā)電,17.9%用于燃料電池。其中,燃料電池已成為交通領(lǐng)域最受關(guān)注的新興市場,而韓國已經(jīng)成為成為最具吸引力的燃料電池市場。政府和企業(yè)的投入將進(jìn)一步推動該市場的發(fā)展。

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根據(jù)韓國政府規(guī)劃,到2025年,可再生能源占全國電力總量比例將達(dá)到11%。同時,政府鼓勵公共能源企業(yè)和私營企業(yè)大力投資可再生能源,以實(shí)現(xiàn)全國可再生能源發(fā)展目標(biāo)和減排目標(biāo)。?出自:電纜網(wǎng)

雙軸追光柔性支架水上光伏電站建成

近日,雙軸追光柔性支架水上光伏電站示范項(xiàng)目施工順利完成,項(xiàng)目實(shí)現(xiàn)了雙軸追光,屬全球首創(chuàng),比行業(yè)同類產(chǎn)品發(fā)電量提高20%以上;水上漂浮系統(tǒng)采用的柔性網(wǎng)架,完全自有設(shè)計(jì),比行業(yè)同類產(chǎn)品成本降低30%以上。

產(chǎn)品釆用數(shù)學(xué)分形理論丶生物進(jìn)化理論丶力學(xué)桁架理論合一的獨(dú)特設(shè)計(jì),使漂浮平臺的抗臺風(fēng)能力大大提高,數(shù)據(jù)測算其抗臺風(fēng)能力優(yōu)于同類產(chǎn)品的3-20倍。

產(chǎn)品在水體適合方面,由于水深不受限制的優(yōu)勢,因比水體適應(yīng)能力極強(qiáng),包括水深不斷變化的沉陷區(qū)等水體。水位漲落最高承受可達(dá)20米,水流速最高可達(dá)3米/秒,風(fēng)速最高可承受45米/秒。

項(xiàng)目采用自主知識產(chǎn)權(quán)專利近20項(xiàng),項(xiàng)目成為全球首個雙軸追光水上光伏電站項(xiàng)目,具有重要示范效應(yīng)。

光伏電站行業(yè)是以度電成本為競爭力導(dǎo)向的,最終肯定是最有能力降低電價的企業(yè)獲得發(fā)展。

而當(dāng)前光伏電站發(fā)展存在包括土地性質(zhì)與成本、發(fā)電質(zhì)量、安全風(fēng)險、管理風(fēng)險等問題。由于土地性質(zhì)導(dǎo)致無法并網(wǎng)不在少數(shù),政府征收費(fèi)用、征地移民成本、運(yùn)營期租金使土地成本越來越高;用地指標(biāo)管理復(fù)雜、區(qū)域棄光限電使光伏電站投資風(fēng)險劇增;現(xiàn)有水面光伏電站方案要么成本高要么環(huán)境風(fēng)險高要么水體適應(yīng)能力弱,缺乏大面積推廣的競爭力。

雙軸追光柔性支架水上光伏電站是利用水上光伏浮動平臺將光伏組件漂浮在水面進(jìn)行發(fā)電。水上光伏電站不占用土地資源,水體對光伏組件有冷卻效應(yīng),可以抑制組件表面溫度上升,從而獲得更高的發(fā)電量,可廣泛應(yīng)用于水庫、湖泊、池塘、煤礦沉陷區(qū)、工業(yè)廢水池等環(huán)境。公司產(chǎn)品對于飲用水完全無害,同時由于減少蒸發(fā)水量對于農(nóng)業(yè)灌溉和飲用水生產(chǎn),以及遮擋作用可控制藻類生產(chǎn),嚴(yán)格獨(dú)特的可循環(huán)利用的材料選擇都具有良好的環(huán)境效益。模塊化的技術(shù)和簡單的安裝和拆卸方式,無需笨重的機(jī)械設(shè)備,無疑是光伏從業(yè)者的福音。

目前,國家能源局正在推行的光伏“領(lǐng)跑者計(jì)劃”,將加速水上光伏的發(fā)展,雙軸追光柔性支架水上光伏電站項(xiàng)目的成功建設(shè),將對包括煤礦沉陷區(qū)在內(nèi)水上光伏業(yè)務(wù)的開展起到了重大推廣作用,為光伏行業(yè)發(fā)展增添新的活力!?出自:重慶晚報

京儀光伏組件生產(chǎn)線投產(chǎn)運(yùn)行

近日,京儀賽拉弗200兆瓦光伏組件生產(chǎn)線在京儀集團(tuán)所屬京儀涿鹿光伏基地投產(chǎn)運(yùn)行,在生產(chǎn)現(xiàn)場的一片掌聲中,生產(chǎn)線第一塊電池組件板通過質(zhì)檢合格下線。北控集團(tuán)、張家口市、京儀集團(tuán)、涿鹿縣領(lǐng)導(dǎo)齊聚現(xiàn)場,共同為生產(chǎn)線第一塊組件板揭牌。該組件生產(chǎn)線項(xiàng)目由京儀涿鹿公司和江蘇賽拉弗公司共同投資建設(shè)而成,總投資1億元,項(xiàng)目正式投產(chǎn)后,可實(shí)現(xiàn)年銷售收入3億元,并促進(jìn)當(dāng)?shù)亟?jīng)濟(jì)發(fā)展和就業(yè)。

光伏組件項(xiàng)目的正式投產(chǎn),是京儀涿鹿發(fā)展的一個新起點(diǎn)、新里程。公司要以此為基礎(chǔ),不斷完善京儀光伏產(chǎn)業(yè)鏈,擴(kuò)大市場布局,為推動京儀光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展和地方經(jīng)濟(jì)發(fā)展壯大做出貢獻(xiàn)?!笆濉逼陂g,京儀集團(tuán)將投資建設(shè)1吉瓦光伏電站,總投資65億元,從光伏制造到光伏電站建設(shè)、運(yùn)營形成完整的光伏產(chǎn)業(yè)鏈。

光伏組件的制造過程是將單個電池片封裝成一個標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)電單元的過程,使電池能在一個良好的機(jī)械性能和電性能環(huán)境下發(fā)揮最大的效用。200兆瓦光伏組件生產(chǎn)線項(xiàng)目建設(shè)歷時三個月,是對比國內(nèi)先進(jìn)生產(chǎn)線綜合各方面優(yōu)勢而設(shè)計(jì)的,具有較高的自動化程度和穩(wěn)定性。為京儀集團(tuán)實(shí)現(xiàn)“轉(zhuǎn)型升級、高端發(fā)展”戰(zhàn)略目標(biāo),打造高端裝備制造業(yè)基地、實(shí)現(xiàn)現(xiàn)代化產(chǎn)線管理、打造地方示范生產(chǎn)奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。出自:OFweek 太陽能光伏網(wǎng)

多晶憑性價比和產(chǎn)能優(yōu)勢仍占據(jù)市場主導(dǎo)

近期光伏“超級領(lǐng)跑者”計(jì)劃的提出再次讓高效產(chǎn)品成為行業(yè)關(guān)注的熱點(diǎn),單晶與多晶之爭也再一次甚囂塵上。統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,盡管單晶的轉(zhuǎn)換效率高于多晶,但同等條件下,高效多晶的投資回報率仍力壓單晶。隨著技術(shù)改進(jìn)帶來的功率提升,量產(chǎn)單多晶組件功率差將進(jìn)一步縮小,多晶組件仍將持續(xù)占據(jù)市場主導(dǎo)地位。

影響光伏發(fā)電成本的關(guān)鍵因素

由國家能源局牽頭推動、實(shí)行的光伏“領(lǐng)跑者計(jì)劃”從2015年開始執(zhí)行。根據(jù)規(guī)定,多晶組件轉(zhuǎn)換效率需達(dá)16.5%,單晶轉(zhuǎn)換效率則是17%以上。作為電站業(yè)主或組件采購商,在單多晶組件都滿足了國家領(lǐng)跑者要求的轉(zhuǎn)換效率的情況下,性價比才是光伏發(fā)電的核心考慮因素。行業(yè)內(nèi)的公認(rèn)指標(biāo)是LCOE(Levelized Cost of Energy),即“平準(zhǔn)化度電成本”。

在光伏電站投資中,組件成本占比約為45%,剩余的成本占到55%,因而在組件發(fā)電量一致的前提下,組件效率更高,可以在剩余的成本上節(jié)約費(fèi)用。而剩余的成本中,受組件效率高低影響的因素主要是土地、支架、線纜、安裝等環(huán)節(jié),其實(shí)只占到總成本的20%左右。因此,如果高效率組件帶來剩余成本降低的同時,因自身成本增加導(dǎo)致45%的組件成本上升過多,則反而會導(dǎo)致項(xiàng)目整體度電成本上升,項(xiàng)目收益率下降。

對比一下光伏電站投資成本重頭——組件的價格。以裝機(jī)容量達(dá)20MW的項(xiàng)目為參照,把達(dá)到領(lǐng)跑者門檻效率的270W多晶組件、280W單晶組件以及290W PERC高效單晶組件三款組件進(jìn)行對比,并對建設(shè)成本進(jìn)行了核算。從數(shù)據(jù)對比可以看出:多晶組件憑借每瓦3.12元占據(jù)上風(fēng),其性價比大大高于主流高效單晶技術(shù)產(chǎn)品。

而以50MW項(xiàng)目為基礎(chǔ),分別列出應(yīng)用三款不同組件對應(yīng)的建造成本,并考慮到25年土地成本差異,多晶組件單瓦的總成本以6.92元遠(yuǎn)遠(yuǎn)勝過單晶與高效單晶組件,可以對比出高效多晶的性價比優(yōu)勢。

綜合數(shù)據(jù)可以看出,組件功率每上升10W,可以給系統(tǒng)BOS成本帶來約0.05~0.06元/W的差異。然而,由于三款組件本身的價格差異太大,導(dǎo)致單晶高效率優(yōu)勢并未帶來總建設(shè)成本的下降。按照50MW的項(xiàng)目來看,單晶、高效單晶與多晶組件系統(tǒng)成本相比,分別將高出600萬與850萬左右。

平價上網(wǎng)仍需發(fā)揮多晶優(yōu)勢

根據(jù)PHOTON戶外長期跟蹤報告,每瓦發(fā)電量多晶組件與單晶組件無明顯差別,差別主要來源于組件的封裝質(zhì)量、封裝材料、衰減等因素。目前行業(yè)內(nèi)各家公布的組件衰減參數(shù)情況基本相仿,單晶產(chǎn)品首年衰減3%,多晶則為2.5%;而單晶弱光響應(yīng)能力稍強(qiáng)。所以選對組件制造商以及BOM才是最重要的。

目前來看,單多晶組件每瓦發(fā)電量幾乎一致,這意味著以在中國建設(shè)電站的成本模型來考慮,如果要使度電成本下降,單晶280W組件的價格只能比多晶270W組件高0.06元/W;而PERC單晶290W組件的價格也只能比多晶270W高0.12元/W以內(nèi)才能實(shí)現(xiàn)平價上網(wǎng)。因此,高效技術(shù)是否能真正給電站業(yè)主帶來總投資回報的增益,最終還是要結(jié)合成本因素全面考慮。高效單晶技術(shù)要大量普及,不能光靠國家領(lǐng)跑者劃出的門檻,而必須在控制成本上多下功夫,確保能與高效多晶技術(shù)保持在合理的價差范圍內(nèi)。在組件成本中占相當(dāng)比重的硅片是降本增效的重要手段。目前單多晶硅片價差一元的水平,至少要減半,單晶組件的性價比才能顯現(xiàn)。

達(dá)標(biāo)產(chǎn)能將明顯變少

領(lǐng)跑者計(jì)劃規(guī)定,多晶組件轉(zhuǎn)換效率需達(dá)16.5%,單晶轉(zhuǎn)換效率則是17%以上。由于單晶組件的轉(zhuǎn)換效率高,80%的單晶產(chǎn)能都能滿足這一要求,而多晶能達(dá)到16.5%的產(chǎn)能比例則要少很多。隨著最近“超級領(lǐng)跑者”的呼聲越來越高,新的門檻出來后,單晶產(chǎn)能達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)的比例勢必將大幅下降。

大部分領(lǐng)跑者項(xiàng)目規(guī)定電站在2017年9月30日前滿足并網(wǎng)發(fā)電的條件,而2017年光伏上網(wǎng)標(biāo)桿電價再度下調(diào),又將面臨新一輪搶裝潮。盡管目前TOP5的組件企業(yè)在不斷加大高效單晶產(chǎn)品的產(chǎn)能,但是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足市場對高效產(chǎn)品的需求。

與此同時,隨著高效多晶技術(shù)的發(fā)展,多晶組件在成本增加很有限的前提下,效率也在穩(wěn)步提升。單多晶組件功率差異將從過去的20W左右縮小到10W甚至5W。目前多晶275W組件已經(jīng)量產(chǎn),當(dāng)2017年上半年超級領(lǐng)跑者推出時,多晶組件的量產(chǎn)功率預(yù)計(jì)將達(dá)到280W,價格預(yù)計(jì)將依然控制在現(xiàn)有水平。這樣的性價比和產(chǎn)能優(yōu)勢將對單晶發(fā)起強(qiáng)勁的挑戰(zhàn)。而扎堆采購單晶PERC組件恐再次出現(xiàn)推遲交貨6個月的窘境。(出自:中國商務(wù)新聞網(wǎng))

(項(xiàng)目來自網(wǎng)絡(luò),由華林科納半導(dǎo)體論壇整理發(fā)布,內(nèi)容僅供參考,謝謝?。?/span>

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