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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術的不斷發(fā)展,濕法設備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。南通華林科納CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱南通華林科納CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術系統(tǒng)潔凈性技術均勻性技術晶圓片N2干燥技術模塊化系統(tǒng)集成技術自動傳輸及精確控制技術溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術主要技術特點系統(tǒng)結構緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(126xa.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體行業(yè)相關清洗設備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉式噴鍍臺結合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉噴鍍技術傾斜式旋轉噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉噴鍍結構示意圖如下:從鍍制結構方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結構方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉運動使槽內電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結構方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉噴鍍技術、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結構本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結構,鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結構,可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結構的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 南通華林科納CSE采用傾斜旋轉噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結構上的特點,該方法經(jīng)實驗驗證具有:①結構簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應用,產(chǎn)品已通過技術定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最大晶...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統(tǒng)設計, 高穩(wěn)定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經(jīng)拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE南通華林科納半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(wǎng)(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system南通華林科納CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2"-12";可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結構,占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注南通華林科納半導體官網(wǎng),關注http://126xa.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經(jīng)管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J健⒆詣涌刂颇J?#160;設備名稱南通華林科納CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
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彎道超車現(xiàn)實嗎?芯片產(chǎn)業(yè)火熱背后還需務實前行

時間: 2018-09-01
點擊次數(shù): 5

芯片無疑是2018年最火的話題之一。中興事件之后,更是全民關注、討論芯片。


不久前,在半導體產(chǎn)業(yè)高端論壇上,國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金(下稱“大基金”)總裁丁文武稱,全國老百姓都知道芯片,即使不知道芯片是什么,也都知道芯片產(chǎn)業(yè)差距很大。


有人欣慰這一行業(yè)終于引起了大眾關注,也有人擔心只是表面繁榮、虛火過旺。


僅在最近三個月里,就有多家公司發(fā)布AI芯片或模組,不僅有百度,也有寒武紀、云知聲、出門問問、Rokid等初創(chuàng)企業(yè)。


但芯片從來不是賺快錢的產(chǎn)業(yè),對于AI芯片可實現(xiàn)彎道超車的觀點,不少業(yè)內人士持懷疑態(tài)度。


彎道超車現(xiàn)實嗎?芯片產(chǎn)業(yè)火熱背后還需務實前行


由冷到熱


在中國國際智能產(chǎn)業(yè)博覽會上,第一財經(jīng)記者看到,一些芯片廠商的展臺周圍到處都是駐足觀察和拍照的觀眾,展臺的講解員則一一為觀眾進行科普。


“集成電路的話題越炒越熱?!辟惖涎芯吭杭呻娐樊a(chǎn)業(yè)研究中心總經(jīng)理韓曉敏告訴記者,“這兩年行業(yè)發(fā)展也好,國內資金支持力度也好,半導體這個行業(yè)整體景氣度上來了?!?/p>


根據(jù)賽迪顧問提供的數(shù)據(jù),2007年到2017年,中國集成電路產(chǎn)業(yè)年均復合增長率為15.8%,遠遠高于全球半導體市場6.8%的增速。


元禾華創(chuàng)投資管理有限公司執(zhí)行合伙人劉越對第一財經(jīng)記者表示,在美國等西方國家芯片已經(jīng)是一個非常成熟的行業(yè),“20世紀八九十年代,集成電路在硅谷是最火的,大量資本進入集成電路企業(yè)”;在中國,目前這一行業(yè)仍處于快速發(fā)展期。但由于芯片是高投入、高風險、慢回報的行業(yè),中國投資者更偏愛互聯(lián)網(wǎng)企業(yè)。


根據(jù)《集成電路設計業(yè)的發(fā)展思路和投資建議》所述,一款28nm芯片設計的研發(fā)投入約為1億到2億元,14nm的約為2億到3億元,研發(fā)周期為1到2年。芯片制造更是資本密集行業(yè),一條28nm工藝的集成電路生產(chǎn)線投資額約為50億美元,20nm的高達100億美元,更不用說14nm、10nm和7nm先進制程的投資額度了。


不過,今年在中國,芯片也成為了繼區(qū)塊鏈之后的又一投資風口。除了中興事件引發(fā)的關注,也離不開最近幾年政府的政策支持和大基金的介入。


在今年政府工作報告中,集成電路被放在實體經(jīng)濟發(fā)展的顯著位置。李克強總理提到,加快制造強國建設。推動集成電路、第五代移動通信、飛機發(fā)動機、新能源汽車、新材料等產(chǎn)業(yè)發(fā)展,實施重大短板裝備專項工程,推進智能制造,發(fā)展工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)平臺,創(chuàng)建“中國制造2025”示范區(qū)。


2014年國家設立了集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金。丁文武表示,經(jīng)過近4年的工作,目前進展順利,大基金布局了集成電路整個產(chǎn)業(yè)鏈,實現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)的全覆蓋。


目前,包括北京、天津、西安、重慶、成都、武漢、合肥等20多個城市都有芯片產(chǎn)業(yè)項目。中芯國際創(chuàng)始人張汝京預測,到2020年,建成的200mm(毫米)和300mm集成電路生產(chǎn)線產(chǎn)能可以達到每月200萬片。這一規(guī)模比現(xiàn)在至少翻了一倍。


根據(jù)SEMI(國際半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會)數(shù)據(jù),預計2017年到2020年間,全球投產(chǎn)的晶圓廠約62座,其中26座位于中國,占全球總數(shù)的42%。


這種“集體作戰(zhàn)”的模式是一種探索市場的路徑,國內如海思、展訊的局部崛起,意味著國產(chǎn)手機正在逐步走出芯片依賴進口的困境。根據(jù)市場研究公司IC Insights發(fā)布的2017年全球十大IC設計公司排行榜中,華為海思排名第七,比上年營收增長21%;紫光展銳排名第十,同比增加9%。


中科院微電子所所長葉甜春打了個比方,如果把集成電路產(chǎn)業(yè)比作金字塔,過去中國連底座都不全,如今高度雖然還和發(fā)達國家有差距,但底座已經(jīng)建立起來,形成了集團軍,整個產(chǎn)業(yè)有自身發(fā)展的能力和后勁。


投資過熱與人才缺口


看似繁榮的場景并沒有讓芯片從業(yè)者感到輕松。


一個原因是人才缺口。


“即使是清華大學微電子所畢業(yè)的學生都會轉金融或從事互聯(lián)網(wǎng)。做芯片很辛苦,來錢沒那么容易”。地平線芯片一位內部人士此前對第一財經(jīng)記者表示,做芯片等硬件太苦,收益不高,不少優(yōu)秀學生畢業(yè)后選擇金融和互聯(lián)網(wǎng)業(yè)。


中國科學技術大學特聘教授、核高基專家陳軍寧表示,中國半導體行業(yè)的發(fā)展速度很快,進步也很快,但總體水平處于中低端。人才作為該行業(yè)發(fā)展的第一資源,對于產(chǎn)業(yè)的發(fā)展起著至關重要的作用。他稱,“根據(jù)國家的產(chǎn)業(yè)推進綱要,預計到2030年,我國將需要70萬人,這個缺口還有40萬?!?/p>


另一個原因是對投資過熱的隱憂。


地方希望通過項目投資聚集產(chǎn)業(yè),拉動GDP;一些投資人和創(chuàng)業(yè)者將此看作一風口,但也有業(yè)內人士認為,芯片行業(yè)的熱鬧只是暫時的。


中國工程院院士許居衍近日在一場行業(yè)論壇上表示,目前半導體產(chǎn)業(yè)實際存在著無效益的繁榮、產(chǎn)品(硬件)難度增大、產(chǎn)品研發(fā)費用增高盈利空間下降等三大問題,中國廠商想要突圍首先需要反思盈利模式,開啟基于硬件的軟服務能力,同時提升半定制技術能力。


芯片產(chǎn)業(yè)鏈包括設計、制造和封測。在設計和封測領域,中國與美國等先進企業(yè)差距已經(jīng)逐步縮小。目前,中國有近1400家左右的設計企業(yè),但在芯片設計公司“遍地開花”背后,卻隱藏著“整體實力不強”的尷尬,和美國頭部芯片企業(yè)超過80%的份額相比,我國前十大集成電路設計企業(yè)的銷售額占比剛剛超過30%。


一名半導體產(chǎn)業(yè)人士表示,過熱的資本開始干擾到正常的產(chǎn)業(yè)投資規(guī)律,現(xiàn)在各地的芯片項目未來可能會造成地方沉重的財務負擔,依靠借貸來發(fā)展半導體的模式能夠支撐多久,都是未知數(shù)。另一方面,快速投產(chǎn)下的芯片成品是否滿足市場需求,低端產(chǎn)品如何盈利,如何解決人才缺口以及研發(fā)費用?這些都有待解答。


紫光集團聯(lián)席總裁刁石京此前對媒體表示,各地爭相上馬相關項目,如果缺乏有效的統(tǒng)籌,可能會形成惡性競爭。他指出,鼓勵市場競爭,但不應一哄而上,最終傷害整個產(chǎn)業(yè)。因為集成電路投入非常大,需要技術和人才等多方面的積累。


“集成電路產(chǎn)業(yè)從來就不是賺快錢的產(chǎn)業(yè)?!北本┦⑹篮昝魍顿Y基金管理有限公司高級副總裁羅棟表示,做產(chǎn)業(yè)投資還是應該回歸到產(chǎn)業(yè)本身的發(fā)展規(guī)律。


彎道超車?


隨著新興產(chǎn)業(yè)、技術和產(chǎn)品不斷涌現(xiàn),大數(shù)據(jù)、云計算、5G通信、人工智能等技術也為芯片提供了巨大的市場。


在中國電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究院發(fā)布《2018年中國集成電路上半年形勢分析和下半年的走勢判斷》中,半導體市場需求依然旺盛,市場的驅動力分化。5G即將到來,5G成為2018年上半年各家企業(yè)的關注重點。3月,海思發(fā)布全球首款5G芯片“Balong 5G01”;6月,紫光展銳宣布5G芯片將在2019年實現(xiàn)商用。雖然在虛擬貨幣市場,礦機芯片需求下滑;同時,人工智能概念火爆,AI芯片企業(yè)估值大漲。此外,數(shù)據(jù)中心建設加速,存儲器需求主力轉變,2018年服務器存儲市場增速超過智能手機存儲市場,成為全球存儲器應用市場增長的主動力。


在CPU、GPU等高端芯片與國際差距較大的情況下,不少人期待通過AI芯片,中國能實現(xiàn)彎道超車,但一些業(yè)內人士對此持質疑態(tài)度。


“人工智能的發(fā)展將帶來近百億美元芯片市場需求?!惫ば挪抠惖涎芯吭嘿惖项檰柛笨偛美铉娣Q。


從去年下半年到今年上半年,不僅國內BAT紛紛布局這一領域,也誕生了寒武紀、地平線等AI芯片公司。一些AI初創(chuàng)企業(yè)通過一輪輪融資獲得資金后,也紛紛發(fā)布自己的AI專用芯片。僅僅最近兩三個月,就有多家公司發(fā)布AI芯片或模組,云知聲推出物聯(lián)網(wǎng)AI芯片及解決方案;出門問問正式發(fā)布了AI語音芯片模組“問芯”;Rokid發(fā)布KAMINO18AI語音專用芯片;思必馳也宣布將在下半年推出AI芯片……


AI芯片公司估值也一路飆升。6月20日,寒武紀科技宣布完成B輪融資,公司估值達到25億美元。深鑒科技估值超過10億美元。


杭州國芯AI事業(yè)部總經(jīng)理凌云對第一財經(jīng)記者表示,對于中國而言,AI芯片是一個突破口。在這一領域,中國公司介入較早,改變了此前大部分時候中國芯片追著美國人跑的局面。


這是一個全新的領域和機會,但也有人潑了冷水。


此前,丁文武在上海的一場行業(yè)論壇上表示:“中國芯片行業(yè)彎道超車的策略不現(xiàn)實,彎道超車的前提是大家在同一起跑線上。”


安芯投資管理有限責任公司常務副總裁王永剛表達了類似的觀點,稱“這(芯片)一塊還是要務實,蓋樓一塊磚一塊磚地砌起來?!?/p>


而在Imagination Technologies副總裁、中國區(qū)總經(jīng)理劉國軍看來,現(xiàn)在的先進技術都是全球化的運用,不存在誰戰(zhàn)勝誰的問題。中國有應用和數(shù)據(jù)的優(yōu)勢,“可以快速獲得運用數(shù)據(jù)的學習、訓練。在美國,數(shù)據(jù)沒有那么容易(獲?。?,本身也沒有大的應用場景。但是人工智能不管是哪個領域,(西方的)基礎研究比我們深得多?!?/p>


在不久前的一次公開場合上,經(jīng)濟學家許小年在談到企業(yè)的技術升級時說,我們追逐新名詞,發(fā)明新名詞的速度,遠遠快于我們能做到的。“我最反感的一句話就是跨越式發(fā)展、彎道超車。我看了多少彎道翻車,我沒看到過彎道超車。不老實,投機取巧,這是我們很多企業(yè)的毛病?!?/p>


來源:第一財經(jīng)


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