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發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術的不斷發(fā)展,濕法設備已經成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。南通華林科納CSE深入研究LED生產工藝,現(xiàn)已形成可滿足LED產業(yè)化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱南通華林科納CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術系統(tǒng)潔凈性技術均勻性技術晶圓片N2干燥技術模塊化系統(tǒng)集成技術自動傳輸及精確控制技術溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術主要技術特點系統(tǒng)結構緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現(xiàn)晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 126xa.cn 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(126xa.cn),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體行業(yè)相關清洗設備解決方案。
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉式噴鍍臺結合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉噴鍍技術傾斜式旋轉噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉噴鍍結構示意圖如下:從鍍制結構方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結構方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉運動使槽內電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現(xiàn)攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結構方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產需求。傾斜旋轉噴鍍技術、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結構本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結構,鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結構,可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結構的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。 南通華林科納CSE采用傾斜旋轉噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結構上的特點,該方法經實驗驗證具有:①結構簡單;②工藝參數(shù)控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉噴鍍系統(tǒng),目前已批量生產并在工藝線上得到較好的應用,產品已通過技術定型鑒定和用戶驗收。實現(xiàn)的主要工藝指標:最大晶...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統(tǒng)設計, 高穩(wěn)定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機臺內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE南通華林科納半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優(yōu)點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數(shù)非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數(shù)…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據(jù)每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(www.hlkncas.com),現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(tǒng)(CDS)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J健⒆詣涌刂颇J皆O備名稱南通華林科納CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形...
發(fā)布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system南通華林科納CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2"-12";可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優(yōu)點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節(jié)約成本(藥液循環(huán)利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結構,占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注南通華林科納半導體官網,關注http://126xa.cn ,400-8768-096,18913575037
發(fā)布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能??刂颇J剑菏謩涌刂颇J?、自動控制模式 設備名稱南通華林科納CSE-氫氟酸(HF)供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統(tǒng)控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統(tǒng);2. 操作模式: CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執(zhí)行,兼具自動化與親和力。在...
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格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

時間: 2018-09-13
點擊次數(shù): 4

格芯的無奈之舉

近期,全球第二大晶圓廠格芯(Globa Foundries)宣布無限期擱置7nm FinFET項目,表示不愿陪你們繼續(xù)玩了。

前沿制程的爭奪歷來備受各方關注。今年5月,臺積電率先實現(xiàn)7nm量產,搶下首發(fā);三星則緊隨其后,進入量產倒計時;Intel則還在埋頭硬啃10nm。在格芯罷兵7nm之前,聯(lián)電也直言放手12nm及以下制程。

格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

事實上,晶圓巨頭接連退出實屬無奈,主要是研發(fā)高階制程太耗錢了。2016年,為了研發(fā)10nm/7nm制程,臺積電投入了22億美元巨資。據(jù)悉,目前,臺積電7nm制程的良率超過76%,后續(xù)良率拉抬仍需持續(xù)投入。

在IC Insights公布的歷年“十億美元俱樂部”榜單中,臺積電多年穩(wěn)居前三,而格芯已跌落五名開外。目前,也只有俱樂部前三甲有資本硬拼7nm,其他廠商更多是有心無力。

▼2007-2017年全球半導體資本支出“十億美元俱樂部”

格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

資料來源:IC Insight

在半導體的世界里,只有搶到最先進的制程技術,才可能得到僅有的巨頭大單,收回前期投入。目前,臺積電基本包攬了蘋果、高通(驍龍855)、博通、AMD、比特大陸和海思等設計巨頭的7nm大單。其中,AMD是格芯的最大客戶。三星得到了高通(驍龍845)和ARM等的訂單。

根據(jù)調研機構International Business Strategies公布的數(shù)據(jù)顯示,2018年,7nm代工的市場規(guī)模將達到49.8億美元,2019年則會達到98億美元,需求主要集中在幾家大公司。目前,臺積電基本壟斷了7nm市場,三星都活得很艱難,更何況第三、第四呢?新進入者就算研發(fā)出7nm,也會因為良率不過關而難以拿到大客戶的訂單,這就意味著前期研發(fā)投入很難收回。據(jù)業(yè)界人士統(tǒng)計,一旦手機芯片規(guī)劃采用7nm制程來生產,芯片制造商大約需要每年1.2億套到1.5億套的產量才能夠實現(xiàn)盈虧平衡,以此來彌補研發(fā)成本。目前,只有蘋果、三星、高通和聯(lián)發(fā)科能夠達到這樣的出貨規(guī)模。

在這樣的局面下,那些準7nm的廠商再去和臺積電明爭暗斗也是得不償失,選擇退出未嘗不是明智之舉。這樣來看,格芯、聯(lián)電等接連退出也就不奇怪了。

格芯的退守與創(chuàng)新

在跳票7nm的同時,格芯宣布將專注現(xiàn)有14/12nm FinFET工藝及22/12nm FD-SOI工藝。

目前主流的制程技術是28nm,該節(jié)點是公認的長壽節(jié)點之一。2017年,全球28nm的代工市場規(guī)模達到了100億美元,占全球近20%。同時,隨著AI、加密貨幣等高性能計算應用的興起,14nm及以下制程的代工市場正在逐步放量,成為全球晶圓代工市場的新動能。此次格芯退守也是希望鞏固戰(zhàn)線,搭上高階制程代工市場增長的順風車。

格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

▲2001-2021E全球各制程節(jié)點市場情況

與此同時,格芯首推了22/12nm FD-SOI制程工藝,走上了差異化的工藝之路。

傳統(tǒng)的bulk CMOS工藝在20nm制程基本結束了其歷史使命。再往下走就要用上FinFET(Fin Field-Effect Transistor)、FD-SOI(Fully Depleted-Silicon-On-Insulator)等新工藝。FinFET是3D化的晶體管,因形似魚鰭而得名,是目前的主流工藝。FD-SOI是絕緣體上的硅晶體管,結構有點像漢堡包。

格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

▲從bulk CMOS工藝到FinFET和FD-SOI工藝演進

與FinFET工藝相比,F(xiàn)D-SOI具有功耗低、成本低等優(yōu)勢。但FD-SOI的缺點是晶圓工藝成本高、供應商少等。8寸FD-SOI晶圓的價格是FinFET體晶圓的10倍。目前,全球僅有法國Soitec、日本信越(SHE)、美國Sun Edison能供應FD-SOI晶圓。同時,F(xiàn)D-SOI的生態(tài)不完善,缺少相關的設計工具和IP。

格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

FinFET和FD-SOI工藝不同應用領域

在應用領域,F(xiàn)inFET定位于最先進的應用產品。例如,高階處理器、AI、深度學習等高性能領域,而FD-SOI則著眼于物聯(lián)網、5G、汽車電子、射頻(RF)和可穿戴設備等低功耗領域。據(jù)上海微系統(tǒng)所預測,隨著物聯(lián)網、5G、汽車電子等新興應用不斷發(fā)展,未來幾年,F(xiàn)D-SOI市場規(guī)模將會從2015年的0.7億美元增長到2020年的超過40億美元,年平均增長率為68%。FD-SOI在全球半導體的市場份額會從2015年的0.2%增長到2020年的接近10%。

格芯退戰(zhàn)7nm,我們的路在何方?

▲2015-2020E FD-SOI市場發(fā)展及預測情況

目前,格芯已獲得意法半導體、Verisilicon等國內外設計企業(yè)的訂單,F(xiàn)D-SOI有望助力格芯進一步鞏固和提升其全球領先地位。

我國晶圓代工的發(fā)展抉擇

目前,經過不懈努力,我國晶圓代工的制程工藝取得了突破發(fā)展,實現(xiàn)了28nm工藝量產,且成功研發(fā)14nm FinFET,進入客戶導入階段,打入了全球主流的制程工藝梯隊,有望分享高階制程代工市場的增長紅利。

躋身高階制程俱樂部后,我國晶圓廠面臨的首要問題便是如何從既有的全球代工巨頭手中搶到市場,為下一代制程研發(fā)提供經濟基礎。格芯的退出事件讓我們意識到今后突圍更高階制程后所面臨的嚴峻競爭形勢。在一味緊趕猛追先進制程工藝的同時,是否應另辟戰(zhàn)場,加大特色工藝的布局力度。未來的應用市場并非都是先進工藝的天下,例如,物聯(lián)網、5G、汽車電子等新興應用的要求是低功耗,這就為我國晶圓制造實現(xiàn)跨越發(fā)展提供了市場空間。我國晶圓廠可以借此契機,根據(jù)下游客戶需求布局特色工藝,搶占中高端特色工藝應用市場,實現(xiàn)彎道超車。

現(xiàn)階段,我國半導體特色工藝仍代工中低端產品為主。以功率半導體為例,絕大多數(shù)廠商只在二極管、低壓MOS器件、晶閘管等相對低端器件的生產工藝方面較為成熟,對于IGBT等高端器件,國內只有極少數(shù)廠商擁有生產和封裝能力。我國特色工藝領域有著較大的上升空間和市場機遇,應予以高度關注,國家要加大對特色工藝發(fā)展的政策扶持力度。

目前,我國也涌現(xiàn)了先進半導體、華虹宏力、華潤上華等特色工藝代工廠商,擁有了廣泛的基礎。中芯國際和華大半導體等巨頭也積極布局,持續(xù)發(fā)力中高端特色工藝,加快進軍中高端市場。2018年5月,中芯國際耗資58.5億元在紹興布局了特色工藝生產線,主攻微機電(MEMS)、功率器件等產品;2018年8月,華大半導體的積塔半導體特色工藝落地臨港等。未來,我國晶圓代廠在制程工藝上要實現(xiàn)多元布局、靈活發(fā)展、全面突破。

來源:浦科投資



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