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發(fā)布時間： 2016 - 03 - 10
太陽能硅片制絨腐蝕清洗機-CSE在光伏發(fā)電領域，由于多晶硅電池片成本較低，其 市 場 占有率已躍居首位，但相對于單晶硅電池片而言仍存在著反 射率較高、電池效率不足的缺陷。為縮小多晶硅太陽能電池 片與單晶硅太陽能電池片之間的差距，采用織構化多晶硅表 面的方法提高多晶硅片吸光能力是一條行之有效的途徑。目前，多晶硅表面織構化的方法主要有機械刻槽、激光刻槽、反應離子體蝕刻、酸腐蝕制絨等，其中各 向同性酸腐制絨技術的工藝簡單，可以較容易地整合到多晶 硅太陽能電池的生產工序中，同時成 本 最 低，因 而 在 大 規(guī) 模 的工業(yè)生產中得到了廣泛的應用。更多的太陽能硅片制絨腐蝕清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網（126xa.cn），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間： 2016 - 12 - 05
花籃/片盒清洗機-華林科納CSE 完美適應當前所有型號的花籃和片盒、傳輸片盒、前端開口片盒（Foup片盒）的清洗和干燥系統(tǒng)優(yōu)點裝載晶圓直徑至200mm的花籃和片盒—或不同晶圓尺寸的花籃和片盒，同時可裝載晶圓直徑至300mm的前端開口片盒（Foup片盒）三種設備尺寸滿足客戶特殊需求 CleanStep I – 用于4組花籃和片盒加載和清洗能力：每次4組花籃和片盒清洗產能：每小時12組花籃和片盒 CleanStep II – 用于8組花籃和片盒加載和清洗能力：每次8組花籃和片盒清洗產能：每小時24組花籃和片盒 CleanStep III – 用于6組前端開口片盒（Foup）加載和清洗能力：每次6組前端開口片盒（Foup片盒）清洗產能：每小時18組前端開口片盒（Foup片盒） 適用于晶圓直徑至200mm的花籃和片盒的標準旋轉籠(Cleanstep I/II) 適用于所有片盒一次清洗過程 或是同時4組花籃和片盒，或是12個花籃(Cleanstep I/II) 簡單快捷的對不同尺寸的片盒和花籃進行切換 旋轉籠內的可旋轉載體方便加載或卸載花籃和片盒 通過控制系統(tǒng)對自鎖裝置的檢測，達到安全加載片盒和花籃，及其運行特征和優(yōu)點可應用不同化學品（稀釋劑）來清洗 泵傳輸清洗液 計量調整可通過軟件設置控制操作熱水噴淋裝置 熱水一般由廠務供應 — 標準化 或有一個體積約100升的熱水預備槽（循環(huán)泵和加熱棒用于熱水預備槽—選項） 籠子 帶有可變速旋轉的控制的高扭矩伺服電機（按照加載量和設備配置，最大旋轉速度200rpm,） 旋轉的不銹鋼籠子 會自動停止工作（運行過程中出現(xiàn)失衡狀態(tài)時）熱空氣干燥 頂端吹下熱空氣 采用根據(jù)設備待機和工藝運行模式的可調風量的風扇裝置 不銹鋼架上裝有加熱器，可以溫度控制 軟件監(jiān)控溫度 帶有反壓控制的高效過濾器輔助功能和操作控制 觸摸屏安裝在前面—標準化 也...
發(fā)布時間： 2016 - 03 - 07
RCA濕法腐蝕清洗機設備——華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設備是國內最早致力于集成電路濕法設備的研制單位，多年來與眾多的集成電路生產企業(yè)密切合作，研制開發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設備設 備 名  稱南通華林科納CSE-RCA濕法腐蝕清洗機使 用 對 象硅晶片2-12inch適 用 領  域半導體、太陽能、液晶、MEMS等設 備 用 途硅晶片化學腐蝕和清洗的設備主體構造特點1. 設備包括：設備主體、電氣控制部分、化學工藝槽、純水清洗槽等；并提供與廠務供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統(tǒng)配套的接口等。2.設備為半敞開式，主體使用進口WPP15和10mm厚板材，結構設計充分考慮長期工作在酸腐蝕環(huán)境，堅固耐用，雙層防漏，機臺底盤采用德國產瓷白PP板，熱焊接而成，可長期工作在酸堿腐蝕環(huán)境中3.主體：設備為半敞開式，主體使用進口WPP15和10mm厚板材，結構設計充分考慮長期工作在酸腐蝕環(huán)境，堅固耐用，雙層防漏，機臺底盤采用德國產瓷白PP板，熱焊接而成，可長期工作在酸堿腐蝕環(huán)境中；4.骨 架：鋼骨架+PP德國勞施領板組合而成，防止外殼銹蝕。5.儲物區(qū)：位于工作臺面左側，約280mm寬，儲物區(qū)地板有漏液孔和底部支撐；6.安全門：前側下開透明安全門，腳踏控制；7.工藝槽：模組化設計，腐蝕槽、純水沖洗槽放置在一個統(tǒng)一的承漏底盤中。底盤采用滿焊接工藝加工而成，杜絕機臺的滲漏危險；8.管路系統(tǒng)：位于設備下部，所有工藝槽、管路、閥門部分均有清晰的標簽注明；藥液管路采用PFA管，純水管路采用白色NPP噴淋管，化學腐蝕槽廢液、沖洗廢水通過專用管道排放；9.電氣保護：電器控制、氣路控制和工藝槽控制部份在機臺頂部電控區(qū)，電氣元件有充分的防護以免酸霧腐蝕以保障設備性能運行穩(wěn)定可靠；所有可能與酸霧接觸的...
發(fā)布時間： 2017 - 12 - 19
片盒清洗機-華林科納CSE 設備概況：主要功能：本設備主要手動/自動搬運方式，通過對片盒化學液體浸泡、沖洗、漂洗、鼓泡、快排等方式進行處理，從而達到一個用戶要求的效果。設備名稱：片盒清洗機設備型號：CSE-SC-N259整機尺寸(參考)：約1700mm（L）×1400mm(W)×2000mm(H)；（該設備非標定制）操作形式：手動 設備組成該設備主要由清洗部分、抽風系統(tǒng)及電控部分組成 設備描述此裝置是一個手動的處理設備；設備前上方有各閥門、工藝流程的控制按鈕、指示燈、觸摸屏(PROFACE/OMRON)、音樂盒等，操作方便；主體材料：德國進口 10mmPP 板，優(yōu)質不銹鋼骨架，外包 3mmPP 板防腐；臺面板為德國 10mm PP 板；DIW 管路及構件采用日本進口 clean-PVC 管材，需滿足 18MW去離子水水質要求；采用國際標準生產加工，焊接組裝均在萬級凈化間內完成排風：位于機臺后上部工作照明：上方防酸照明安全考慮：1. 設有 EMO(急停裝置)2. 強電弱點隔離3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面4. 設備排風口加負壓檢測表5. 設備三層防漏 漏盤傾斜 漏液報警 設備整體置于防漏托盤內 更多的花籃和片盒清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網（126xa.cn），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096 18913575037可立即獲取免費的片盒清洗機解決方案。
發(fā)布時間： 2017 - 12 - 06
自動供液系統(tǒng)（CDS）-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-CDS自動供液系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送，經管道至設備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點；具有良好的耐腐蝕性能。控制模式：手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-CDS自動供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設置于化學房內：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房；3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材，內部管路及組件采PFA 451 HP 材質；4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點；5. 過濾器：配有10” PFA材質過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關；8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能：每種化學液體配兩個桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在自動模式情形...
發(fā)布時間： 2016 - 06 - 13
設備名稱：晶棒腐蝕機---CSE產品描述：        ●此設備自動化程度高,腐蝕清洗裝置主要由水平通過式腐蝕清洗主體(槽體部分/管路部分等),移動機械傳送裝置,CDS系統(tǒng)，抽風系統(tǒng),電控及操作臺等部分組成;         ●進口優(yōu)質透明PVC活動門（對開/推拉式），保證設備外部環(huán)境符合勞動保護的相關標準，以保證設備操作人員及其周圍工作人員的身體健康;         ●機械臂定位精度高;         ●整體設備腐蝕漂洗能力強,性能穩(wěn)定,安全可靠;         ●設備成本合理,自動化程度高,使用成本低;技術先進,結構合理,適宜生產線上大批次操作.         ●非標設備，根據(jù)客戶要求具體定制，歡迎詳細咨詢！更多半導體清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網（www.hlcas.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發(fā)布時間： 2016 - 03 - 14
2設備構成及詳細技術說明2.1工藝說明 2.2.臺面結構圖如下      3.設備說明3.1 排風系統(tǒng)?●排風裝置（排風壓力、風量根據(jù)實際情況或客戶要求設計）將設備內揮發(fā)的有毒氣體抽到車間排風管道或戶外（室外排放遵守國家環(huán)保要求），避免擴散到室內；?●排風通道內設有風量導流板，從而使排風效果達到最佳；?●本體頂部后方自帶強力抽風1個風道口裝置(每個藥劑槽對應一個)，排風口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體；?●排風口處設有手動調節(jié)風門，操作人員可根據(jù)情況及時調節(jié)排風量；3.2設備防護門：?●本體前方安裝有防護隔離門，隔離門采用透明PVC板制成，前門可以輕松開合，在清洗過程中，隔離門關閉，以盡量改善工作環(huán)境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水；?●給排水排廢接頭均為活性連接；?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質PLC可編程控制器控制全操作過程， ?●人機界面為觸摸屏，接口中有手動操作、故障報警、安全保護等功能，各工作位過程完成提前提示報警，觸摸屏選用優(yōu)質產品；?●觸摸屏加鎖定，以防非授權人員修改或設定參數(shù)；?●所有電控部分需獨立封閉，帶抽風系統(tǒng)，獨立的配電柜?●設備照明：設備其它部位--低電壓燈，根據(jù)工作需要可控照明；?●設備整體采取人性化設計，方便操作；并裝有漏電保護和聲光報警提示裝置，保證性能安全可靠；電控部分導線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導線，電氣控制部分內部還通有壓縮空氣保護，可防水耐腐蝕；?●設備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進行保護，免受腐蝕；?●設備具有良好的接地裝置；
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華林科納針對所有客戶提供專業(yè)、周到、全面的售后服務，銷售人員不僅經常與客戶電話聯(lián)系，還會不定期上門回訪客戶。公司對每個銷售人員都有規(guī)定，每成交一個客戶都要定期的聯(lián)系回訪，以下是華林科納銷售人員近期對上海復旦大學的回訪情況。      在回訪過程中，回訪人員必須做到以下兩點：第一：將清洗設備經常碰到的一些問題以及注意事項都提前告知客戶，并且講解處理方法，避免客戶在清洗產品的過程中遇到類似的情況不知如何處理，避免客戶遇到問題時手忙腳亂，同時能減小對工作進度的影響，也可以確保設備的穩(wěn)定性。  第二：回訪客戶時，回訪人員在生產現(xiàn)場，可以仔細檢查設備的現(xiàn)場運行情況，同時可以根據(jù)產品的清洗效果，分析設備是否運行良好，若清洗效果不達標，則可以現(xiàn)場分析原因，并制定合理的解決方案交予客戶。通過現(xiàn)場回訪，華林科納可以真正地幫客戶解決實際問題，保證了售后服務的效率和質量，華林科納這樣的售后服務得到了所有客戶的一致認可。有些我們在生產現(xiàn)場無法解決的問題，我們回訪的業(yè)務人員能第一時間的把這些問題詳細記錄下來帶回公司認真研究及派專業(yè)的技術人員處理解決。
發(fā)布時間: 2013 - 11 - 29
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“水桶理論”已是老生常談。企業(yè)要想做好、做強，必須從產品設計、價格政策、渠道建設、品牌培植、技術開發(fā)、財務監(jiān)控、隊伍培育、文化理念、戰(zhàn)略定位等各方面一一做到位才行。任何一個環(huán)節(jié)太薄弱都有可能導致企業(yè)的最終失敗。企業(yè)核心競爭力的大小往往取決于企業(yè)要素中最薄弱的環(huán)節(jié)。 在中國進入市場經濟的最初階段，市場還非常幼稚，競爭對手都非常幼嫩，不少企業(yè)借助某一個環(huán)節(jié)的運作特色，攻城掠地，不斷取得驕人的戰(zhàn)績，這就使得不少企業(yè)和企業(yè)經營者產生一種錯覺，認為某一環(huán)節(jié)的優(yōu)勢可以控制整個企業(yè)的命運。也就是說，很多人把企業(yè)經營管理中的必要條件看成是企業(yè)成功的充分條件了。 把必須做好的一部分當成整個經營管理系統(tǒng)的全部，勢必造成其中諸多環(huán)節(jié)被忽視、被省略，至少很多重要環(huán)節(jié)的方方面面做不細、做不透。這是指導思想上的錯誤造成的細節(jié)差距。 比爾·蓋茨常常說，微軟距離破產永遠只有18個月。從企業(yè)需要強調和重視管理細節(jié)的角度，我覺得企業(yè)稍大一點就存在此類風險。韓國的大宇700億美元不能說不大，但說倒閉也就倒閉了。因為企業(yè)大，所以小事沒有人做；因為事情不大，所以小事做不透。我愿意把工作中小事的失誤比作一只有危害的老鼠，老鼠多了，破壞力巨大。中國的老鼠數(shù)量據(jù)說是人口的3倍，1990年的數(shù)據(jù)：吃掉的糧食30億公斤，咬毀300萬畝森林和3億畝草原，咬傷至少10萬人；在東海讓海軍的艦載導彈發(fā)...
發(fā)布時間: 2013 - 11 - 29
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華林科納FPD設備項目負責人—李豐博士表示，華林科納已經具備了FPD設備與工藝整線配套能力，并與國內某知名企業(yè)簽定戰(zhàn)略合作協(xié)議。近兩年，項目組在平板顯示行業(yè)光電方面進行了顯示方案、光電控制、光電測量、光學鍍膜、光學膠合、器件產品、工藝工裝、工程試驗等產業(yè)化研究，掌握了其核心技術，并取得多項相關專利，其中包括大尺寸LED背光模組和新型彩色濾光片，這兩個器件模組是液晶顯示面板部件及材料成本的60%左右。華林科納愿做FPD顯示設備國產化的領路人，不斷創(chuàng)新，積極進取，為客戶提供一流的設備，先進的工藝和完善的服務。
發(fā)布時間: 2013 - 11 - 29
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蘇州華林科納半導體技術設備有限公司（簡稱CSE），坐落于蘇州工業(yè)園區(qū)，公司主要從事半導體、平板顯示、太陽能光伏領域濕法制程設備的研發(fā)、生產與銷售，產品性能居國際先進水平。公司以打造擁有獨立自主知識產權的民族高科技企業(yè)為已任，以創(chuàng)建國際一流企業(yè)為愿景?，F(xiàn)擁有南通研發(fā)生產制造基地及待建二期15300多平米制造基地。CSE擁有10多位技術研發(fā)人員、20多名機械設計人員以及10余名售后人員組成的高素質專業(yè)團隊。作為國內高端濕法制程設備供應商，我們嚴格按照國際質量管理體系標準進行全員、全方位、全過程的運作，并于2008年通過了ISO9001：2000質量體系認證。CSE注重持續(xù)創(chuàng)新和技術改進，目前已成功申請十幾項國家科研專利。作為一家快速崛起的電子設備制造商，CSE公司依托本地化的制造基礎和便捷服務、國際化的經營理念和人才團隊、先進的工藝試驗條件和暢通的零部件供應渠道，使CSE核心競爭力不斷加強。
發(fā)布時間: 2013 - 11 - 29
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—來自華林科納 網絡部刻蝕的目的是把經曝光、顯影后光刻膠微圖形中下層材料的裸露部分去掉，即在下層材料上重現(xiàn)與光刻膠相同的圖形?？涛g方法分為：干法刻蝕和濕法刻蝕，干法刻蝕是以等離子體進行薄膜刻蝕的技術，一般是借助等離子體中產生的粒子轟擊刻蝕區(qū)，它是各向異性的刻蝕技術，即在被刻蝕的區(qū)域內，各個方向上的刻蝕速度不同，通常Si3N4、多晶硅、金屬以及合金材料采用干法刻蝕技術；濕法刻蝕是將被刻蝕材料浸泡在腐蝕液內進行腐蝕的技術，這是各向同性的刻蝕方法，利用化學反應過程去除待刻蝕區(qū)域的薄膜材料，通常SiO2采用濕法刻蝕技術，有時金屬鋁也采用濕法刻蝕技術，國內的蘇州華林科納在濕法這塊做得比較好。下面分別介紹各種薄膜的腐蝕方法流程：二氧化硅腐蝕：在二氧化硅硅片腐蝕機中進行，現(xiàn)在國內該設備（腐蝕機）做的比較好的是蘇州華林科納，它通過與國際上知名公司的廣泛合作，目前已形成濕法清洗系統(tǒng) 刻蝕系統(tǒng)CDS系統(tǒng) 尾氣處理系統(tǒng)的四大系列數(shù)十種型號的產品，腐蝕液是由HF、NH4F、與H2O按一定比例配成的緩沖溶液。腐蝕溫度一定時，腐蝕速率取決于腐蝕液的配比和SiO2摻雜情況。摻磷濃度越高，腐蝕越快，摻硼則相反。SiO2腐蝕速率對溫度最敏感，溫度越高，腐蝕越快。具體步驟為：1、將裝有待腐蝕硅片的片架放入浸潤劑（FUJI FILM DRIWEL）中浸泡10—15S，上下晃動，浸潤劑（FUJI FILM DRIWEL）...
發(fā)布時間: 2016 - 06 - 27
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